公开(公告)号：CN117594406A

公开(公告)日：2024-02-23

申请号：CN202310532831.2

申请日：2023-05-11

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 张爱仙 ,  李贞焕 ,  裵珉槿

IPC: H01J37/32 ,  H01L21/67

Abstract: 本公开涉及一种控制等离子体处理装置的方法、以及用于执行该方法的等离子体处理装置。根据本公开的一个实施例，一种控制等离子体处理装置的方法包括：从高频电源向下电极供应具有正弦波的电力以产生等离子体；以及从高频电源向下电极供应电力，以控制所产生的等离子体中的离子，并且当设置在下电极上的晶片的电压在相位区域中具有负峰值时，通过DC电源将负DC电压输入到聚焦环。

公开(公告)号：CN114446756A

公开(公告)日：2022-05-06

申请号：CN202111313478.6

申请日：2021-11-08

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 李贞焕 ,  李承杓

IPC: H01J37/32

Abstract: 一种基板处理装置，包括：腔室，所述腔室具有处理空间；第一电源，所述第一电源连接至设置在所述处理空间中的第一部件且向所述第一部件传输具有第一频率的功率；第二电源，所述第二电源设置在所述处理空间中，连接至不同于所述第一部件的第二部件，并且向所述第二部件传输具有小于所述第一频率的第二频率的功率；及耦合阻挡结构，所述耦合阻挡结构安装在连接至所述第二电源及所述第二部件的电力线上，其中所述耦合阻挡结构电连接至所述电力线且包括具有线圈形状的导线。

公开(公告)号：CN108807122B

公开(公告)日：2021-05-14

申请号：CN201810383774.5

申请日：2018-04-26

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： H·梅里克延 ,  O·噶尔斯特延 ,  李贞焕 ,  安宗奂 ,  南信祐

IPC: H01J37/32 ,  H01L21/67

Abstract: 所公开的发明为供电装置和包括该供电装置的基板处理装置。所述供电装置包括高频电源，其提供高频功率；等离子体源，其包括通过使用所述高频功率产生等离子体的第一天线和第二天线；以及功率分配器，其连接在所述高频电源和所述等离子体源之间，用于分配供应给所述第一天线和所述第二天线的所述高频功率。所述功率分配器包括第一可变器件，其控制供应给所述第一天线和所述第二天线的所述高频功率；以及第二可变器件，其对供应给所述第一天线和所述第二天线的所述高频功率的非线性进行补偿。

公开(公告)号：CN108695132A

公开(公告)日：2018-10-23

申请号：CN201810257607.6

申请日：2018-03-27

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 奥格森·加尔斯强 ,  李贞焕 ,  安宗奂 ,  南信祐

IPC: H01J37/32

CPC classification number: H01J37/32651 ,  H01F27/28 ,  H01J37/3211 ,  H01J37/3244 ,  H01J37/32642 ,  H01J2237/334 ,  H01L21/67069 ,  H01J37/32669

Abstract: 公开了等离子体生成单元和包括其的基板处理装置。基板处理装置包括：处理室，该处理室在其内部具有处理空间；基板支撑单元，其构造为支撑处理空间中的基板；气体供给单元，其构造为将处理气体供给到处理空间；以及等离子体生成单元，其布置在处理室的外部并且构造为使处理室中的处理气体生成等离子体，其中等离子体生成单元包括：天线单元，其包括构造为使处理气体生成等离子体的多个天线线圈；以及磁结构，其包括布置在多个天线线圈之间的磁壁，其中天线单元包括具有环形形状的第一天线线圈，以及布置在第一天线线圈外侧且具有环形形状的第二天线线圈。