一种用于检定两光栅平行性的装置

    公开(公告)号:CN116558447A

    公开(公告)日:2023-08-08

    申请号:CN202310592305.5

    申请日:2023-05-24

    Abstract: 本发明为一种用于检定两光栅平行性的装置,包括同光轴布置的第一光栅、第二光栅、激光器、小孔光阑、半透半反棱镜、五角棱镜和观察屏,所述装置包括调节栅面平行和调节栅线平行两部分,利用第一光栅和第二光栅的镜面反射,通过调节第一光栅和第二光栅的偏摆角度,使照射在观察屏上的两束光斑在处于同一水平直线,实现两光栅栅面平行调整,利用第一光栅和第二光栅的衍射效应,通过调节第一光栅和第二光栅的绕水平方向旋转的旋转角度,使照射在观察屏上的两束光斑在处于同一竖直方向直线,实现两光栅栅线平行调整。本发明结构简单,原理易懂,便于操作实现。

    一种基于激光椭偏系统的薄膜厚度测量装置及测量方法

    公开(公告)号:CN115112028A

    公开(公告)日:2022-09-27

    申请号:CN202210957257.0

    申请日:2022-08-10

    Abstract: 本发明为一种基于激光椭偏系统的薄膜厚度测量装置及测量方法,属于纳米薄膜厚度的光学测量领域。本发明装置依次为激光光源、滤光轮、光隔离器、反射镜组、起偏调制模块、样品台、检测调制模块和信号采集处理模块;所述激光光源发出激光光束,激光光束依次经所述滤光轮、光隔离器和反射镜组后以入射角θ输出进入起偏调制模块,形成调制偏振光入射到样品台上的待测样品后反射进入检偏调制模块进行偏振态调制,最后进入信号采集处理模块被所述硅探测器接收;所述信号采集单元将所述硅探测器接收到的光强信号转换为数字信号,并进行数据处理。

    一种基于激光椭偏系统的薄膜厚度测量装置

    公开(公告)号:CN217716312U

    公开(公告)日:2022-11-01

    申请号:CN202222097838.X

    申请日:2022-08-10

    Abstract: 本实用新型为一种基于激光椭偏系统的薄膜厚度测量装置,属于纳米薄膜厚度的光学测量领域。本实用新型装置包括激光光源、滤光轮、光隔离器、反射镜组、起偏调制模块、样品台、检测调制模块和信号采集处理模块;所述激光光源发出激光光束,激光光束依次经所述滤光轮、光隔离器和反射镜组后以入射角θ输出进入起偏调制模块,形成调制偏振光入射到样品台上的待测样品后反射进入检偏调制模块进行偏振态调制,最后进入信号采集处理模块被所述硅探测器接收;所述信号采集单元将所述硅探测器接收到的光强信号转换为数字信号,并进行数据处理。

    一种多自由度自定心光学镜片夹持支架

    公开(公告)号:CN220348215U

    公开(公告)日:2024-01-16

    申请号:CN202322015023.7

    申请日:2023-07-28

    Abstract: 本实用新型为一种多自由度自定心光学镜片夹持支架,包括设于底座上的伸缩杆、与伸缩杆顶部固定连接的外圈、设于外圈内侧的中圈和设于中圈内侧的内圈,通过伸缩杆实现镜片高度调节和左右转动角度调节,通过中圈相对外圈的翻转活动实现镜片俯仰角度调节,通过带自定心夹持功能的内圈相对中圈的环面旋转实现镜片的自定心及径向旋转角度调节,从而在光学检测中实现了对不同尺寸的光学镜片的自定心夹持工作并可对其进行多自由度调节的功能,且结构简单,定位精准度高,同时能够实现不同尺寸的镜片夹持。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利

    一种用于检定两光栅平行性的装置

    公开(公告)号:CN220153527U

    公开(公告)日:2023-12-08

    申请号:CN202321274140.9

    申请日:2023-05-24

    Abstract: 本实用新型为一种用于检定两光栅平行性的装置,包括同光轴布置的第一光栅、第二光栅、激光器、小孔光阑、半透半反棱镜、五角棱镜和观察屏,所述装置包括调节栅面平行和调节栅线平行两部分,利用第一光栅和第二光栅的镜面反射,通过调节第一光栅和第二光栅的偏摆角度,使照射在观察屏上的两束光斑在处于同一水平直线,实现两光栅栅面平行调整,利用第一光栅和第二光栅的衍射效应,通过调节第一光栅和第二光栅的绕水平方向旋转的旋转角度,使照射在观察屏上的两束光斑在处于同一竖直方向直线,实现两光栅栅线平行调整。本实用新型结构简单,原理易懂,便于操作实现。

    一种基于光栅干涉式测量的纳米位移台校准装置

    公开(公告)号:CN220556313U

    公开(公告)日:2024-03-05

    申请号:CN202322300207.8

    申请日:2023-08-25

    Abstract: 本实用新型为一种基于光栅干涉式测量的纳米位移台校准装置,包括准直光源、置于所述准直光源光路上的光电探测模块、与所述光电探测模块位置对应的待校准的纳米位移台、置于所述待校准的纳米位移台上的光栅、与所述光电探测模块电路连接的信号处理系统以及与所述待校准的纳米位移台电路连接的位移台驱动系统,所述位移台驱动系统驱动待校准的纳米位移台带动光栅同步运动,所述的光电探测模块设有用于采集干涉信号的光电探测器,所述光电探测器采集的干涉信号转化为电流信号传输至信号处理系统,由信号处理系统对干涉信号进行数据处理,获得光栅和待校准的纳米位移台的位移信息。

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