公开(公告)号：CN112172343A

公开(公告)日：2021-01-05

申请号：CN202010608608.8

申请日：2020-06-29

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 姜汉林 ,  张润玉 ,  李俊硕 ,  李炫玟

IPC: B41J2/01

Abstract: 本记载的液滴喷出装置包括：喷头，将墨向基板的各个像素区域喷出；激光单元，结合于所述喷头，将对准从所述喷头被喷出液滴的地点的对准用激光向各个所述像素区域照射；摄像单元，在所述基板拍摄被照射对准用激光的部分；以及位置排列单元，基于所述摄像单元中获取的图像数据而排列所述喷头的位置。

公开(公告)号：CN119905421A

公开(公告)日：2025-04-29

申请号：CN202411000077.9

申请日：2024-07-24

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 安迎曙 ,  朴相万 ,  姜汉林 ,  金仁会 ,  崔伦硕 ,  魏成硕 ,  姜泰熏

IPC: H01L21/67 ,  H01J37/32

Abstract: 公开了一种基板处理装置和一种基板处理方法。该基板处理装置包括：腔室，该腔室包括在其内部限定的处理空间；基板支撑单元，该基板支撑单元被配置为在处理空间中支撑基板；微波单元，该微波单元被配置为向处理空间供应微波；窗口构件，该窗口构件布置在微波单元下方并且被配置为传输从微波单元供应的微波；传热板，该传热板布置在处理空间中以与窗口构件间隔开预定距离，并且被配置为由供应到处理空间的微波进行加热并且将热传递到基板；以及控制器，该控制器被配置为控制微波单元。

公开(公告)号：CN117059464A

公开(公告)日：2023-11-14

申请号：CN202310487686.0

申请日：2023-04-28

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 李相政 ,  奉允根 ,  崔伦硕 ,  辛在原 ,  姜汉林 ,  朴钟源 ,  曹玹玗 ,  张径熏

IPC: H01J37/32

Abstract: 提供一种基板处理设备，包括:具有处理空间的腔室、布置在所述腔室的上部并且配置以覆盖所述腔室的上表面的介质窗、以及布置在所述介质窗上并且配置以用于提供射频功率以从所述处理空间中的气体产生等离子体的射频源。其中，所述射频源包括设置在所述介质窗上的射频电极和设置在所述射频电极上的射频板，所述介质窗包括从所述介质窗的最上表面垂直向下延伸的凹槽，且所述射频板呈环形。

公开(公告)号：CN114590034B

公开(公告)日：2023-09-29

申请号：CN202111515867.7

申请日：2021-12-01

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 郑娜玧 ,  姜汉林

IPC: B41J2/18 ,  B41J2/195 ,  H01L21/67

Abstract: 本发明提供通过测量墨粒子的沉降速度来分离正常墨和不良墨的墨分离装置及具有该装置的基板处理系统。所述墨分离装置包括：沉降速度测量部，测量向喷墨头单元供应的墨溶液的沉降速度；以及控制单元，基于墨溶液的沉降速度，将墨溶液判断为正常墨和不良墨中的任一种，其中，如果墨溶液被判断为正常墨，则将墨供应到喷墨头单元，如果墨溶液被判断为不良墨，则废弃墨。