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公开(公告)号：CN101542607A
公开(公告)日：2009-09-23
申请号：CN200880000647.7
申请日：2008-06-20
Applicant: 株式会社东芝
Abstract: 根据一个实施例，一种制造磁记录介质的方法包括以下步骤：在基底上形成凸出的磁图形；在所述磁图形之间的凹陷中以及在所述磁图形上沉积非磁性材料；以及使用含氧蚀刻气体回蚀刻所述非磁性材料，同时改良所述非磁性材料的表面。
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公开(公告)号：CN104681045A
公开(公告)日：2015-06-03
申请号：CN201410072017.8
申请日：2014-02-28
Applicant: 株式会社东芝
CPC classification number: G11B5/7325 , G11B5/732 , G11B5/8404 , G11B5/851
Abstract: 本发明提供介质噪音小且记录再生特性良好的垂直磁记录介质。一种垂直磁记录介质，其中，包含：非磁性颗粒基底层，其形成于基板上，包含含第1金属的多个金属微粒以及设置于多个金属微粒周围的晶粒边界层，各金属微粒具有从晶粒边界层突出的凸部与被埋没于晶粒边界层中的底部，凸部表面相对于晶粒边界层表面的接触角为45°至85°；非磁性中间层，其分别形成于凸部表面；和磁记录层，夹着非磁性中间层在非磁性颗粒基底层上具有基于含凸部的图案而形成的凸状图案。
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公开(公告)号：CN104424967A
公开(公告)日：2015-03-18
申请号：CN201410344999.1
申请日：2014-07-18
Applicant: 株式会社东芝
IPC: G11B5/84
Abstract: 本发明提供一种图案形成方法、磁记录介质的制造方法及微粒子分散液，所述图案形成方法能够形成面内均匀性良好的周期性图案。根据实施方式，提供一种图案形成方法，所述方法包括以下工序：在基板或掩模层上涂布微粒子涂布液从而在基板或掩模层上形成微粒子层的工序，所述微粒子涂布液含有微粒子、粘度调节剂和溶剂，所述微粒子具有表面极性接近的保护基且至少在表面具有选自Al、Ti、V、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Zn、Y、Zr、Sn、Mo、Ta、W、Au、Ag、Pd、Cu、Pt、及它们的氧化物中的材料，所述溶剂用于调节粘度调节剂与具有保护基的微粒子的混合。
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公开(公告)号：CN101542608A
公开(公告)日：2009-09-23
申请号：CN200880000653.2
申请日：2008-06-20
Applicant: 株式会社东芝
Abstract: 根据一个实施例，一种制造磁记录介质的方法包括以下步骤：在基底上沉积磁记录层和牺牲层；构图所述牺牲层和磁记录层，以形成凸出的磁图形和牺牲图形；在所述磁图形和牺牲图形之间的凹陷中以及在所述牺牲图形上沉积非磁性材料；以及回蚀刻所述非磁性材料。
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公开(公告)号：CN100541610C
公开(公告)日：2009-09-16
申请号：CN200710089302.0
申请日：2007-03-16
Applicant: 株式会社东芝
CPC classification number: G11B5/82 , B82Y10/00 , G11B5/59655 , G11B5/743 , G11B5/855
Abstract: 图案化介质具有基片，以及在基片上包括凸出的磁性图案的磁性记录层，以及填充在凸出的磁性图案之间的非磁性材料。在图案化介质中，深度Db和深度Da存在关系深度Da大于深度Db，其中Db定义为从磁性图案表面到填充在交叉磁轨方向或沿着磁轨方向上相邻的磁性图案之间的第一中间部中的非磁性材料表面的深度，且Da定义为从磁性图案表面到填充在由四个磁性图案所环绕的部件中的第二中间部中的非磁性材料表面的深度。
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公开(公告)号：CN119694354A
公开(公告)日：2025-03-25
申请号：CN202311698784.5
申请日：2023-12-12
Applicant: 株式会社东芝 , 东芝电子元件及存储装置株式会社
Abstract: 本发明提供包括判定热辅助磁记录头的上浮量变化的磁记录再现装置及其调整方法。实施方式的磁记录再现装置的调整方法是搭载有热辅助磁记录头以及磁盘的磁记录再现装置的调整方法，在记录面的第1位置进行第1写入动作，在半径方向位置与第1位置不同的第2位置测定第1错误率，在进行了第2写入动作之后，测定第2错误率，求出第1错误率与第2错误率的第1差分，在第1位置测定第3错误率，在进行了第3写入动作之后，测定第4错误率，求出第3错误率与第4错误率的第2差分，比较第1差分和第2差分，判定上浮量变化。
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公开(公告)号：CN119673223A
公开(公告)日：2025-03-21
申请号：CN202311697572.5
申请日：2023-12-12
Applicant: 株式会社东芝 , 东芝电子元件及存储装置株式会社
Inventor： 木村香里
Abstract: 本发明提供缩短伴随着热辅助磁记录头的浮起量变动的形成润滑剂填充区域所需的时间的磁记录再现装置以及磁记录再现装置的控制方法。本实施方式涉及的磁记录再现装置的控制方法包括：在第1高度的头浮起量下通过热辅助磁记录头进行了记录后，将头浮起量变更为比第1高度高的第2高度，通过使热辅助磁记录头动作，在热辅助磁记录头与记录面之间填充润滑剂，形成第2高度的润滑剂填充区域。
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公开(公告)号：CN105280200A
公开(公告)日：2016-01-27
申请号：CN201410720604.3
申请日：2014-12-02
Applicant: 株式会社东芝
IPC: G11B5/66
CPC classification number: G11B5/84 , G11B5/7305 , G11B5/733 , G11B5/855
Abstract: 本发明的实施方式提供能够得到基板与粒子之间的良好密合性的磁记录介质的制造方法。实施方式涉及的磁记录介质的制造方法包括：在基板上形成熔敷层，在熔敷层上形成含有硅的保持层，使用含有能够与熔敷层熔敷的金属的粒子在保持层上形成单粒子层，使用含有氢氟酸和过氧化氢的蚀刻溶液对保持层中的二氧化硅进行蚀刻，将粒子埋入保持层内直到与熔敷层接触，通过加热使粒子与熔敷层熔敷，以及在单粒子层上形成磁记录层。
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