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公开(公告)号：CN1784617A
公开(公告)日：2006-06-07
申请号：CN200480012070.3
申请日：2004-05-07
Applicant: 日立化成工业株式会社
IPC: G02B5/32 , F21V8/00 , G02F1/13357
CPC classification number: G02B6/0053 , G02B5/0252 , G02B5/1871 , G02B5/32 , G02B6/0038 , G02B6/0065 , G02F2001/133607 , G03H2001/264
Abstract: 本发明在于提供一种薄型、透光率高、使用性优越的全息照相光学元件及使用它的面光源装置。是一种折弯角度的波长依赖性小、抑制从倾斜方向入射的白色光的分光且向垂直方向折弯并射出的全息照相光学元件。是一种全息照相光学元件，其，使在0.46≤λ1≤0.50μm(蓝色光)、0.53≤λ2≤0.57μm(绿色光)、0.60≤λ3≤0.64μm(红色光)范围的λ1、λ2、λ3的3波长的光以角度θi入射透射型衍射光栅时，各波长的衍射效率为最大的衍射角度包含在－5度到+5度的范围。
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公开(公告)号：CN1643417A
公开(公告)日：2005-07-20
申请号：CN03807085.5
申请日：2003-03-27
Applicant: 日立化成工业株式会社
IPC: G02B6/12
CPC classification number: G02B6/12009 , G02B6/12007 , G02B6/124 , G02B6/2938
Abstract: 本发明提供一种光波导，其特征在于，具有射入芯4和射出芯5，射出芯5的宽度超过射入芯4的宽度的1.5倍。该光波导即使光的波长在10nm的宽范围内变动的情况下，也可以对光进行合/分波。进而，本发明在成为光路经的光波导和使用了以分光和聚光为目的的衍射光栅的光合/分波器中，在使用波长下，与膜平面平行的光波导芯层的折射率(nTE)和与膜平面垂直的光波导芯层的折射率(nTM)的差的绝对值在0.007以下。该光合/分波器可以通过将变为光路径的光波导芯层的复折射率设在0.007以下，将依存于射入信号光的偏光方向的输出信号光的波长变动控制在5nm以下。
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公开(公告)号：CN1371529A
公开(公告)日：2002-09-25
申请号：CN00811963.5
申请日：2000-08-25
Applicant: 日立化成工业株式会社
IPC: H01L21/304
Abstract: 本发明中提供了一种含有氧化剂、氧化金属溶解剂、保护膜形成剂、水溶性聚合物和水的CMP用研磨剂,及用它的研磨方法。水溶性聚合物的重量平均分子量在500以上,研磨剂的动摩擦系数在0.25以上,研磨剂的厄布洛德粘度在0.95cP以上,1.5cP以下,研磨剂的拐点压力在50gf/cm2以上。
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公开(公告)号：CN1803964A
公开(公告)日：2006-07-19
申请号：CN200610000318.5
申请日：1999-12-28
Applicant: 日立化成工业株式会社
IPC: C09K3/14
CPC classification number: C09G1/04 , C09G1/02 , C09K13/00 , C23F3/00 , C23F3/04 , C23F3/06 , H01L21/3212
Abstract: 本发明可以提供一种含有氧化剂、氧化金属溶解剂、保护膜形成剂、该保护膜形成剂助剂和水的金属研磨液，其制造方法及使用其的研磨方法。而且作为这种金属研磨液的制备材料，本发明还可以提供一种含有氧化金属溶解剂、保护膜形成剂和该保护膜形成剂助剂的金属研磨液材料。
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公开(公告)号：CN1243071C
公开(公告)日：2006-02-22
申请号：CN02123007.2
申请日：1999-12-28
Applicant: 日立化成工业株式会社
IPC: C09K3/14 , H01L21/304
CPC classification number: C09G1/04 , C09G1/02 , C09K13/00 , C23F3/00 , C23F3/04 , C23F3/06 , H01L21/3212
Abstract: 本发明可以提供一种含有氧化剂、氧化金属溶解剂、保护膜形成剂、该保护膜形成剂助剂和水的金属研磨液，其制造方法及使用其的研磨方法。而且作为这种金属研磨液的制备材料，本发明还可以提供一种含有氧化金属溶解剂、保护膜形成剂和该保护膜形成剂助剂的金属研磨液材料。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1803964B
公开(公告)日：2010-12-15
申请号：CN200610000318.5
申请日：1999-12-28
Applicant: 日立化成工业株式会社
IPC: C09K3/14
CPC classification number: C09G1/04 , C09G1/02 , C09K13/00 , C23F3/00 , C23F3/04 , C23F3/06 , H01L21/3212
Abstract: 本发明可以提供一种含有氧化剂、氧化金属溶解剂、保护膜形成剂、该保护膜形成剂助剂和水的金属研磨液，其制造方法及使用其的研磨方法。而且作为这种金属研磨液的制备材料，本发明还可以提供一种含有氧化金属溶解剂、保护膜形成剂和该保护膜形成剂助剂的金属研磨液材料。
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公开(公告)号：CN100380148C
公开(公告)日：2008-04-09
申请号：CN200480014156.X
申请日：2004-05-21
Applicant: 日立化成工业株式会社
IPC: G02B5/32 , G02B5/18 , G02B5/02 , F21V8/00 , G02F1/13357
CPC classification number: G02B6/0038 , G02B5/0252 , G02B5/0257 , G02B5/0278 , G02B5/32 , G02B6/0053 , G02B6/0065
Abstract: 光学膜(10)具有：以聚对苯二甲酸乙二酯(PET)为材质的透明底膜(11)，以丙烯酸改性环氧树脂等光硬化树脂在作为底膜(11)的一个面的入射面(12)上形成的棱镜，及以同样的光硬化树脂在与上述入射面(12)相对的出射面(13)上形成的全息片，上述棱镜通过对以截面大致呈三角形状的槽或峰入射的光进行全反射而使光折射到垂直于上述出射面(13)的方向，上述全息片通过使从出射面(13)出射的光各向异性地扩散来提高亮度。
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公开(公告)号：CN1795403A
公开(公告)日：2006-06-28
申请号：CN200480014156.X
申请日：2004-05-21
Applicant: 日立化成工业株式会社
CPC classification number: G02B6/0038 , G02B5/0252 , G02B5/0257 , G02B5/0278 , G02B5/32 , G02B6/0053 , G02B6/0065
Abstract: 光学膜(10)具有：以聚对苯二甲酸乙二酯(PET)为材质的透明底膜(11)，以丙烯酸改性环氧树脂等光硬化树脂在作为底膜(11)的一个面的入射面(12)上形成的棱镜，及以同样的光硬化树脂在与上述入射面(12)相对的出射面(13)上形成的全息片，上述棱镜通过对以截面大致呈三角形状的槽或峰入射的光进行全反射而使光折射到垂直于上述出射面(13)的方向，上述全息片通过使从出射面(13)出射的光各向异性地扩散来提高亮度。
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公开(公告)号：CN1161826C
公开(公告)日：2004-08-11
申请号：CN00811963.5
申请日：2000-08-25
Applicant: 日立化成工业株式会社
IPC: H01L21/304 , C09K3/14 , C09K3/00
Abstract: 本发明中提供了一种含有氧化剂、氧化金属溶解剂、保护膜形成剂、水溶性聚合物和水的CMP用研磨剂，及用它的研磨方法。水溶性聚合物的重量平均分子量在500以上，研磨剂的动摩擦系数在0.25以上，研磨剂的厄布洛德粘度在0.95cP以上，1.5cP以下，研磨剂的拐点压力在50gf/cm2以上。
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公开(公告)号：CN1158694C
公开(公告)日：2004-07-21
申请号：CN99815882.8
申请日：1999-12-28
Applicant: 日立化成工业株式会社
IPC: H01L21/304 , B24B37/00
CPC classification number: C09G1/04 , C09G1/02 , C09K13/00 , C23F3/00 , C23F3/04 , C23F3/06 , H01L21/3212
Abstract: 本发明涉及特别适应于半导体器件装配工序的金属研磨液以及使用该金属研磨液的研磨方法。本发明可提供一种含有氧化剂、氧化金属溶解剂、保护膜形成剂、该保护膜形成剂的溶解助剂和水的金属研磨液，其制造方法及使用其的研磨方法。而且作为这种研磨液的制备材料，本发明还可以提供一种含有氧化金属溶解剂、保护膜形成剂和该保护膜形成剂的溶解助剂的金属研磨液材料。
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