公开(公告)号：CN119923581A

公开(公告)日：2025-05-02

申请号：CN202380067905.8

申请日：2023-09-13

Applicant: 日东电工株式会社

Inventor： 田中一生 ,  横井辽太郎 ,  大井达也 ,  桥本翔 ,  长命翔太 ,  宫本幸大 ,  角田丰

IPC: G02B1/116 ,  G02B1/14 ,  G02B1/16 ,  G02B5/02 ,  G06F3/041 ,  G09F9/00

Abstract: 本发明的抗反射膜(10)依次具有透明膜基材(11)、硬涂层(12)、底漆层(13)以及抗反射层(14)。抗反射层(14)是折射率不同的多个薄膜的层叠体。底漆层(13)是以氧化铟锡为主成分的薄膜，且氧化锡相对于氧化铟与氧化锡的总和的量为15重量％以上。

公开(公告)号：CN119805646A

公开(公告)日：2025-04-11

申请号：CN202411406682.6

申请日：2024-10-10

Applicant: 日东电工株式会社

Inventor： 宫本幸大 ,  渡边圣彦 ,  谷口刚志

IPC: G02B5/30 ,  G02B1/18 ,  G02B1/14 ,  B32B33/00 ,  B32B27/06 ,  B32B9/04 ,  B32B27/28 ,  B32B38/00

Abstract: 本发明涉及阻隔膜和带有阻隔膜的偏振板。阻隔膜(1)具备：透明基材膜(2)；以及阻隔层(4)，配置于透明基材膜(2)的厚度方向一方侧。透明基材膜(2)具备透明树脂膜(21)。阻隔层(4)具备至少一层氧化硅层(42)和配置于氧化硅层(42)的厚度方向一方侧的防污层(43)。在厚度方向上，最接近防污层(43)的氧化硅层(42)的密度为2.35g/cm3以上。

公开(公告)号：CN118027485A

公开(公告)日：2024-05-14

申请号：CN202311491078.3

申请日：2023-11-10

Applicant: 日东电工株式会社

Inventor： 角田丰 ,  宫本幸大 ,  梨木智刚

IPC: C08J7/046 ,  C08J7/12 ,  C08J7/04 ,  C08L67/02

Abstract: 适于使防污层实现良好透明外观性的带防污层的光学薄膜及其制造方法。该制法包括在透明基材薄膜(11)一面侧形成防污层(15)的工序；将剥离薄膜(16)的粘合面(16a)贴合于防污层(15)的工序；从防污层(15)将剥离薄膜(16)剥离的工序；将保护薄膜(17)的粘合面(17a)贴合于防污层(15)的工序。剥离薄膜(16)对防污层(15)的粘合力为0.008N/50mm以上。薄膜(Z)依次具备透明基材薄膜(11)、防污层(15)和保护薄膜(17)。保护薄膜(17)利用粘合面(17a)贴接于防污层(15)。去除保护薄膜后的防污层的厚度相对于具备保护薄膜状态下的防污层的厚度的比率为0.9以上1.0以下。

公开(公告)号：CN116234692B

公开(公告)日：2024-03-19

申请号：CN202180061138.0

申请日：2021-07-13

Applicant: 日东电工株式会社

Inventor： 宫本幸大 ,  伊藤帆奈美 ,  梨木智刚

IPC: B32B27/00

Abstract: 层叠体朝着厚度方向的一面侧依次具备基材和防污层。防污层包含具有全氟聚醚基的烷氧基硅烷化合物。在掠入射X射线衍射法中的面外衍射(out‑of‑plane)测定中，在归属于层状结构的波数2nm‑1～10nm‑1处具有峰。通过规定试验而测得的防污层的积分强度比为0.0035以下。

公开(公告)号：CN115916528B

公开(公告)日：2024-03-12

申请号：CN202180046973.7

申请日：2021-07-13

Applicant: 日东电工株式会社

Inventor： 宫本幸大 ,  梨木智刚 ,  角田丰

IPC: B32B27/00 ,  B32B7/023 ,  B32B7/02 ,  C23C14/34 ,  C23C14/06 ,  G02B1/18 ,  G02B1/14 ,  G02B1/115 ,  G02B1/113 ,  B32B9/00

Abstract: 本发明的带防污层的光学薄膜(F)朝着厚度方向(T)依次具备透明基材(10)和防污层(30)。防污层(30)的与透明基材(10)相反的表面(31)侧的、通过利用X射线光电子能谱法进行的元素分析而检测到的F相对于Si的比率在分析深度为1nm时为20以上。

公开(公告)号：CN115803192A

公开(公告)日：2023-03-14

申请号：CN202180048969.4

申请日：2021-07-13

Applicant: 日东电工株式会社

Inventor： 宫本幸大 ,  梨木智刚

IPC: B32B27/00

Abstract: 带防污层的光学薄膜朝着厚度方向的一面侧依次具备基材层、由无机层形成的光学功能层、以及防污层。防污层的表面粗糙度Ra为10nm以下。防污层的厚度方向的一面的水接触角为110°以上。通过规定的试验而求出的防污层的水接触角为83°以上。

公开(公告)号：CN114761834A

公开(公告)日：2022-07-15

申请号：CN202080082356.8

申请日：2020-11-20

Applicant: 日东电工株式会社

Inventor： 高见佳史 ,  山崎由佳 ,  宫本幸大 ,  梨木智刚

IPC: G02B1/115 ,  B32B7/023 ,  B32B9/00 ,  B32B27/18 ,  G02B1/14 ,  G02F1/1335 ,  G09F9/00 ,  H01L27/32 ,  H01L51/50 ,  H05B33/02

Abstract: 防反射薄膜(100)具备：在薄膜基材(10)的一个主面上具备硬涂层(11)的硬涂薄膜；在硬涂层上接触设置的底漆层(3)；以及，在底漆层上接触设置的防反射层(5)。防反射层是折射率不同的多个薄膜的层叠体。底漆层是包含In、Sn等金属的氧化物的金属氧化物层，其中，优选为氧化铟锡等铟系氧化物层。

公开(公告)号：CN114521272A

公开(公告)日：2022-05-20

申请号：CN202080069055.1

申请日：2020-09-16

Applicant: 日东电工株式会社

Inventor： 中岛一裕 ,  梨木智刚 ,  宫本幸大

IPC: H01B5/14 ,  H01B13/00

Abstract: 本发明的导电膜(102)在树脂膜基材(50)的硬涂层形成面上具备基底层(20)，在基底层上具备金属薄膜(10)，其中，树脂膜基材(50)在树脂膜(5)的一个主面上具备硬涂层(6)。基底层包含至少1层无机电介质薄膜。硬涂层包含平均一次粒径为10～100nm的第一微粒。在硬涂层的截面中，第一微粒所占的面积比率优选为10％以上。

公开(公告)号：CN113474626A

公开(公告)日：2021-10-01

申请号：CN202080012751.9

申请日：2020-01-24

Applicant: 日东电工株式会社

Inventor： 宫本幸大 ,  中岛一裕 ,  安井智史

IPC: G01K7/18

Abstract: 温度传感器薄膜的制作中使用的导电薄膜(101)在树脂薄膜基材(50)的一个主表面上具备镍薄膜(10)。镍薄膜中的碳原子浓度优选1.0×1021atm/cm3以下。镍薄膜的X射线衍射图案中的镍的(111)面的衍射峰的半值宽度优选0.4°以下。通过将镍薄膜图案化，形成测温电阻部和连接于测温电阻部的引线部，由此可得到温度传感器薄膜。

公开(公告)号：CN108603964B

公开(公告)日：2021-09-21

申请号：CN201780008635.8

申请日：2017-01-27

Applicant: 日东电工株式会社

Inventor： 宫本幸大 ,  梨木智刚

IPC: G02B5/30 ,  B32B7/023 ,  B32B9/00 ,  C23C14/08 ,  C23C14/10 ,  G02B1/115 ,  G02F1/1335 ,  H01L51/50 ,  H05B33/02 ,  H05B33/04

Abstract: 本发明提供作为阻隔薄膜及偏光板发挥功能、且抑制了裂纹的产生的光学层叠体。本发明的光学层叠体依次具有：偏光件；基材；包含ZnO、Al及SiO2的第1氧化物层；和由SiO2构成的第2氧化物层，基材的第1氧化物层侧的表面的表面粗糙度Ra为0.30nm～50nm。在一个实施方式中，光学层叠体的透湿度为3.0×10‑2g/m2/24hr以下。