公开(公告)号：CN118664515A

公开(公告)日：2024-09-20

申请号：CN202410299657.6

申请日：2024-03-15

Applicant: 株式会社荏原制作所

Inventor： 佐藤纪之 ,  田村元成 ,  山口都章 ,  寺田哲也

IPC: B24B53/017 ,  B24B37/10

Abstract: 提供一种液体供给装置和研磨装置，该液体供给装置具备：能够在研磨台的上方水平地摆动的摆动臂；和沿着所述摆动臂的长边方向排列设置，并向所述研磨台上喷射清洗流体的多个喷射喷嘴，所述多个喷射喷嘴分别具有狭缝状的流体出口，并且被定向为，在俯视下越是靠近所述摆动臂的顶端的喷射喷嘴的流体出口，相对于所述摆动臂的长边方向的倾斜角度就越大。

公开(公告)号：CN113474121B

公开(公告)日：2023-07-14

申请号：CN202080002181.5

申请日：2020-03-04

Applicant: 株式会社荏原制作所

Inventor： 山口都章 ,  下元博 ,  矶部壮一 ,  前田幸次 ,  新海健史 ,  矶川英立 ,  吉成大 ,  田村元成 ,  徐海洋 ,  江原俊 ,  浅野建太郎

IPC: B24B37/00 ,  B24B37/013 ,  B24B53/017 ,  H01L21/304

Abstract: 基板处理装置具备研磨部和搬送部。研磨部具有第一研磨单元和第二研磨单元以及研磨部搬送机构。第一研磨单元具有第一研磨装置和第二研磨装置。第二研磨单元具有第三研磨装置和第四研磨装置。第一～第四研磨装置分别具有：研磨台，该研磨台安装有研磨垫；顶环；辅助单元，该辅助单元对研磨中的研磨垫进行处理。在研磨台的周围设置有一对辅助单元安装部，该一对辅助单元安装部用于将辅助单元安装为相对于连结顶环的摆动中心与研磨台的旋转中心的直线能够左右切换，该一对辅助单元安装部设置在相对于所述直线左右对称的位置。

公开(公告)号：CN115533756A

公开(公告)日：2022-12-30

申请号：CN202210747523.7

申请日：2022-06-29

Applicant: 株式会社荏原制作所

Inventor： 山口都章 ,  田村元成 ,  新海健史 ,  矶部壮一 ,  持田裕介

IPC: B24B57/02 ,  B24B37/34

Abstract: 本发明是一种液体供给装置及研磨装置，液体供给装置具备：具有第1喷嘴的第1臂、具有第2喷嘴的第2臂、支承第1臂的基端部的第1旋转轴、支承第2臂的基端部的第2旋转轴、通过使第1旋转轴旋转而使第1臂从流体供给位置旋绕至退避位置的第1旋转驱动部、通过使第2旋转轴旋转而使第2臂从流体供给位置旋绕至退避位置的第2旋转驱动部、及控制部。第1旋转轴与第2旋转轴互相配置成同轴状。控制部能够互相独立地控制第1旋转驱动部的动作与第2旋转驱动部的动作。

公开(公告)号：CN113474121A

公开(公告)日：2021-10-01

申请号：CN202080002181.5

申请日：2020-03-04

Applicant: 株式会社荏原制作所

Inventor： 山口都章 ,  下元博 ,  矶部壮一 ,  前田幸次 ,  新海健史 ,  矶川英立 ,  吉成大 ,  田村元成 ,  徐海洋 ,  江原俊 ,  浅野建太郎

IPC: B24B37/00 ,  B24B37/013 ,  B24B53/017 ,  H01L21/304

Abstract: 基板处理装置具备研磨部和搬送部。研磨部具有第一研磨单元和第二研磨单元以及研磨部搬送机构。第一研磨单元具有第一研磨装置和第二研磨装置。第二研磨单元具有第三研磨装置和第四研磨装置。第一～第四研磨装置分别具有：研磨台，该研磨台安装有研磨垫；顶环；辅助单元，该辅助单元对研磨中的研磨垫进行处理。在研磨台的周围设置有一对辅助单元安装部，该一对辅助单元安装部用于将辅助单元安装为相对于连结顶环的摆动中心与研磨台的旋转中心的直线能够左右切换，该一对辅助单元安装部设置在相对于所述直线左右对称的位置。