公开(公告)号：CN104067692A

公开(公告)日：2014-09-24

申请号：CN201280067681.2

申请日：2012-10-30

Applicant: 株式会社爱发科

Inventor： 加藤裕子 ,  冈正 ,  矢岛贵浩 ,  内田一也 ,  大森大辅

IPC: H05B33/04 ,  H01L51/50 ,  H05B33/10

CPC classification number: H01L51/5246 ,  H01L51/5253

Abstract: 本发明提供一种保护元件免受氧气、水分等的侵害，能够抑制元件劣化等的元件结构体以及元件结构体的制造方法。元件结构体(1)具有基板(2)、器件层(3)、第1保护层(4)、第2保护层(5)以及密封层(6)。器件层(3)形成于基板2上的第1区域(11)。第1保护层(4)由无机物构成，具有形成于器件层(3)周围的第1边缘部(4A)，覆盖器件层(3)，形成于基板(2)上包含第1区域(11)的第2区域(12)。第2保护层(5)由有机物构成，形成于第1保护层(4)上与第2区域(12)相对应的第3区域(13)。密封层(6)由无机物构成，具有形成于第1边缘部(4A)与第2保护层(5)周围的第2边缘部(6A)，覆盖第2保护层(5)，形成于基板(2)上包含第2区域(12)的第4区域(14)。

公开(公告)号：CN110882867B

公开(公告)日：2022-11-08

申请号：CN201910852555.1

申请日：2019-09-10

Applicant: 株式会社爱发科 ,  夏普株式会社 ,  堺显示器制品株式会社

Inventor： 加藤裕子 ,  冈山智彦 ,  冈野秀一 ,  矢岛贵浩 ,  越智贵志 ,  平濑刚 ,  千崎刚史 ,  加藤拓司 ,  岸本克彦 ,  增野彻

IPC: B05B7/16

Abstract: 本发明的课题在于防止原料液体的空化。在原料液体以被吹到汽化板(8)的方式流动的原料液体导入路(6)，配置有棒状的阻力体(7)，使原料液体导入路(6)相对于原料液体的导入率下降。由于液体质量流量控制器的出口侧的压力上升，与液体质量流量控制器的入口侧的压力的压力差变小，因而能够防止空化的发生。能够使阻力体(7)以多个构成。

公开(公告)号：CN110882867A

公开(公告)日：2020-03-17

申请号：CN201910852555.1

申请日：2019-09-10

Applicant: 株式会社爱发科 ,  夏普株式会社 ,  堺显示器制品株式会社

Inventor： 加藤裕子 ,  冈山智彦 ,  冈野秀一 ,  矢岛贵浩 ,  越智贵志 ,  平濑刚 ,  千崎刚史 ,  加藤拓司 ,  岸本克彦 ,  增野彻

IPC: B05B7/16

Abstract: 本发明的课题在于防止原料液体的空化。在原料液体以被吹到汽化板(8)的方式流动的原料液体导入路(6)，配置有棒状的电阻器(7)，使原料液体导入路(6)相对于原料液体的电导率下降。由于液体质量流量控制器的出口侧的压力上升，与液体质量流量控制器的入口侧的压力的压力差变小，因而能够防止空化的发生。能够使电阻器(7)以多个构成。

公开(公告)号：CN110268091A

公开(公告)日：2019-09-20

申请号：CN201880010348.5

申请日：2018-02-20

Applicant: 株式会社爱发科

Inventor： 清健介 ,  青代信 ,  高桥明久 ,  矢岛贵浩 ,  加藤裕子

IPC: C23C14/24 ,  C23C14/12 ,  H01L51/50 ,  H05B33/04 ,  H05B33/10

Abstract: 本发明的成膜方法通过将液状的树脂材料喷雾到加热部并气化，并且将经气化的蒸气供给到基板上而形成树脂材料膜，所述成膜方法以补偿所述树脂材料的气化率的方式控制成膜条件，所述树脂材料的气化率与作为供给到所述加热部的所述树脂材料的量的合计的气化累计量相应地减少。

公开(公告)号：CN109892012A

公开(公告)日：2019-06-14

申请号：CN201880003963.3

申请日：2018-02-20

Applicant: 株式会社爱发科

Inventor： 清健介 ,  青代信 ,  高桥明久 ,  矢岛贵浩 ,  加藤裕子

IPC: H05B33/10 ,  H01L21/3065 ,  H01L51/50 ,  H05B33/04

Abstract: 本发明的元件结构体的制造方法包括：树脂材形成工序，在具有凹凸的基板上，以至少凸部的周边比平坦部更厚的方式形成由有机物构成的树脂材；和树脂材蚀刻工序，残留位于所述凸部的周边的一部分所述树脂材，并且去除所述平坦部的该树脂材。在所述树脂材蚀刻工序中，检测对所述树脂材进行蚀刻处理的条件中的特定条件的变化，并且将检测出的检测结果用作该蚀刻处理的终点。

公开(公告)号：CN109477221A

公开(公告)日：2019-03-15

申请号：CN201780036633.X

申请日：2017-06-16

Applicant: 株式会社爱发科

Inventor： 中村文生 ,  田丸义久 ,  矢岛贵浩 ,  加藤裕子 ,  神保洋介 ,  植喜信 ,  冈野秀一 ,  冈山智彦

IPC: C23C16/505 ,  H01L21/3065 ,  H01L21/31 ,  H05H1/46

Abstract: 课题：提供一种能够实现缩短返回电流路径和确保对称性的等离子体处理装置。解决手段：本发明的一实施方式涉及的等离子体处理装置具备腔室主体、载物台、高频电极、多个接地部件、可动单元。上述腔室主体具有侧壁，所述侧壁的一部分包括能够使基板通过的开口部。上述多个接地部件配置在上述载物台的周围，电连接上述侧壁与上述载物台之间。上述可动单元具有支撑体，所述支撑体支撑作为上述多个接地部件的一部分的第一接地部件。上述可动单元构成为，能够使上述支撑体在上述第一接地部件间隔上述开口部而与上述开口部的内周面对置的第一位置和上述第一接地部件电连接于上述内周面的第二位置之间移动。