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公开(公告)号：CN106132633A
公开(公告)日：2016-11-16
申请号：CN201580000586.4
申请日：2015-03-27
Applicant: 株式会社荏原制作所
IPC: B24B55/06 , B23Q11/08 , H01L21/304
CPC classification number: B24B37/34 , B24B53/017
Abstract: 本发明提供一种研磨液难以固结的罩。用于研磨基板的研磨装置的构成部件用的罩具备卡止机构，该卡止机构用于卡止构成部件的主体与罩，且设置于罩的内部。露出到外部的罩的外表面不具有凹部，除罩的顶部外，露出到外部的罩的外表面不具有水平面。
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公开(公告)号：CN100488598C
公开(公告)日：2009-05-20
申请号：CN02814181.4
申请日：2002-11-29
Applicant: 株式会社荏原制作所
CPC classification number: F23J15/08 , B01D53/1456 , B01D53/62 , B01D53/68 , B01D53/70 , B01D53/864 , B01D53/8659 , F23G7/063 , F23J15/006 , F23J2215/301 , F23J2215/40 , F23J2219/10 , F23J2219/30 , F23J2219/40 , F23J2219/60 , Y02A50/2341
Abstract: 一种处理废气的装置，它具有一个预处理部分(1)，用于从废气中除去粉末成分、水溶性成分和水解成分中的至少一个，所述废气含有氟化合物和CO中的至少一个；一个加热氧化分解部分(2)，用于进行所述氟化合物和CO中的至少一个的加热氧化分解，以净化所述废气。该装置具有一个后处理部分(4)，用于后处理由加热氧化分解所产生的酸性气体如HF。
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公开(公告)号：CN1863585A
公开(公告)日：2006-11-15
申请号：CN02814181.4
申请日：2002-11-29
Applicant: 株式会社荏原制作所
CPC classification number: F23J15/08 , B01D53/1456 , B01D53/62 , B01D53/68 , B01D53/70 , B01D53/864 , B01D53/8659 , F23G7/063 , F23J15/006 , F23J2215/301 , F23J2215/40 , F23J2219/10 , F23J2219/30 , F23J2219/40 , F23J2219/60 , Y02A50/2341
Abstract: 一种处理废气的装置，它具有一个预处理部分(1)，用于从废气中除去粉末成分、水溶性成分和水解成分中的至少一个，所述废气含有氟化合物和CO中的至少一个；一个加热氧化分解部分(2)，用于进行所述氟化合物和CO中的至少一个的加热氧化分解，以净化所述废气。该装置具有一个后处理部分(4)，用于后处理由加热氧化分解所产生的酸性气体如HF。
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公开(公告)号：CN116487302A
公开(公告)日：2023-07-25
申请号：CN202310668331.1
申请日：2017-06-30
Applicant: 株式会社荏原制作所
IPC: H01L21/67 , H01L21/677 , B24B37/34 , B24B37/04
Abstract: 基板处理装置，具备：研磨部，研磨部对基板进行研磨；搬运部，搬运部将研磨前的基板向所述研磨部搬运；以及清洗部，清洗部清洗研磨后的基板。清洗部具有上下两层配置的第一清洗单元及第二清洗单元。第一清洗单元及第二清洗单元分别具有直线排列地配置的多个清洗组件。搬运部配置于第一清洗单元与第二清洗单元之间，具有沿着多个清洗组件的排列方向搬运研磨前的基板的滑动载物台。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN107546155A
公开(公告)日：2018-01-05
申请号：CN201710499862.7
申请日：2017-06-27
Applicant: 株式会社荏原制作所
IPC: H01L21/67
CPC classification number: H01L21/02096 , H01L21/0201 , H01L21/02046 , H01L21/02068 , H01L21/02076 , H01L21/02085 , H01L21/02087 , H01L21/67017 , H01L21/67046 , H01L21/67051 , H01L21/6719 , H01L21/67219
Abstract: 本发明提供一种可减轻更换不同种类的清洗模块的作业所造成的负担的清洗装置及基板处理装置。本发明采用包含下述构件的结构：多种清洗模块(31(31A、31B))，进行清洗处理；第1收纳部，可收纳多种清洗模块(31)；及流体供给部(60)，经由配管(63)对收纳于第1收纳部的清洗模块(31)供给流体；多种清洗模块(31)分别具备与配管(63)的连接位置共用的配管连接部(70)。
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公开(公告)号：CN101417205B
公开(公告)日：2011-06-15
申请号：CN200810176742.4
申请日：2002-11-29
Applicant: 株式会社荏原制作所
CPC classification number: F23J15/08 , B01D53/1456 , B01D53/62 , B01D53/68 , B01D53/70 , B01D53/864 , B01D53/8659 , F23G7/063 , F23J15/006 , F23J2215/301 , F23J2215/40 , F23J2219/10 , F23J2219/30 , F23J2219/40 , F23J2219/60 , Y02A50/2341
Abstract: 一种处理废气的装置，其具有预处理部分，用于从废气中除去粉末成分、水溶性成分和水解成分中的至少一个，所述废气含有氟化合物和CO中的至少一个；加热氧化分解部分，用于进行所述氟化合物和CO中的至少一个的加热氧化分解，以净化所述废气。该装置具有后处理部分，用于后处理由加热氧化分解所产生的酸性气体如HF。本发明还涉及一种处理废气的方法，该废气含有氟化合物和CO中的至少一个，该方法包括：从所述废气中除去粉末成分、水溶性成分和水解成分中的至少一个；将O2和H2O加入所述废气中；加热所述废气，以分解或氧化废气中的氟化合物和CO中的至少一个；以及从已分解或氧化的废气中除去在氟化合物分解时产生的酸性气体。
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公开(公告)号：CN107546155B
公开(公告)日：2023-08-04
申请号：CN201710499862.7
申请日：2017-06-27
Applicant: 株式会社荏原制作所
IPC: H01L21/67
Abstract: 本发明提供一种可减轻更换不同种类的清洗模块的作业所造成的负担的清洗装置及基板处理装置。本发明采用包含下述构件的结构：多种清洗模块(31(31A、31B))，进行清洗处理；第1收纳部，可收纳多种清洗模块(31)；及流体供给部(60)，经由配管(63)对收纳于第1收纳部的清洗模块(31)供给流体；多种清洗模块(31)分别具备与配管(63)的连接位置共用的配管连接部(70)。
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公开(公告)号：CN107564835B
公开(公告)日：2023-06-30
申请号：CN201710520934.1
申请日：2017-06-30
Applicant: 株式会社荏原制作所
IPC: H01L21/67 , H01L21/677 , B24B37/34 , B24B37/04
Abstract: 基板处理装置，具备：研磨部，研磨部对基板进行研磨；搬运部，搬运部将研磨前的基板向所述研磨部搬运；以及清洗部，清洗部清洗研磨后的基板。清洗部具有上下两层配置的第一清洗单元及第二清洗单元。第一清洗单元及第二清洗单元分别具有直线排列地配置的多个清洗组件。搬运部配置于第一清洗单元与第二清洗单元之间，具有沿着多个清洗组件的排列方向搬运研磨前的基板的滑动载物台。
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公开(公告)号：CN107564835A
公开(公告)日：2018-01-09
申请号：CN201710520934.1
申请日：2017-06-30
Applicant: 株式会社荏原制作所
IPC: H01L21/67 , H01L21/677 , B24B37/34 , B24B37/04
CPC classification number: B24B37/345 , B08B1/003 , B08B1/04 , B08B3/123 , B24B37/10 , H01L21/67028 , H01L21/67173 , H01L21/67178 , H01L21/6719 , H01L21/67219 , H01L21/67742 , H01L21/67745 , H01L21/68707 , H01L21/68728
Abstract: 基板处理装置，具备：研磨部，研磨部对基板进行研磨；搬运部，搬运部将研磨前的基板向所述研磨部搬运；以及清洗部，清洗部清洗研磨后的基板。清洗部具有上下两层配置的第一清洗单元及第二清洗单元。第一清洗单元及第二清洗单元分别具有直线排列地配置的多个清洗组件。搬运部配置于第一清洗单元与第二清洗单元之间，具有沿着多个清洗组件的排列方向搬运研磨前的基板的滑动载物台。
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