光致抗蚀剂组合物及用该组合物形成图案的方法

    公开(公告)号:CN1432872A

    公开(公告)日:2003-07-30

    申请号:CN02150451.2

    申请日:2002-11-12

    CPC classification number: G03F7/0236 G03F7/0226 G03F7/40

    Abstract: 本发明公开一种具有良好灵敏度和余层特性的光致抗蚀剂组合物和用该组合物形成图案的方法。该光致抗蚀剂组合物包括约5%重量至约30%重量的聚合树脂、约2%重量至约10%重量的光敏化合物、约0.1%至约10%重量的灵敏度提高剂、约0.1%重量至约10%重量的灵敏度抑制剂和约60%重量至约90%重量的有机溶剂。在基板上涂覆光致抗蚀剂组合物,然后干燥涂覆的光致抗蚀剂组合物,形成光致抗蚀剂层。然后,通过使用具有预定形状的掩模使所述光致抗蚀剂层曝光。接下来,通过使曝光的光致抗蚀剂层显影而形成光致抗蚀剂图案。光致抗蚀剂图案具有均匀的涂层厚度和临界尺寸。

    计算装置和处理器实现的方法
    22.
    发明公开

    公开(公告)号:CN114168311A

    公开(公告)日:2022-03-11

    申请号:CN202110543680.1

    申请日:2021-05-19

    Abstract: 公开了一种计算装置和处理器实现的方法。所述计算装置包括:多个处理核;和区块调度器,被配置为:基于先前分配给所述多个处理核的第一区块中的每个的元信息和每个第二区块的元信息,更新所述多个处理核中的每个的成本矩阵,并且使用所述多个处理核中的每个的更新的成本矩阵将第二区块分配给所述多个处理核。

    用于提供翻译服务的方法及其电子装置

    公开(公告)号:CN108369585A

    公开(公告)日:2018-08-03

    申请号:CN201680070195.4

    申请日:2016-11-29

    Inventor: 金学中 李承昱

    CPC classification number: G06F17/28 G06F17/30

    Abstract: 根据本发明的一个实施例,一种用于通过使用电子装置提供翻译服务的方法可包括以下步骤:接收用第一语言编写的原始文本;在显示器的第一区域中显示原始文本;产生通过将原始文本翻译成第二语言而创建的译文;从译文提取关键字;在显示器的第二区域中显示译文;如果关键字从译文中被选择,则在显示器的第三区域中显示与关键字有关的内容。此外,其他示例也是可行的。

    用于处理单元的动态资源分配的方法和设备

    公开(公告)号:CN103124957B

    公开(公告)日:2017-09-08

    申请号:CN201180046468.9

    申请日:2011-09-26

    CPC classification number: G06F9/5066 G06F2209/5017

    Abstract: 公开了一种用于具有至少一个处理单元的系统中的动态资源分配的方法和设备。所述动态资源分配的方法包括:接收关于资源要被分配到的任务的信息,并且将所述任务划分为一个或多个并行任务单元;将所述一个或多个并行任务单元转换为任务块,所述任务块具有根据所述并行任务单元的预计的执行时间和在所述并行任务单元之间的依赖性的形状;通过将所述任务块布置在具有时间的水平轴和处理单元的垂直轴的资源分配平面上来向所述任务块分配资源;以及,根据资源分配信息来执行所述任务。因此,可以同时并行地使用在系统中的CPU资源和GPU资源,这提高了整体系统效率。

    光致抗蚀剂组合物及用该组合物形成图案的方法

    公开(公告)号:CN1296772C

    公开(公告)日:2007-01-24

    申请号:CN02150451.2

    申请日:2002-11-12

    CPC classification number: G03F7/0236 G03F7/0226 G03F7/40

    Abstract: 本发明公开一种具有良好灵敏度和余层特性的光致抗蚀剂组合物和用该组合物形成图案的方法。该光致抗蚀剂组合物包括约5%重量至约30%重量的聚合树脂、约2%重量至约10%重量的光敏化合物、约0.1%至约10%重量的灵敏度提高剂、约0.1%重量至约10%重量的灵敏度抑制剂和约60%重量至约90%重量的有机溶剂。在基板上涂覆光致抗蚀剂组合物,然后干燥涂覆的光致抗蚀剂组合物,形成光致抗蚀剂层。然后,通过使用具有预定形状的掩模使所述光致抗蚀剂层曝光。接下来,通过使曝光的光致抗蚀剂层显影而形成光致抗蚀剂图案。光致抗蚀剂图案具有均匀的涂层厚度和临界尺寸。

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