公开(公告)号：CN118712041A

公开(公告)日：2024-09-27

申请号：CN202311167357.4

申请日：2023-09-11

Applicant: 日新离子机器株式会社

Inventor： 渡边穗香 ,  藤田秀树 ,  平井裕也

IPC: H01J37/32

Abstract: 本发明提供一种等离子体源，能够调整通过腔室内的磁通的方向。等离子体源具备：腔室(10)，生成等离子体；阴极(20)，设置于腔室(10)，发射电子；以及电磁铁(30)，设置在腔室(10)的周围，使磁通通过腔室(10)内，电磁铁(30)具有线圈(C)、以及使通过对线圈(C)通电而产生的磁通到达腔室(10)内的多个磁通通过部件(30x)，至少一个磁通通过部件(30x)的使用方式能够变更。

公开(公告)号：CN115692144A

公开(公告)日：2023-02-03

申请号：CN202210791252.5

申请日：2022-07-05

Applicant: 日新离子机器株式会社

Inventor： 平井裕也 ,  赵维江 ,  糸井骏 ,  岩波悠太

IPC: H01J37/08 ,  H01J37/30 ,  H01J37/317

Abstract: 本发明涉及氢供给装置及具备其的离子束照射装置，尤其涉及一种能够以简单的构成来实现呈稳定的氢供给的氢供给装置。一种氢供给装置(H)，被配置于高电位，且具备：于内部具有储氢合金的瓶子(7)。

公开(公告)号：CN305523786S

公开(公告)日：2019-12-31

申请号：CN201930411808.2

申请日：2019-07-31

Applicant: 日新离子机器株式会社

Designer： 平井裕也 ,  赵维江 ,  谷口智哉 ,  足立昌和

Abstract: 1.本外观设计产品的名称：溅射靶。
2.本外观设计产品的用途：本外观设计产品用作溅射靶。
3.本外观设计产品的设计要点：在于形状。
4.最能表明设计要点的图片或照片：立体图。