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公开(公告)号:CN103155705B
公开(公告)日:2015-09-23
申请号:CN201180048747.9
申请日:2011-11-04
Applicant: 日东电工株式会社
CPC classification number: H01L51/56 , C23C14/12 , C23C14/562 , H01L51/0008 , H01L51/001
Abstract: 本发明提供一种有机EL元件的制造方法。有机EL元件的制造方法包括蒸镀工序,在蒸镀工序中,供给基材,使该基材的非电极层侧与驱动而旋转的筒状辊表面相抵接而使该基材移动并自蒸镀源的喷嘴喷出气化的有机层形成材料,在上述基材的电极层侧形成有机层,在有机EL元件的制造方法中,使用能够对距被上述筒状辊支承的上述基材的第1距离进行测量的距离测量部、能够调整上述蒸镀源的喷嘴与上述基材的表面之间的第2距离的位置调整部,根据上述距离测量部的上述第1距离的测量结果一边利用上述位置调整部以使上述第2距离恒定的方式进行控制一边进行上述蒸镀工序。
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公开(公告)号:CN103963401A
公开(公告)日:2014-08-06
申请号:CN201410042960.4
申请日:2014-01-29
Applicant: 日东电工株式会社
CPC classification number: G02B5/0875 , C23C14/08 , C23C14/086 , C23C14/14 , G02B1/04 , G02B1/14 , G02B5/208 , G02B5/26 , G02B5/282
Abstract: 本发明涉及红外线反射薄膜。所述红外线反射薄膜(100)在透明薄膜基材(10)上按顺序具备红外线反射层(20)和透明保护层(30)。红外线反射层(20)从透明薄膜基材(10)侧起按顺序具备第一金属氧化物层(21)、以银为主要成分的金属层(25)、和由含氧化锌和氧化锡的复合金属氧化物形成的第二金属氧化物层(22)。透明保护层(30)直接与第二金属氧化物层(22)相接。优选的是:透明保护层(30)的厚度为30nm~150nm,且为具有源自在同一分子中具有酸性基团和聚合性官能团的酯化合物的交联结构的有机物层。透明保护层(30)中的源自酯化合物的结构的含量优选为1重量%~40重量%。
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公开(公告)号:CN119053884A
公开(公告)日:2024-11-29
申请号:CN202380035494.4
申请日:2023-04-12
Applicant: 日东电工株式会社
Abstract: 抗反射膜(101)具备:硬涂膜(1),在透明膜基材(10)的一个主面上具备硬涂层(11);以及抗反射层(5),设于硬涂层上。抗反射层包含至少一层高折射率层和至少一层低折射率层。高折射率层(51、53)是以氧化铌为主成分的薄膜,就距离硬涂层最远地配置的高折射率层(53)而言,膜厚为40nm以下且膜密度小于4.47g/cm3。
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公开(公告)号:CN106575005B
公开(公告)日:2019-10-25
申请号:CN201580041997.8
申请日:2015-08-03
Applicant: 日东电工株式会社
IPC: B32B15/04 , G02B5/22 , B32B7/02 , C08J7/04 , C23C14/08 , G02B5/26 , G02B5/20 , B32B9/00 , C03C17/36
Abstract: 本发明提供红外线反射薄膜,所述红外线反射薄膜(100)在透明薄膜基材(10)上依次具备金属氧化物层(21)、以银为主要成分的红外线反射层(23)及光吸收性金属层(25),且在透明薄膜基材(10)与红外线反射层(23)之间不具有金属层。透明薄膜基材(10)优选在金属氧化物层(21)形成面侧具备固化树脂层(12)。金属氧化物层(21)优选由包含氧化锌及氧化锡的复合金属氧化物构成。光吸收性金属层(23)的膜厚为2nm~10nm,包含选自由镍、铬、铌、钽及钛组成的组中的一种以上。
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公开(公告)号:CN106575005A
公开(公告)日:2017-04-19
申请号:CN201580041997.8
申请日:2015-08-03
Applicant: 日东电工株式会社
Abstract: 本发明提供红外线反射薄膜,所述红外线反射薄膜(100)在透明薄膜基材(10)上依次具备金属氧化物层(21)、以银为主要成分的红外线反射层(23)及光吸收性金属层(25),且在透明薄膜基材(10)与红外线反射层(23)之间不具有金属层。透明薄膜基材(10)优选在金属氧化物层(21)形成面侧具备固化树脂层(12)。金属氧化物层(21)优选由包含氧化锌及氧化锡的复合金属氧化物构成。光吸收性金属层(23)的膜厚为2nm~10nm,包含选自由镍、铬、铌、钽及钛组成的组中的一种以上。
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公开(公告)号:CN103155702B
公开(公告)日:2016-11-23
申请号:CN201180049580.8
申请日:2011-10-06
Applicant: 日东电工株式会社
IPC: H01L51/50
CPC classification number: H05B33/145 , H01L25/048 , H01L51/0097 , H01L51/5203 , H01L51/5253 , H01L51/56 , H01L2251/5338 , H01L2251/566 , H01L2924/0002 , H01L2924/00
Abstract: 本发明提供一种能够以低成本制造的、亮度不均匀较少的有机电致发光装置,将多个带状的有机电致发光元件(2)在端子用区域(3)内的特定部位与连接于通电用电极端子(5、5’)的电线(4、4’)连接,并将其安装在大致平板状的母材(1)上。
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公开(公告)号:CN106104320A
公开(公告)日:2016-11-09
申请号:CN201580011679.7
申请日:2015-02-26
Applicant: 日东电工株式会社
CPC classification number: G02B5/0875 , B22F3/10 , B22F7/02 , B22F2301/30 , B22F2302/25 , B22F2303/01 , B22F2998/10 , C01G23/003 , C01G23/047 , C01G33/00 , C03C17/3647 , C03C17/366 , C03C17/3681 , C23C14/086 , C23C14/3414 , C23C28/322 , C23C28/3455 , G02B5/208 , G02B5/26
Abstract: 本发明的红外线反射基板(100)在透明基材(10)上依次具备第一金属氧化物层(21)、第二金属氧化物层(22)及金属层(30),且第二金属氧化物层(22)与金属层(30)直接接触。第一金属氧化物层(21)的折射率为2.2以上。第二金属氧化物层(22)优选由含有氧化锡及氧化锌且氧量相对于化学计量组成为不足的金属氧化物形成。第二金属氧化物层优选通过直流溅射法成膜。在第二金属氧化物层的成膜中,优选使用含有锌原子及锡原子且由氧化锌和氧化锡中的至少一种金属氧化物与金属粉末进行烧结而成的靶。导入至溅射成膜室内的气体中的氧浓度优选为8体积%以下。根据本发明,可获得可见光的透过率较高且耐久性优异的红外线反射基板。
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公开(公告)号:CN103966560A
公开(公告)日:2014-08-06
申请号:CN201410043878.3
申请日:2014-01-29
Applicant: 日东电工株式会社
CPC classification number: C23C14/3464 , B32B17/064 , B32B2307/416 , C23C14/086 , C23C14/205 , C23C14/3414 , G02B5/282 , G02B5/285
Abstract: 本发明涉及红外线反射薄膜的制造方法,该制造方法按顺序包括如下工序:金属层形成工序,在透明薄膜基材(10)上制膜金属层(25);金属氧化物层形成工序,以在金属层(25)上直接相接的方式通过直流溅射制膜表面侧金属氧化物层(22);以及,透明保护层形成工序,在表面侧金属氧化物层(22)上形成透明保护层(30)。在金属氧化物层形成工序中,在直流溅射法中使用的溅射靶优选的为含有锌原子和锡原子、并将氧化锌和氧化锡中的至少一种金属氧化物与金属粉末烧结而得到的靶。在表面侧金属氧化物形成工序中,向溅射制膜室内导入非活性气体和氧气。向溅射制膜室导入的气体中的氧浓度优选为8体积%以下。
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公开(公告)号:CN103155705A
公开(公告)日:2013-06-12
申请号:CN201180048747.9
申请日:2011-11-04
Applicant: 日东电工株式会社
CPC classification number: H01L51/56 , C23C14/12 , C23C14/562 , H01L51/0008 , H01L51/001
Abstract: 本发明提供一种有机EL元件的制造方法。有机EL元件的制造方法包括蒸镀工序,在蒸镀工序中,供给基材,使该基材的非电极层侧与驱动而旋转的筒状辊表面相抵接而使该基材移动并自蒸镀源的喷嘴喷出气化的有机层形成材料,在上述基材的电极层侧形成有机层,在有机EL元件的制造方法中,使用能够对距被上述筒状辊支承的上述基材的第1距离进行测量的距离测量部、能够调整上述蒸镀源的喷嘴与上述基材的表面之间的第2距离的位置调整部,根据上述距离测量部的上述第1距离的测量结果一边利用上述位置调整部以使上述第2距离恒定的方式进行控制一边进行上述蒸镀工序。
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公开(公告)号:CN118550010A
公开(公告)日:2024-08-27
申请号:CN202410212397.4
申请日:2024-02-27
Applicant: 日东电工株式会社
Abstract: 本发明涉及防反射薄膜以及图像显示装置。防反射薄膜(101)具备:在透明薄膜基材(10)的一个主面上具备硬涂层(11)的硬涂薄膜(1)、在硬涂层(11)上依次设置的防反射层(5)以及防污层(7)。硬涂层包含粘结剂树脂、平均一次粒径为1~8μm的微米颗粒、以及平均一次粒径为100nm以下的纳米颗粒。防反射层由折射率不同的多个薄膜的层叠体形成。防反射薄膜的由测定长度12mm的粗糙度曲线求出的凹凸的平均间隔RSm为120μm以上,由1μm×1μm的区域的三维表面性状求出的算术平均高度Sa为2.0nm以上。
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