一种基于光栅干涉式测量的纳米位移台校准装置

    公开(公告)号:CN220556313U

    公开(公告)日:2024-03-05

    申请号:CN202322300207.8

    申请日:2023-08-25

    Abstract: 本实用新型为一种基于光栅干涉式测量的纳米位移台校准装置,包括准直光源、置于所述准直光源光路上的光电探测模块、与所述光电探测模块位置对应的待校准的纳米位移台、置于所述待校准的纳米位移台上的光栅、与所述光电探测模块电路连接的信号处理系统以及与所述待校准的纳米位移台电路连接的位移台驱动系统,所述位移台驱动系统驱动待校准的纳米位移台带动光栅同步运动,所述的光电探测模块设有用于采集干涉信号的光电探测器,所述光电探测器采集的干涉信号转化为电流信号传输至信号处理系统,由信号处理系统对干涉信号进行数据处理,获得光栅和待校准的纳米位移台的位移信息。

    一种背对式两光栅相互平行的调节装置

    公开(公告)号:CN219936177U

    公开(公告)日:2023-10-31

    申请号:CN202321273857.1

    申请日:2023-05-24

    Abstract: 本实用新型为一种背对式两光栅相互平行的调节装置,用于实现两光栅栅面平行和两光栅栅线平行的调节,包括第一光栅A、第二光栅B、红光光源、接收屏、光栅安装板、小孔光阑、准直光源、分别设于光栅四个角的螺纹结构和用于光栅与光栅安装板连接安装的伸缩式卡槽旋转机构,通过调节分设于光栅安装板正反两面的第一光栅A和第二光栅B分别与同一水平准直光源垂直来实现两光栅的栅面平行调节,通过红光光源发射光线,由接收屏分次显示两光栅形成的衍射图样,并对两个或以上的衍射光斑分别标记后连线,调节第一光栅A使其标记连线与第二光栅B的标记连线平行,完成两光栅的栅线平行调节。

    一种可循迹多尺寸纳米膜厚标准样板

    公开(公告)号:CN216791112U

    公开(公告)日:2022-06-21

    申请号:CN202120786964.9

    申请日:2021-04-17

    Abstract: 本实用新型为一种可循迹多尺寸纳米膜厚标准样板,其特征在于:所述的纳米膜厚标准样板包括设于基底上的第一测量工作区域和第二测量工作区域两个工作区域,所述的第一测量工作区域设有小光斑光源测量工作中心圆,所述的第二测量工作区域设有大光斑光源测量工作中心圆,所述的小光斑光源测量工作中心圆外周设有若干指向小光斑光源测量工作中心圆的小光斑光源工作区域循迹标识,所述大光斑光源测量工作中心圆外周设有若干指向大光斑光源测量工作中心圆的大光斑光源工作区域循迹标识。本实用新型能够满足测量中不同光斑大小的测量需求,完善了半导体行业不同类型仪器的量值统一方式,使测量结构能被快速、准确地定位和测量,大大提高了测量效率。

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