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公开(公告)号：CN115373433A
公开(公告)日：2022-11-22
申请号：CN202211306426.0
申请日：2022-10-25
Applicant: 季华实验室
IPC: G05D3/12
Abstract: 本发明属于自动控制技术领域，公开了一种转台运动补偿方法、装置、设备及存储介质。该方法应用于曲柄滑块式转台，包括：确定初始条件参数，并根据初始条件参数构建转台控制函数；获取旋转组件对应的多个分段旋转角度；分别根据各个分段旋转角度驱动曲柄滑块式转台进行旋转，记录各分段对应的测量旋转角度；根据各分段对应的分段旋转角度和测量旋转角度计算转角偏差；根据转台控制函数将转角偏差转换为直线运动误差；根据直线运动误差对各分段下直线运动模块的直线运动位移进行补偿。通过上述方式，对转角进行校准，补偿直线运动模块的直线运动位移，提升了曲柄滑块式转台转角的控制精度。
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公开(公告)号：CN115309196A
公开(公告)日：2022-11-08
申请号：CN202211237952.6
申请日：2022-10-11
Applicant: 季华实验室
IPC: G05D3/12
Abstract: 本发明属于自动控制技术领域，公开了一种转台控制方法、装置、设备及存储介质。该方法应用于曲柄滑块式转台，包括：获取旋转组件对应的待旋转角度；基于预设函数关系根据待旋转角度计算目标距离；控制直线运动模块的运动距离达到目标距离。通过上述方式，建立直线运动距离与旋转角度之间的函数关系，利用函数关系结合旋转角度需求，控制直线运动模块的直线运动距离，实现了高精度控制转台的旋转角度。
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公开(公告)号：CN117969555A
公开(公告)日：2024-05-03
申请号：CN202410375031.9
申请日：2024-03-29
Applicant: 季华实验室
Abstract: 本发明公开了一种墨滴打印漏点检测方法、装置、设备及介质，将基板可活动地安装于基台，再使得基板的一侧面形成像素坑阵列，并使得像素坑阵列中包括多个沿预设打印方向依次排列的多个像素坑子阵列，再将打印模块以及视觉检测机构均位于像素坑阵列的上方，通过控制打印模块对多个像素坑子阵列中的目标像素子阵列填充墨滴以进行打印，并控制视觉检测机构采集上一完成打印子阵列的当前图像信息，根据当前图像信息，对上一完成打印子阵列进行漏点检测，在进行墨滴打印的打印过程中即可实现对基板上已完成打印的像素坑中是否存在漏点的情况进行即时检测，实现了对墨滴打印中的像素坑中存在的漏点进行实时检测的功能，节约打印时间，提升打印效率。
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公开(公告)号：CN116394657B
公开(公告)日：2023-08-15
申请号：CN202310663504.0
申请日：2023-06-06
Applicant: 季华实验室
IPC: B41J2/145
Abstract: 本申请属于打印技术领域，公开了一种多分辨率打印方法及装置，所述装置包括安装座，安装座能够绕z轴转动；至少两个喷头，每个喷头包括多个沿x轴方向以第一间隔等间隔排布的喷孔，各喷头沿y轴方向以第二间隔等间隔排布地设置在安装座上，且第二间隔可调；沿y轴方向，从第二个喷头起，各喷头的喷孔依次沿x轴的同一方向相对上一个喷头的喷孔偏移第一偏移距离，第一偏移距离与第一间隔满足关系：Of=No/M，其中Of为第一偏移距离，No为第一间隔，M为喷头的总数；从而能够实现多种分辨率的打印，且分辨率的调节范围大，适用性强。
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公开(公告)号：CN116190295A
公开(公告)日：2023-05-30
申请号：CN202310480227.X
申请日：2023-04-28
Applicant: 季华实验室
IPC: H01L21/68 , H01L21/683 , H01L33/00
Abstract: 本发明涉及半导体加工技术领域，特别涉及一种半导体元器件转移装置及转移方法，在使用转移印章对半导体元器件进行转移时对转移印章的运动精度进行准确测量的目的，进而能够提升转移印章与半导体元器件之间的对准精度，保证了制备的产品的良品率，解决了相关技术中转移印章与临时载板或驱动电路背板对齐后，仅依靠导轨的大行程上下运动无法保证Micro LED芯片的精确拾取或者准确放置到驱动电路背板预定位置，从而导致转移的良率下降，影响后续相关制程的技术问题。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN113437195B
公开(公告)日：2022-07-05
申请号：CN202110628372.9
申请日：2021-06-04
Applicant: 季华实验室
IPC: H01L33/48 , H01L21/683 , H01L21/67
Abstract: 本发明公开一种微型器件转移装置及转移方法，主题一包括控制模块、供给基板和转移头，所述供给基板的第一侧面设有若干列转移头，所述供给基板的第一侧面为朝所述供给基板方向弯曲的曲面，所述控制模块用于控制所述若干列转移头吸附和释放微型器件而转移微型器件。本发明通过转动供给基板使得若干列转移头上的微型器件依次与接收基板相接触，并利用控制模块控制若干列转移头依次释放微型器件，使得若干列转移头上的微型器件依次转移，由于采用分批分列的方式转移微型器件，从而有效提高微型器件巨量转移方式的转移良率，提高微型器件的生成效率。
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公开(公告)号：CN113437195A
公开(公告)日：2021-09-24
申请号：CN202110628372.9
申请日：2021-06-04
Applicant: 季华实验室
IPC: H01L33/48 , H01L21/683 , H01L21/67
Abstract: 本发明公开一种微型器件转移装置及转移方法，主题一包括控制模块、供给基板和转移头，所述供给基板的第一侧面设有若干列转移头，所述供给基板的第一侧面为朝所述供给基板方向弯曲的曲面，所述控制模块用于控制所述若干列转移头吸附和释放微型器件而转移微型器件。本发明通过转动供给基板使得若干列转移头上的微型器件依次与接收基板相接触，并利用控制模块控制若干列转移头依次释放微型器件，使得若干列转移头上的微型器件依次转移，由于采用分批分列的方式转移微型器件，从而有效提高微型器件巨量转移方式的转移良率，提高微型器件的生成效率。
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公开(公告)号：CN118362371A
公开(公告)日：2024-07-19
申请号：CN202410790923.5
申请日：2024-06-19
Applicant: 季华实验室
Abstract: 本发明涉及样品制造实验设备技术领域，本发明公开了一种压力控制热台及其控制方法，包括基座、设于基座上的施力机构、可竖向滑动地设于基座上的导向加压机构、设于基座上的对位机构、设于对位机构的输出端的加热台、以及控制器；施力机构包括升降组件、设于升降组件输出端的活动板、设于活动板上的压力传感器、以及设于活动板上的销轴；导向加压机构包括导向组件、设于导向组件上的下压组件、以及设于下压组件中部的载压板，下压组件与销轴滑动连接，并且销轴底部设有限位块；加热台包括均温板、以及温度传感器。本发明提供的压力控制热台及其控制方法，通过控温控压的方式来实现样品的制备，并且能够放置在显微镜下观察样品的微观反应过程。
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公开(公告)号：CN118282144A
公开(公告)日：2024-07-02
申请号：CN202410704246.0
申请日：2024-06-03
Applicant: 季华实验室
IPC: H02K15/03
Abstract: 本申请公开了一种阵列结构永磁体安装装置，属于磁浮电机技术领域，其包括：载物台、第一限位组件和第二限位组件。本申请提供的上述方案，当需要将永磁体放入到永磁阵列载体上时，只需要通过第一限位组件和第二限位组件的配合来限定一个位置，然后将永磁体放入到对应位置即可，随后在第一方向移动第一限位组件，在第二方向移动第二限位组件，以使得第一限位组件和第二限位组件重新限定出下一个位置，以此类推，就可以将多个永磁体放入到永磁阵列载体上。整体装置通过第一限位组件和第二限位组件的配合，有效降低了永磁体的贴装难度，提高了贴装效率。
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公开(公告)号：CN117245638A
公开(公告)日：2023-12-19
申请号：CN202311544430.5
申请日：2023-11-20
Applicant: 季华实验室
IPC: B25J9/10 , B25J9/00 , H02K41/03 , H02K41/035
Abstract: 本申请公开一种四自由度磁浮微动台及器件转移装置，涉及磁悬浮技术领域，其中，四自由度磁浮微动台包括动子，定子，且定子与动子平行设置；至少三个第一重力补偿件，三个第一重力补偿件呈三角形结构设置在动子和定子之间；至少两个第一旋转件，两个第一旋转件均设置在动子和定子之间，用于驱动微动台在Rz向的运动。本申请提供的上述方案，当给第一重力补偿件通电后就可以驱动微动台在Z、Rx和Ry向的运动；当给两个第一旋转件通电后，两个第一旋转件在磁场中产生的两个X轴向的洛伦茨力相反，此时，由于动子和定子在Z轴处于磁浮状态下，两个第一旋转件产生的力就能够带动动子或者定子在Rz向的运动，即实现驱动微动台在Rz向的运动。
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