离子束照射装置和离子束电流均匀化方法

    公开(公告)号:CN105609397B

    公开(公告)日:2017-06-30

    申请号:CN201510569675.2

    申请日:2015-09-09

    Abstract: 本发明提供离子束照射装置(100)等,能够在短时间内且稳定性良好地进行束电流的均匀化。在实现离子束的均匀化的均匀控制步骤中,所述控制装置执行:权重系数计算步骤,计算作为各灯丝电流(IF)的变化对各束电流(IB)的变化的影响程度的权重系数;以及灯丝理论电流计算步骤,根据在所述权重系数计算步骤中得到的权重系数,计算用于使各束电流(IB)的值尽可能接近规定的目标电流值的各灯丝的理论电流值。

    真空室和质量分析电磁铁
    13.
    发明公开

    公开(公告)号:CN106257616A

    公开(公告)日:2016-12-28

    申请号:CN201610388025.2

    申请日:2016-06-02

    CPC classification number: H01J37/3171

    Abstract: 本发明提供真空室和质量分析电磁铁,能减小束电位导致的带状束的长度方向上的发散不均匀性。在构成带状束B的输送路径的真空室C中,当把通过真空室C内的带状束B的行进方向设为Z方向、把带状束B的长度方向设为Y方向、把与上述两方向垂直的方向设为X方向时,在Y方向上的真空室C的端部区域,越朝向真空室C的端部去,X方向上的真空室C的内部尺寸越小。

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