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公开(公告)号：CN1891850A
公开(公告)日：2007-01-10
申请号：CN200610100547.4
申请日：2006-07-03
Applicant: 精工爱普生株式会社
Inventor： 清水雄一
CPC classification number: C23C14/044 , C23C14/225 , C23C14/24 , C23C14/246
Abstract: 本发明的目的在于提高真空蒸镀装置的生产率。真空蒸镀装置10具备靶室100、处理室200和飞行室300。各个室彼此独立地能够维持真空地构成，且从靶110产生的蒸发物质110a，通过各个室内的空间，而蒸镀到在处理室200内由夹具900可转动地保持着的基板210上。这时，利用形成有狭缝部221的遮蔽板220限制蒸发物质110a向基板210的到达。狭缝部221，具有与因夹具900转动而产生的基板210上的角速度的差异相对应、越是与角速度大的区域对应的位置就越大的开口面积，从而可以良好地控制蒸镀膜的膜特性。
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公开(公告)号：CN1287214C
公开(公告)日：2006-11-29
申请号：CN200310103082.4
申请日：2003-10-30
Applicant: 精工爱普生株式会社
IPC: G02F1/1362 , H01L29/786
CPC classification number: G02F1/136209 , G02F1/136213 , G02F1/167
Abstract: 一种电光装置，其具备：在基板上沿第1方向延伸的数据线；沿与上述数据线交叉的第2方向延伸的扫描线；与上述数据线和上述扫描线的交叉区域对应那样设置的像素电极和薄膜晶体管；在比上述薄膜晶体管的半导体层更上层并且比上述像素电极更下层形成的、与像素电位电连接的存储电容；以及被配置在上述数据线和上述像素电极之间的上侧遮光膜；其中，上述上侧遮光膜规定像素开口区域的至少角部；上述扫描线和上述数据线以及上述存储电容被形成于遮光区域。
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公开(公告)号：CN105223738B
公开(公告)日：2020-08-11
申请号：CN201510385854.0
申请日：2015-06-30
Applicant: 精工爱普生株式会社
IPC: G02F1/1339
Abstract: 本发明提供能够使防湿性提高的电光装置和电子设备。具有元件基板(10)；和以与元件基板(10)介由密封件(14)而相对的方式配置的相对基板(20)，配置为从元件基板(10)以及相对基板(20)的侧面(10b、20b)到密封件(14)的长度(L)相对于元件基板(10)与相对基板(20)的间隔的长度(H)之比为50以上且300以下，以覆盖密封件(14)以及元件基板(10)和相对基板(20)的至少一部分侧面(10b、20b)的方式设置有阻挡膜(41)。
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公开(公告)号：CN1499274B
公开(公告)日：2010-06-23
申请号：CN200310103086.2
申请日：2003-10-30
Applicant: 精工爱普生株式会社
IPC: G02F1/136 , H01L29/786
CPC classification number: G02F1/1362 , G02F2001/136218
Abstract: 一种电光装置，该电光装置包括在基板上沿第1方向延伸的数据线；沿与上述数据线交叉的第2方向延伸的扫描线；与上述数据线和上述扫描线的交叉区域对应那样配置的像素电极和薄膜晶体管；与上述薄膜晶体管和上述像素电极电连接的存储电容；以及在上述数据线和上述像素电极之间配置的屏蔽层。并且，在上述屏蔽层中包含氮化膜，该膜沿上述数据线并且比上述数据线更宽地形成。
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公开(公告)号：CN100409084C
公开(公告)日：2008-08-06
申请号：CN200510114326.8
申请日：2005-10-20
Applicant: 精工爱普生株式会社
Inventor： 清水雄一
IPC: G02F1/1337
CPC classification number: G02F1/133734
Abstract: 制造能够进行高质量的图像显示且能够实现长寿命化的电光装置，并且提高成品率。电光装置的制造方法，包括：第1工序，该工序在夹持电光物质的一对基板的至少一方的基板面上形成电极；第2工序，该工序将由无机材料构成的取向膜的基底膜，通过将无机材料的飞行方向相对于基板面所成的角度以使相对于该飞行方向电极的阴影不是总在1处产生的方式设定为1个或多个值进行第1PVD法而形成在电极的上层侧；以及第3工序，该工序将由无机材料构成的上述取向膜，通过将上述角度固定为与在第1PVD法设定的值不同的指定值或以与第1PVD法不同的成膜条件进行第2PVD法而形成在上述基底膜的上层侧。
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公开(公告)号：CN1763599A
公开(公告)日：2006-04-26
申请号：CN200510103081.9
申请日：2005-09-19
Applicant: 精工爱普生株式会社
Inventor： 清水雄一
IPC: G02F1/1333
CPC classification number: C23C14/226 , C23C14/0676 , C23C14/22 , Y10T428/1009
Abstract: 制造可以进行高品质的图像显示且使之长寿命化的电光装置，并且让成品率得到提高。电光装置的制造方法用来制造具备一对基板的电光装置，该一对基板用来夹持电光物质；其具备：在处理室内，在一对基板的至少一个基板中与电光物质相对的基板面上，通过将对基板面由无机材料的飞溅方向所成的角度固定成预定值，并实施PVD法，来形成由无机材料构成的取向膜的工序；在开始PVD法之后，将用来修复取向膜中的缺陷的至少1种修复气体，导入到处理室内的工序。
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公开(公告)号：CN1645193A
公开(公告)日：2005-07-27
申请号：CN200510002711.3
申请日：2005-01-19
Applicant: 精工爱普生株式会社
IPC: G02F1/133 , G02F1/136 , H01L29/786
CPC classification number: H01L29/78633 , G02F1/136209 , H01L23/552 , H01L27/14623 , H01L2924/0002 , H01L2924/00
Abstract: 把在基板上形成的遮光膜，设置为交替地配置不含氮的薄膜与含有氮的薄膜的多层薄膜结构。由于在遮光膜中形成含有氮的薄膜，所以因退火处理之际的热应变而发生的应力被含有氮的薄膜所吸收，因此可以防止对以遮光膜为起点的绝缘膜或半导体层的裂纹的发生。
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公开(公告)号：CN1499278A
公开(公告)日：2004-05-26
申请号：CN200310103082.4
申请日：2003-10-30
Applicant: 精工爱普生株式会社
IPC: G02F1/1362 , H01L29/786
CPC classification number: G02F1/136209 , G02F1/136213 , G02F1/167
Abstract: 一种电光装置，其具备：在基板上沿第1方向延伸的数据线；沿与上述数据线交叉的第2方向延伸的扫描线；与上述数据线和上述扫描线的交叉区域对应那样设置的像素电极和薄膜晶体管；在比上述薄膜晶体管的半导体层更上层并且比上述像素电极更下层形成的、与像素电位电连接的存储电容；以及被配置在上述数据线和上述像素电极之间的上侧遮光膜；其中，上述上侧遮光膜规定像素开口区域的至少角部；上述扫描线和上述数据线以及上述存储电容被形成于遮光区域。
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