公开(公告)号：CN116487302A

公开(公告)日：2023-07-25

申请号：CN202310668331.1

申请日：2017-06-30

Applicant: 株式会社荏原制作所

Inventor： 青野弘 ,  山口都章 ,  下元博 ,  前田幸次 ,  八嶋哲也 ,  新海健史 ,  桥本幸一 ,  稻叶充彦 ,  矶川英立 ,  中尾秀高 ,  矶部壮一

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/677 ,  B24B37/34 ,  B24B37/04

Abstract: 基板处理装置，具备：研磨部，研磨部对基板进行研磨；搬运部，搬运部将研磨前的基板向所述研磨部搬运；以及清洗部，清洗部清洗研磨后的基板。清洗部具有上下两层配置的第一清洗单元及第二清洗单元。第一清洗单元及第二清洗单元分别具有直线排列地配置的多个清洗组件。搬运部配置于第一清洗单元与第二清洗单元之间，具有沿着多个清洗组件的排列方向搬运研磨前的基板的滑动载物台。

公开(公告)号：CN107546155A

公开(公告)日：2018-01-05

申请号：CN201710499862.7

申请日：2017-06-27

Applicant: 株式会社荏原制作所

Inventor： 前田幸次 ,  下元博 ,  山口都章 ,  青野弘 ,  八嶋哲也 ,  矶川英立 ,  新海健史 ,  稻叶充彦 ,  桥本幸一 ,  国泽淳次 ,  宫崎充 ,  丰增富士彦

IPC: H01L21/67

CPC classification number: H01L21/02096 ,  H01L21/0201 ,  H01L21/02046 ,  H01L21/02068 ,  H01L21/02076 ,  H01L21/02085 ,  H01L21/02087 ,  H01L21/67017 ,  H01L21/67046 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/6719 ,  H01L21/67219

Abstract: 本发明提供一种可减轻更换不同种类的清洗模块的作业所造成的负担的清洗装置及基板处理装置。本发明采用包含下述构件的结构：多种清洗模块(31(31A、31B))，进行清洗处理；第1收纳部，可收纳多种清洗模块(31)；及流体供给部(60)，经由配管(63)对收纳于第1收纳部的清洗模块(31)供给流体；多种清洗模块(31)分别具备与配管(63)的连接位置共用的配管连接部(70)。

公开(公告)号：CN118213309A

公开(公告)日：2024-06-18

申请号：CN202410349319.9

申请日：2018-08-09

Applicant: 株式会社荏原制作所

Inventor： 前田幸次 ,  稻叶充彦 ,  徐海洋 ,  八嶋哲也

IPC: H01L21/677 ,  H01L21/67 ,  H01L21/306

Abstract: 基板处理装置具有配置为上下两层的第一处理单元及第二处理单元。第一处理单元及第二处理单元分别具有：多个处理槽，该多个处理槽串联排列；隔壁，该隔壁划分出在多个处理槽的外侧沿排列方向延伸的输送空间；输送机构，该输送机构配置于输送空间，且在各处理槽之间沿着排列方向输送基板；以及导风管道，该导风管道在输送空间以沿着所述排列方向延伸的方式设置。在导风管道连接有风扇过滤单元。在各处理槽连接有排气管道。在导风管道中的与各处理槽相对的部分分别形成有开口。第一处理单元的输送空间和第二处理单元的输送空间被隔壁上下分离。

公开(公告)号：CN107546155B

公开(公告)日：2023-08-04

申请号：CN201710499862.7

申请日：2017-06-27

Applicant: 株式会社荏原制作所

Inventor： 前田幸次 ,  下元博 ,  山口都章 ,  青野弘 ,  八嶋哲也 ,  矶川英立 ,  新海健史 ,  稻叶充彦 ,  桥本幸一 ,  国泽淳次 ,  宫崎充 ,  丰增富士彦

IPC: H01L21/67

Abstract: 本发明提供一种可减轻更换不同种类的清洗模块的作业所造成的负担的清洗装置及基板处理装置。本发明采用包含下述构件的结构：多种清洗模块(31(31A、31B))，进行清洗处理；第1收纳部，可收纳多种清洗模块(31)；及流体供给部(60)，经由配管(63)对收纳于第1收纳部的清洗模块(31)供给流体；多种清洗模块(31)分别具备与配管(63)的连接位置共用的配管连接部(70)。

公开(公告)号：CN107564835B

公开(公告)日：2023-06-30

申请号：CN201710520934.1

申请日：2017-06-30

Applicant: 株式会社荏原制作所

Inventor： 青野弘 ,  山口都章 ,  下元博 ,  前田幸次 ,  八嶋哲也 ,  新海健史 ,  桥本幸一 ,  稻叶充彦 ,  矶川英立 ,  中尾秀高 ,  矶部壮一

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/677 ,  B24B37/34 ,  B24B37/04

Abstract: 基板处理装置，具备：研磨部，研磨部对基板进行研磨；搬运部，搬运部将研磨前的基板向所述研磨部搬运；以及清洗部，清洗部清洗研磨后的基板。清洗部具有上下两层配置的第一清洗单元及第二清洗单元。第一清洗单元及第二清洗单元分别具有直线排列地配置的多个清洗组件。搬运部配置于第一清洗单元与第二清洗单元之间，具有沿着多个清洗组件的排列方向搬运研磨前的基板的滑动载物台。

公开(公告)号：CN111201596A

公开(公告)日：2020-05-26

申请号：CN201880066176.3

申请日：2018-08-09

Applicant: 株式会社荏原制作所

Inventor： 前田幸次 ,  稻叶充彦 ,  徐海洋 ,  八嶋哲也

IPC: H01L21/677 ,  H01L21/304

Abstract: 基板处理装置具有配置为上下两层的第一处理单元及第二处理单元。第一处理单元及第二处理单元分别具有：多个处理槽，该多个处理槽串联排列；隔壁，该隔壁划分出在多个处理槽的外侧沿排列方向延伸的输送空间；输送机构，该输送机构配置于输送空间，且在各处理槽之间沿着排列方向输送基板；以及导风管道，该导风管道在输送空间以沿着所述排列方向延伸的方式设置。在导风管道连接有风扇过滤单元。在各处理槽连接有排气管道。在导风管道中的与各处理槽相对的部分分别形成有开口。第一处理单元的输送空间和第二处理单元的输送空间被隔壁上下分离。

公开(公告)号：CN107564835A

公开(公告)日：2018-01-09

申请号：CN201710520934.1

申请日：2017-06-30

Applicant: 株式会社荏原制作所

Inventor： 青野弘 ,  山口都章 ,  下元博 ,  前田幸次 ,  八嶋哲也 ,  新海健史 ,  桥本幸一 ,  稻叶充彦 ,  矶川英立 ,  中尾秀高 ,  矶部壮一

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/677 ,  B24B37/34 ,  B24B37/04

CPC classification number: B24B37/345 ,  B08B1/003 ,  B08B1/04 ,  B08B3/123 ,  B24B37/10 ,  H01L21/67028 ,  H01L21/67173 ,  H01L21/67178 ,  H01L21/6719 ,  H01L21/67219 ,  H01L21/67742 ,  H01L21/67745 ,  H01L21/68707 ,  H01L21/68728

Abstract: 基板处理装置，具备：研磨部，研磨部对基板进行研磨；搬运部，搬运部将研磨前的基板向所述研磨部搬运；以及清洗部，清洗部清洗研磨后的基板。清洗部具有上下两层配置的第一清洗单元及第二清洗单元。第一清洗单元及第二清洗单元分别具有直线排列地配置的多个清洗组件。搬运部配置于第一清洗单元与第二清洗单元之间，具有沿着多个清洗组件的排列方向搬运研磨前的基板的滑动载物台。