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公开(公告)号：CN117784294A
公开(公告)日：2024-03-29
申请号：CN202311237501.7
申请日：2023-09-25
Applicant: 日东电工株式会社
Abstract: 提供防反射薄膜及其制造方法、以及图像显示装置。防反射薄膜(101)在透明薄膜基材(1)的一个主面上具备底漆层(3)和防反射层(5)。防反射层为折射率不同的多个薄膜的层叠体。底漆层为导电性金属氧化物层。底漆层优选因紫外线照射而产生的电阻的变化小。底漆层的载流子迁移率优选为13.5cm2/V·s以下。本发明的防反射薄膜在应用于具备触摸传感器的图像显示装置的情况下，不易产生触摸传感器的检测的异常。
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公开(公告)号：CN119923581A
公开(公告)日：2025-05-02
申请号：CN202380067905.8
申请日：2023-09-13
Applicant: 日东电工株式会社
Abstract: 本发明的抗反射膜(10)依次具有透明膜基材(11)、硬涂层(12)、底漆层(13)以及抗反射层(14)。抗反射层(14)是折射率不同的多个薄膜的层叠体。底漆层(13)是以氧化铟锡为主成分的薄膜，且氧化锡相对于氧化铟与氧化锡的总和的量为15重量％以上。
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公开(公告)号：CN118027485A
公开(公告)日：2024-05-14
申请号：CN202311491078.3
申请日：2023-11-10
Applicant: 日东电工株式会社
Abstract: 适于使防污层实现良好透明外观性的带防污层的光学薄膜及其制造方法。该制法包括在透明基材薄膜(11)一面侧形成防污层(15)的工序；将剥离薄膜(16)的粘合面(16a)贴合于防污层(15)的工序；从防污层(15)将剥离薄膜(16)剥离的工序；将保护薄膜(17)的粘合面(17a)贴合于防污层(15)的工序。剥离薄膜(16)对防污层(15)的粘合力为0.008N/50mm以上。薄膜(Z)依次具备透明基材薄膜(11)、防污层(15)和保护薄膜(17)。保护薄膜(17)利用粘合面(17a)贴接于防污层(15)。去除保护薄膜后的防污层的厚度相对于具备保护薄膜状态下的防污层的厚度的比率为0.9以上1.0以下。
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公开(公告)号：CN115916528B
公开(公告)日：2024-03-12
申请号：CN202180046973.7
申请日：2021-07-13
Applicant: 日东电工株式会社
IPC: B32B27/00 , B32B7/023 , B32B7/02 , C23C14/34 , C23C14/06 , G02B1/18 , G02B1/14 , G02B1/115 , G02B1/113 , B32B9/00
Abstract: 本发明的带防污层的光学薄膜(F)朝着厚度方向(T)依次具备透明基材(10)和防污层(30)。防污层(30)的与透明基材(10)相反的表面(31)侧的、通过利用X射线光电子能谱法进行的元素分析而检测到的F相对于Si的比率在分析深度为1nm时为20以上。
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公开(公告)号：CN119053884A
公开(公告)日：2024-11-29
申请号：CN202380035494.4
申请日：2023-04-12
Applicant: 日东电工株式会社
Abstract: 抗反射膜(101)具备：硬涂膜(1)，在透明膜基材(10)的一个主面上具备硬涂层(11)；以及抗反射层(5)，设于硬涂层上。抗反射层包含至少一层高折射率层和至少一层低折射率层。高折射率层(51、53)是以氧化铌为主成分的薄膜，就距离硬涂层最远地配置的高折射率层(53)而言，膜厚为40nm以下且膜密度小于4.47g/cm3。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN117784295A
公开(公告)日：2024-03-29
申请号：CN202311237502.1
申请日：2023-09-25
Applicant: 日东电工株式会社
Abstract: 提供防反射薄膜及其制造方法、以及图像显示装置。防反射薄膜(101)在透明薄膜基材(1)的一个主面上具备底漆层(3)和防反射层(5)。防反射层为折射率不同的多个薄膜的层叠体。底漆层为氧化铟锡层，在X射线光电子能谱的C1s光谱中，优选532eV的峰强度为530eV的峰强度的0.93倍以下。底漆层的厚度优选为0.5～10nm。本发明的防反射薄膜在应用于具备触摸传感器的图像显示装置的情况下，不易产生触摸传感器的检测的异常。
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公开(公告)号：CN115835957B
公开(公告)日：2024-11-19
申请号：CN202180049236.2
申请日：2021-07-13
Applicant: 日东电工株式会社
IPC: B32B7/022 , G02B1/18 , G02B1/14 , G02B1/115 , G02B1/113 , C23C14/34 , C23C14/08 , C23C14/06 , B32B27/00 , B32B9/00 , B32B7/023
Abstract: 本发明的带防污层的光学薄膜(F)依次具备透明基材(11)、硬涂层(12)、无机氧化物基底层(13)和防污层(14)。防污层(14)是配置在无机氧化物基底层(13)上的干法涂布膜。防污层(14)的与无机氧化物基底层(13)相反一侧的表面(14a)的通过纳米压痕法而测得的25℃下的硬度为1.05GPa以上。
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公开(公告)号：CN115812033B
公开(公告)日：2024-10-15
申请号：CN202180049524.8
申请日：2021-07-13
Applicant: 日东电工株式会社
IPC: B32B7/022 , G02B1/18 , G02B1/14 , G02B1/115 , G02B1/113 , C23C14/34 , C23C14/08 , C23C14/06 , B32B27/00 , B32B9/00
Abstract: 本发明的带防污层的光学薄膜(F)依次具备透明基材(11)、硬涂层(12)、无机氧化物基底层(13)和防污层(14)。防污层(14)为配置在无机氧化物基底层(13)上的干法涂布膜。防污层(14)的与无机氧化物基底层(13)相反一侧的表面(14a)的、在温度为25℃且最大压痕深度为200nm的条件下利用纳米压痕法而测得的弹性恢复率为76％以上。
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公开(公告)号：CN117295611A
公开(公告)日：2023-12-26
申请号：CN202280034167.2
申请日：2022-12-06
Applicant: 日东电工株式会社
IPC: B32B37/14
Abstract: 本发明的带防污层的光学薄膜(F)的制造方法包括如下工序：边利用辊对辊方式搬运透明基材薄膜(10)边在该透明基材薄膜(10)的厚度方向(D)的一面侧形成防污层(23)。透明基材薄膜(10)的厚度方向(D)的另一面的表面自由能为45mN/m以下。本发明的带防污层的光学薄膜(F)具备透明基材薄膜(10)和防污层(23)，所述防污层(23)配置在透明基材薄膜(10)的厚度方向(D)的一面侧。透明基材薄膜(10)的厚度方向(D)的另一面的表面自由能为45mN/m以下。
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