公开(公告)号：CN107546155B

公开(公告)日：2023-08-04

申请号：CN201710499862.7

申请日：2017-06-27

Applicant: 株式会社荏原制作所

Inventor： 前田幸次 ,  下元博 ,  山口都章 ,  青野弘 ,  八嶋哲也 ,  矶川英立 ,  新海健史 ,  稻叶充彦 ,  桥本幸一 ,  国泽淳次 ,  宫崎充 ,  丰增富士彦

IPC: H01L21/67

Abstract: 本发明提供一种可减轻更换不同种类的清洗模块的作业所造成的负担的清洗装置及基板处理装置。本发明采用包含下述构件的结构：多种清洗模块(31(31A、31B))，进行清洗处理；第1收纳部，可收纳多种清洗模块(31)；及流体供给部(60)，经由配管(63)对收纳于第1收纳部的清洗模块(31)供给流体；多种清洗模块(31)分别具备与配管(63)的连接位置共用的配管连接部(70)。

公开(公告)号：CN113474121B

公开(公告)日：2023-07-14

申请号：CN202080002181.5

申请日：2020-03-04

Applicant: 株式会社荏原制作所

Inventor： 山口都章 ,  下元博 ,  矶部壮一 ,  前田幸次 ,  新海健史 ,  矶川英立 ,  吉成大 ,  田村元成 ,  徐海洋 ,  江原俊 ,  浅野建太郎

IPC: B24B37/00 ,  B24B37/013 ,  B24B53/017 ,  H01L21/304

Abstract: 基板处理装置具备研磨部和搬送部。研磨部具有第一研磨单元和第二研磨单元以及研磨部搬送机构。第一研磨单元具有第一研磨装置和第二研磨装置。第二研磨单元具有第三研磨装置和第四研磨装置。第一～第四研磨装置分别具有：研磨台，该研磨台安装有研磨垫；顶环；辅助单元，该辅助单元对研磨中的研磨垫进行处理。在研磨台的周围设置有一对辅助单元安装部，该一对辅助单元安装部用于将辅助单元安装为相对于连结顶环的摆动中心与研磨台的旋转中心的直线能够左右切换，该一对辅助单元安装部设置在相对于所述直线左右对称的位置。

公开(公告)号：CN107564835B

公开(公告)日：2023-06-30

申请号：CN201710520934.1

申请日：2017-06-30

Applicant: 株式会社荏原制作所

Inventor： 青野弘 ,  山口都章 ,  下元博 ,  前田幸次 ,  八嶋哲也 ,  新海健史 ,  桥本幸一 ,  稻叶充彦 ,  矶川英立 ,  中尾秀高 ,  矶部壮一

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/677 ,  B24B37/34 ,  B24B37/04

Abstract: 基板处理装置，具备：研磨部，研磨部对基板进行研磨；搬运部，搬运部将研磨前的基板向所述研磨部搬运；以及清洗部，清洗部清洗研磨后的基板。清洗部具有上下两层配置的第一清洗单元及第二清洗单元。第一清洗单元及第二清洗单元分别具有直线排列地配置的多个清洗组件。搬运部配置于第一清洗单元与第二清洗单元之间，具有沿着多个清洗组件的排列方向搬运研磨前的基板的滑动载物台。

公开(公告)号：CN107564835A

公开(公告)日：2018-01-09

申请号：CN201710520934.1

申请日：2017-06-30

Applicant: 株式会社荏原制作所

Inventor： 青野弘 ,  山口都章 ,  下元博 ,  前田幸次 ,  八嶋哲也 ,  新海健史 ,  桥本幸一 ,  稻叶充彦 ,  矶川英立 ,  中尾秀高 ,  矶部壮一

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/677 ,  B24B37/34 ,  B24B37/04

CPC classification number: B24B37/345 ,  B08B1/003 ,  B08B1/04 ,  B08B3/123 ,  B24B37/10 ,  H01L21/67028 ,  H01L21/67173 ,  H01L21/67178 ,  H01L21/6719 ,  H01L21/67219 ,  H01L21/67742 ,  H01L21/67745 ,  H01L21/68707 ,  H01L21/68728

Abstract: 基板处理装置，具备：研磨部，研磨部对基板进行研磨；搬运部，搬运部将研磨前的基板向所述研磨部搬运；以及清洗部，清洗部清洗研磨后的基板。清洗部具有上下两层配置的第一清洗单元及第二清洗单元。第一清洗单元及第二清洗单元分别具有直线排列地配置的多个清洗组件。搬运部配置于第一清洗单元与第二清洗单元之间，具有沿着多个清洗组件的排列方向搬运研磨前的基板的滑动载物台。

公开(公告)号：CN103706499A

公开(公告)日：2014-04-09

申请号：CN201310461090.X

申请日：2013-09-30

Applicant: 株式会社荏原制作所

Inventor： 前田幸次 ,  下元博 ,  中野央二郎 ,  今井正芳 ,  盐川阳一

IPC: B05B7/00 ,  H01L21/30

CPC classification number: H01L21/67092 ,  B24B37/04 ,  B24B37/34 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/67219 ,  H01L21/67023

Abstract: 一种基板清洗装置，具有：保持基板(W)并使其旋转的基板保持部(1)；将药液供给到基板(W)上的药液喷嘴(11)；将双流体喷流供给到基板(W)上的双流体喷嘴(12)；以及使药液喷嘴(11)及双流体喷嘴(12)一体地从基板(W)的中心部向周缘部移动的移动机构(15,21,22)，药液喷嘴(11)及双流体喷嘴(12)隔开规定距离而相邻，关于药液喷嘴(11)及双流体喷嘴(12)的移动方向，药液喷嘴(11)位于双流体喷嘴(12)的前方。采用本发明，可高效地清洗晶片等基板。