一种测量微纳米金属互连线残余变形的方法

    公开(公告)号:CN101839699B

    公开(公告)日:2011-11-30

    申请号:CN201010178097.7

    申请日:2010-05-14

    Applicant: 清华大学

    Abstract: 一种测量微纳米金属互连线残余变形的方法,属于变形测量、光测力学领域。本发明在微纳米金属互连线表面通过聚焦离子束辐照制作散斑或利用聚焦离子束刻蚀单向光栅作为微纳米标记,之后通过聚焦离子束在微纳米标记区域刻蚀一条垂直于轴向的贯穿裂纹以释放轴向残余应力,分别采集裂纹刻蚀前后的微纳米标记图像,利用数字图像相关法计算微纳米金属互连线在裂纹附近由于残余应力释放引起的变形,即残余变形。该方法能原位制作微纳米标记、刻蚀裂纹、并采集图像,具有原位测量、定位准确、操作简单、非接触、数据处理方便、灵敏度高、测量精度高的优点。其中提出的聚焦离子束辐照法能快速制作散斑,工艺简单便捷。

    一种多灵敏度制栅云纹干涉仪

    公开(公告)号:CN101487695B

    公开(公告)日:2011-02-16

    申请号:CN200910119932.7

    申请日:2009-02-27

    Applicant: 清华大学

    Abstract: 一种多灵敏度制栅云纹干涉仪,属于光测力学、变形检测技术领域。本发明由激光器、分光耦合器、干涉光路系统、图像采集系统、加载及六维调节装置五大部分组成。集光栅制作与变形测量为一体,可制作可转移光栅模板,也可在试样表面制作零厚度试件栅,通过四光束云纹干涉光路可实现实时变形测量,且光栅频率和测量灵敏度均可按需要调节。光路系统采用光纤技术以消除散斑噪声对光栅、图形质量的影响,位移测量灵敏度达波长量级。此外,本发明还具有结构紧凑、使用方便、光路原理简单、可制作单向栅或正交栅、制作的光栅不易被污染、可对试件实现六个自由度的调节等优点。

    一种测量金属互连线力/电耦合作用下表面变形的方法

    公开(公告)号:CN101245992A

    公开(公告)日:2008-08-20

    申请号:CN200810102376.8

    申请日:2008-03-21

    Applicant: 清华大学

    Abstract: 一种测量金属互连线力/电耦合作用下表面变形的方法,属于变形检测、光测力学技术领域。本发明利用离子束刻蚀法或电子束刻蚀法在金属互连线表面制作光栅,通过力/电耦合加载系统进行加载,由光学显微镜及图像采集装置实时拍摄加载前及加载过程中的光栅图像,利用数字云纹法、小波变换及相移技术获得金属互连线表面的变形信息。该方法所制作的光栅质量高、频率形状可调,可对试样施加恒应力/变电流、恒电流/变应力、恒应力/恒电流疲劳等多种载荷,具有可实时原位测量、测量视场大、灵敏度高、无接触、操作简单、数据处理方便、及测量精度高的优点,对研究金属互连线的表面变形具有独特的优越性。

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