公开(公告)号：CN100588980C

公开(公告)日：2010-02-10

申请号：CN200710191015.0

申请日：2007-12-05

Applicant: 南京大学

Inventor： 孟祥康 ,  操振华 ,  李平云 ,  刘澎 ,  徐春 ,  陆海鸣

IPC: G01R31/28

Abstract: 基于模拟IC真实服役条件的多场耦合装置，由主工作室、闸板阀、分子泵、机械泵、高压直流电源及控制柜、加热器组件、铜板、电场支撑杆、电场支撑杆和陶瓷垫支撑板构成，加热器组件被安装在铜板背部。实现了对电场与温度在高真空下的耦合，最大电场强度可达到2000V/cm，最高温度为800℃，真空可达3.0×10-4Pa。本发明提供了一种对IC服役工作条件的模拟，通过对电场和温度场在高真空下的耦合，对作为IC中重要的金属Cu内导线进行多场耦合下的处理实验，可以真实的反映Cu线在工作中的微结构特征与失效机制的变化，可为微电子元件与评估其工作寿命提供极具价值的实验数据。本发明装置简易，操作方便，实现效果良好。

公开(公告)号：CN101221211A

公开(公告)日：2008-07-16

申请号：CN200710191015.0

申请日：2007-12-05

Applicant: 南京大学

Inventor： 孟祥康 ,  操振华 ,  李平云 ,  刘澎 ,  徐春 ,  陆海鸣

IPC: G01R31/28

Abstract: 基于模拟IC真实服役条件的多场耦合装置，由主工作室、闸板阀、分子泵、机械泵、高压直流电源及控制柜、加热器组件、铜板、电场支撑杆、电场支撑杆和陶瓷垫支撑板构成，加热器组件被安装在铜板背部。实现了对电场与温度在高真空下的耦合，最大电场强度可达到2000V/cm，最高温度为800℃，真空可达3.0×10－4Pa。本发明提供了一种对IC服役工作条件的模拟，通过对电场和温度场在高真空下的耦合，对作为IC中重要的金属Cu内导线进行多场耦合下的处理实验，可以真实的反映Cu线在工作中的微结构特征与失效机制的变化，可为微电子元件与评估其工作寿命提供极具价值的实验数据。本发明装置简易，操作方便，实现效果良好。

公开(公告)号：CN102418078A

公开(公告)日：2012-04-18

申请号：CN201110419244.X

申请日：2011-12-14

Applicant: 南京大学

Inventor： 孟祥康 ,  操振华 ,  胡坤 ,  汪蕾 ,  佘茜玮 ,  李平云

IPC: C23C14/35 ,  C23C14/14

Abstract: 超高强度纳米晶金属Ru薄膜的制备方法，采用直流磁控溅射法，步骤为：衬底材料选用单晶Si片，先抽本底真空至1.5×10-5Pa，然后通入流量为20sccm的Ar气，通过分子泵阀门调节真空室真空度为5.0Pa，然后开始启辉，进行约30min的预溅射以保证薄膜的纯度，随后将真空度调至约1.1Pa开始生长Ru膜，直流磁控溅射功率保持为200W，对Ru靶进行约30min的预溅射；根据调节溅射时间来控制薄膜的厚度，薄膜厚度控制在1-2.5μm。最高硬度可达18.8GPa，约为粗晶Ru的8倍。该发明更好地保证了金属Ru膜在微电子器件中的应用，本发明具有良好的可控性与重复性。

公开(公告)号：CN104726826A

公开(公告)日：2015-06-24

申请号：CN201510137803.6

申请日：2015-03-27

Applicant: 南通南京大学材料工程技术研究院

Inventor： 孟祥康 ,  石俊 ,  操振华 ,  魏明真 ,  潘冠军

IPC: C23C14/18 ,  C23C14/58 ,  C23C14/34

Abstract: 本发明公开了一种超高硬度的Ti-Ni形状记忆合金薄膜的制备方法，采用磁控溅射法制备了Ti/Ni多层膜，以Ni/Ti/Ni/Ti/Ni的顺序沉积，在衬底和Ni层间添加5nm厚的Ti粘接层，严格控制Ti、Ni单层的调制比和调制周期，其中首次采用原位热沉积和高真空加热退火相结合来实现多层膜的合金化，制得的Ti-Ni合金薄膜无明显氧化现象；合金薄膜的硬度远高于共溅射合金薄膜的硬度，具有超高的硬度，并且该方法制备的合金薄膜具有优异的伪弹性。该方法通过引入界面强化作用，薄膜具有超高硬度；采用热沉积和高真空退火方法结合，既有利于Ti、Ni层的扩散和固相反应，实现充分合金化，又能避免合金化过程中薄膜氧化。该方法还具有很强的适用性，可以推广到其他种类合金薄膜的制备上。本发明操作简单，重复性好，清洁无污染，实现效果良好。

公开(公告)号：CN103954059A

公开(公告)日：2014-07-30

申请号：CN201410091209.3

申请日：2014-06-11

Applicant: 江苏奥蓝工程玻璃有限公司 ,  南京大学

Inventor： 黄林冲 ,  操振华 ,  石俊 ,  魏明真 ,  孟祥康

IPC: F24J2/48 ,  B32B9/00 ,  C23C14/58 ,  C23C14/35

CPC classification number: F24S70/30 ,  F24S70/20 ,  Y02E10/40

Abstract: 本发明公开了一种太阳能选择吸收复合涂层，依次包括底层金属片、热扩散阻挡层、吸收层和减反射层，其中热扩散阻挡层为Ta纳米层，吸收层为AlN-Ag纳米层，减反射层为AlN纳米层。本发明还公开了这种涂层的制备方法，包括底层金属片预处理、沉积吸收复合涂层和退火处理工序，其中沉积吸收复合涂层工序为采用三靶室温直流磁控溅射法，以金属Al、Ag和Ta为溅射靶材沉积吸收涂层采用电场进行退火处理。本发明将高熔点金属Ta引入吸收涂层作为扩散阻挡层，显著提高了涂层的热稳性以及界面结合力。采用电场退火对涂层进行处理，提高了涂层的吸收率。本发明操作简单方便，可控性好，清洁无污染，适合大规模产业化。

公开(公告)号：CN102392216A

公开(公告)日：2012-03-28

申请号：CN201110374157.7

申请日：2011-11-22

Applicant: 南京大学

Inventor： 孟祥康 ,  汪蕾 ,  操振华 ,  胡坤 ,  佘茜玮

IPC: C23C14/06 ,  C23C14/35 ,  H01L21/285

Abstract: 一种制备高热稳定性Ru/TaN双层扩散阻挡材料的制备方法，采用直流磁控溅射法，通过调节N气流量来实现对非晶TaN薄膜中N含量的精确控制，制备不同N含量的高性能双层Ru/TaN扩散阻挡层结构，有效工作稳定高达650℃。TaN薄膜中间隙的N原子在退火过程中扩散后可以提高Ru/TaN双层膜的扩散阻挡性能。通过对N含量的精确控制，可得到高热稳定性的双层Ru/TaN扩散阻挡材料并且仍然保持优良的电学性能，更好的保证了其实际应用。本发明操作简单，重复性好，实现效果良好。

公开(公告)号：CN101486869A

公开(公告)日：2009-07-22

申请号：CN200910024505.0

申请日：2009-02-18

Applicant: 南京大学

Inventor： 孟祥康 ,  陆洪彬 ,  胡勇 ,  顾敏豪 ,  唐少春 ,  朱少鹏 ,  陆海鸣 ,  操振华 ,  李平云

IPC: C09D133/08 ,  C09D5/08 ,  C09D163/02

Abstract: 高性能金属防护纳米涂层的制备方法，包括以下步骤：将稀释剂与纳米氧化物颗粒按照重量比40～100∶1进行球磨，得到纳米氧化物悬浮液；按2～3∶1重量比称量丙烯酸酯和其余共聚性单体得到混合单体，加入混合单体总重量80％的纳米氧化物悬浮液，并加入反应添加剂，所得混合物搅拌10min，得到原位聚合反应前驱液。氮气保护下，向反应容器内加入10％原位聚合反应前驱液，在1～8h反应时间内滴加剩余的70～90％原位聚合反应前驱液，滴加完毕后将反应体系温度升高至90℃保温0.5～2h；加入pH值调节剂并搅拌5～10min后得到纳米氧化物-丙烯酸树脂。添加环氧树脂和助剂等以球磨方法配制金属防护纳米涂料。