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公开(公告)号：CN108949106B
公开(公告)日：2020-12-01
申请号：CN201810647960.5
申请日：2018-06-19
Applicant: 郑州磨料磨具磨削研究所有限公司
IPC: C09K3/14
Abstract: 本发明涉及一种磁性磨料及其制备方法，属于磨料技术领域。本发明的磁性磨料包括以下重量份数的组分：磨料成形剂1～15份，磁性材料0.1～20份，磨料颗粒0.1～10份，金属盐0.3～15份；所述金属盐为钠、钾、钙、铝、铜、铁、铅、锌、钡或镍的水溶性盐。本发明的磁性磨料中除了添加有磁性材料、磨料颗粒及成形剂之外，还加入了金属盐，金属盐有利于防止磁性磨料颗粒之间相互粘连而导致磁性磨料颗粒发生形变。
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公开(公告)号：CN115926747A
公开(公告)日：2023-04-07
申请号：CN202211571493.5
申请日：2022-12-08
Applicant: 郑州磨料磨具磨削研究所有限公司
IPC: C09K3/14 , C09G1/02 , H01L21/304
Abstract: 本发明涉及一种浓缩型水性研磨助剂，其由以下重量份数的原料组成：去离子水30‑50份，复合型触变剂5‑10份，乳液稳定剂5‑10份，润滑剂20‑30份，杀菌剂1‑5份，消泡剂1‑5份。将本发明浓缩型水性研磨助剂应用于碳化硅、氮化镓晶圆研磨加工，可大大降低直接使用金刚石研磨液成品的加工成本；同时可对金刚石磨料颗粒进行快速分散悬浮，并形成具有触变特性的稳定悬浮液。润滑剂在使用过程中可以有效降低研磨过程中的摩擦阻力，增加润滑性，有效改善研磨表面质量，并大大缩短后道晶圆抛光时间。
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公开(公告)号：CN115725242A
公开(公告)日：2023-03-03
申请号：CN202211577200.4
申请日：2022-12-09
Applicant: 郑州磨料磨具磨削研究所有限公司
Abstract: 本发明涉及一种高效低损伤金刚石研磨液，由以下重量份数的原料组成：金刚石微粉0.5‑15份；反应型增稠剂1‑10份；减粘流平剂0.1‑5份；润滑剂1‑20份；消泡剂0.001‑0.1份；水：10‑90份。该金刚石研磨液用于双面研磨时，可均匀分布于硬质研磨盘面，无返稀或分布缺失问题发生，可减少划伤产生，避免局部温度过高造成几何参数失控；同时其增稠减粘特性，在形成软性缓冲层保障效率抑制划伤的同时，也可实现研磨液的及时更新，稳定研磨加工性能。
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公开(公告)号：CN115096943A
公开(公告)日：2022-09-23
申请号：CN202210708047.8
申请日：2022-06-21
Applicant: 郑州磨料磨具磨削研究所有限公司
IPC: G01N27/00
Abstract: 本发明提出了一种流体磨具均匀性的无损检测装置及测试方法，分别抽取样品中最大组分原料为xmax样品与最小组分原料为xmin样品，依据xmax样品与xmin样品的检测值计算得到相对标准偏差，随后利用绝对均匀状态与50%不均匀状态下两特征点进行线性回归求出均匀性系数，依次抽取n个被检测产品样品，根据检测结果相对标准偏差Sr与均匀性Hg，实现对产品均匀性的评估。本发明大大提升了检测设备的智能化程度与检测效率，降低了检测人员的工作量，保障产品质量均匀性，为其加工均匀稳定性保驾护航，提升客户工件品质，减少返工返修和报废，在检测过程中实现了样品的无损检测，保证检测后的样本可继续使用，降低了检测成本。
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公开(公告)号：CN105199610B
公开(公告)日：2017-12-19
申请号：CN201510670609.4
申请日：2015-10-16
Applicant: 郑州磨料磨具磨削研究所有限公司
IPC: C09G1/02
Abstract: 本发明属于一种蓝宝石抛光组合物及其制备方法，所述蓝宝石抛光组合物由下述重量百分含量的原料组成：纳米二氧化硅20%~40%、碱性化合物1%~10%、分散剂0.1%~3%、表面活性剂0.1%~3%、腐蚀抑制剂0.001%~1%、余量为去离子水。本发明通过加入腐蚀抑制剂减少了在高温高压下抛光组合物对蓝宝石晶片的过度腐蚀，使表面不产生麻点和橘皮等过度腐蚀的缺陷，同时引入和腐蚀抑制剂协同作用的表面活性剂，增加抛光组合物的腐蚀选择性，让抛光组合物均匀作用在蓝宝石晶片的表面，实现了在高效抛光的同时得以保证完好的表面质量。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN105111941B
公开(公告)日：2017-08-01
申请号：CN201510573376.6
申请日：2015-09-10
Applicant: 郑州磨料磨具磨削研究所有限公司
IPC: H01L21/312
Abstract: 本发明涉及一种微结晶蓝宝石抛光液的制备方法，该抛光液由下述重量百分比的原料组成：纳米二氧化硅20－40%；碱性化合物1－10%；分散剂0.1－3%；表面活性剂0.1－3%；保湿成分0.1－3%；吸湿成分0.1－5%；余量为去离子水；具体包括如下步骤：取纳米二氧化硅均匀分散在一定量的去离子水中，然后加入碱性化合物，混匀后加入分散剂和表面活性剂，再次混匀以形成稳定的胶体体系，最后再加入保湿成分、吸湿成分及余量的去离子水，混合均匀即得微结晶蓝宝石抛光液。本发明抛光液不易凝结在机台上，同时不易风干在蓝宝石晶片表面，降低了后期清洗工艺的难度，提高了生产效率。
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公开(公告)号：CN119842323A
公开(公告)日：2025-04-18
申请号：CN202411857052.0
申请日：2024-12-17
Applicant: 郑州磨料磨具磨削研究所有限公司
Abstract: 本发明涉及一种用于获得高质量SiC单晶衬底表面的CMP组合物，其由下述重量百分比的原料制成：抛光磨料20‑50 wt%，氧化剂3‑5 wt%，表面活性剂0.1‑0.5 wt%，氢键调节剂0.2‑0.5 wt%，抛光促进剂0.2‑1 wt%，消泡剂0.01‑0.05wt%，余量为水；所述CMP组合物呈中性。该CMP组合物采用氧化硅作为磨料，引入氢键调节剂、抛光促进剂和氧化剂，提升碳化硅晶圆CMP抛光速率，实现清洗后硅面表面粗糙度Ra可达0.07nm以下，清洗后表面无大颗粒（＞0.2um），同时无需对氧化硅原料进行处理，具有优异的长期储存稳定性，并且体系随着储存时间的延长不会出现颗粒团聚和沉降现象，在后续抛光过程中能够获得优异的抛光表面质量。
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公开(公告)号：CN115926747B
公开(公告)日：2024-05-28
申请号：CN202211571493.5
申请日：2022-12-08
Applicant: 郑州磨料磨具磨削研究所有限公司
IPC: C09K3/14 , C09G1/02 , H01L21/304
Abstract: 本发明涉及一种浓缩型水性研磨助剂，其由以下重量份数的原料组成：去离子水30‑50份，复合型触变剂5‑10份，乳液稳定剂5‑10份，润滑剂20‑30份，杀菌剂1‑5份，消泡剂1‑5份。将本发明浓缩型水性研磨助剂应用于碳化硅、氮化镓晶圆研磨加工，可大大降低直接使用金刚石研磨液成品的加工成本；同时可对金刚石磨料颗粒进行快速分散悬浮，并形成具有触变特性的稳定悬浮液。润滑剂在使用过程中可以有效降低研磨过程中的摩擦阻力，增加润滑性，有效改善研磨表面质量，并大大缩短后道晶圆抛光时间。
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公开(公告)号：CN117186839A
公开(公告)日：2023-12-08
申请号：CN202311024548.5
申请日：2023-08-15
Applicant: 郑州磨料磨具磨削研究所有限公司
IPC: C09K3/14 , B01F27/112 , B01F27/192 , B01F27/90 , C09G1/02
Abstract: 本发明涉及一种高粘度研磨液稳定化生产工艺，其包括如下步骤：S1.将高粘度助剂进行溶胀、溶解、活化、真空脱泡预处理，获得浓度≤5%的高粘度助剂溶液，备用；S2.将部分溶剂与全部磨料混合，超声分散，形成分散液；S3.向分散液中加入乳化剂、消泡剂，并补足剩余的溶剂，匀化1‑10min；S4.加入步骤S1预处理后获得的高粘助剂溶液，匀化1‑30min，即得。采用本发明高粘度研磨液稳定化生产工艺及匀化装置，可有效降低批次间的粘度差异，以及长时间放置时的粘度波动。
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公开(公告)号：CN115746789A
公开(公告)日：2023-03-07
申请号：CN202211588554.9
申请日：2022-12-12
Applicant: 郑州磨料磨具磨削研究所有限公司
Abstract: 本发明涉及一种稳定全悬浮研磨用金刚石研磨液，其由下述重量份数的原料组成：金刚石微粉0.5‑15份，密度调节剂1‑50份，悬浮剂0.01‑10份，流动性调节剂0.1‑5份，粘度调节剂0.1‑5份，润滑剂1‑50份，消泡剂0.0001‑0.5份，水10‑90份。相较于现有的半悬浮或无悬浮状态的研磨液，本发明产品具有更好的产品品质观感；将其应用于研磨加工时性能稳定，有更好的加工效率和加工表面质量；应用于研磨抛光液的批量化生产时，无沉降聚集造成灌装不均的隐忧，可实现批量化稳定生产。
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