公开(公告)号：CN101664678A

公开(公告)日：2010-03-10

申请号：CN200910183351.X

申请日：2009-09-18

Applicant: 南京大学

Inventor： 孟祥康 ,  黄建峰 ,  陆洪彬 ,  韩发强 ,  顾敏豪 ,  胡坤 ,  陈兰 ,  唐少春 ,  陆海鸣

IPC: B01J23/52 ,  B01J23/50 ,  B01J35/02 ,  B01J37/00 ,  C23C18/42 ,  A62D3/00 ,  A62D101/28

Abstract: 一种高效催化活性纳米材料及其制备方法，在硅衬底上利用两次置换反应生长，为枝状的银/金双金属纳米结构，兼备枝状的形态和Ag/Au双金属的结构，相对贵的重金属金在相对便宜的金属银表面外延生长。由于兼备枝状形态和双金属结构在有机物的催化降解中表现出极其高效的催化活性。本发明两种金属中，相对贵重的金属仅仅是外延生长在相对价廉的金属的表面，可以大幅度的降低催化剂的成本，具有潜在的工业应用前景。本发明的制备方法仅仅利用两次普通的置换反应，装置简单，容易操作，可控性好；尤其是该制备方法还具有很强的适用性，可以推广到其他种类的枝状双金属结构，甚至多金属结构的纳米材料，在同类材料的制备方法中存在较大优势。

公开(公告)号：CN102418078A

公开(公告)日：2012-04-18

申请号：CN201110419244.X

申请日：2011-12-14

Applicant: 南京大学

Inventor： 孟祥康 ,  操振华 ,  胡坤 ,  汪蕾 ,  佘茜玮 ,  李平云

IPC: C23C14/35 ,  C23C14/14

Abstract: 超高强度纳米晶金属Ru薄膜的制备方法，采用直流磁控溅射法，步骤为：衬底材料选用单晶Si片，先抽本底真空至1.5×10-5Pa，然后通入流量为20sccm的Ar气，通过分子泵阀门调节真空室真空度为5.0Pa，然后开始启辉，进行约30min的预溅射以保证薄膜的纯度，随后将真空度调至约1.1Pa开始生长Ru膜，直流磁控溅射功率保持为200W，对Ru靶进行约30min的预溅射；根据调节溅射时间来控制薄膜的厚度，薄膜厚度控制在1-2.5μm。最高硬度可达18.8GPa，约为粗晶Ru的8倍。该发明更好地保证了金属Ru膜在微电子器件中的应用，本发明具有良好的可控性与重复性。

公开(公告)号：CN101664678B

公开(公告)日：2011-08-17

申请号：CN200910183351.X

申请日：2009-09-18

Applicant: 南京大学

Inventor： 孟祥康 ,  黄建峰 ,  陆洪彬 ,  韩发强 ,  顾敏豪 ,  胡坤 ,  陈兰 ,  唐少春 ,  陆海鸣

IPC: B01J23/52 ,  B01J23/50 ,  B01J35/02 ,  B01J37/00 ,  C23C18/42 ,  A62D3/00 ,  A62D101/28

Abstract: 一种高效催化活性纳米材料及其制备方法，在硅衬底上利用两次置换反应生长，为枝状的银/金双金属纳米结构，兼备枝状的形态和Ag/Au双金属的结构，相对贵的重金属金在相对便宜的金属银表面外延生长。由于兼备枝状形态和双金属结构在有机物的催化降解中表现出极其高效的催化活性。本发明两种金属中，相对贵重的金属仅仅是外延生长在相对价廉的金属的表面，可以大幅度的降低催化剂的成本，具有潜在的工业应用前景。本发明的制备方法仅仅利用两次普通的置换反应，装置简单，容易操作，可控性好；尤其是该制备方法还具有很强的适用性，可以推广到其他种类的枝状双金属结构，甚至多金属结构的纳米材料，在同类材料的制备方法中存在较大优势。

公开(公告)号：CN107641790A

公开(公告)日：2018-01-30

申请号：CN201710843032.1

申请日：2017-09-18

Applicant: 南京大学

Inventor： 操振华 ,  胡坤 ,  马玉洁 ,  孙超 ,  孟祥康

IPC: C23C14/20 ,  C23C14/02 ,  C23C14/35 ,  C23C28/02

Abstract: 本发明公开了一种同时具有膜层厚度与晶粒尺寸均呈梯度结构金属薄膜的制备方法，该梯度结构金属薄膜兼具高强度和高延展性，表现出优异的综合力学性能。与传统的自上而下(Top-down)的方法不同，我们另辟蹊径，采用自下而上(Bottom-up)的方法来制备微纳米尺度的梯度结构薄膜，即利用高真空直流磁控溅射技术，巧妙的引入热稳定性高的超薄分隔层(1nm Ta)，将金属薄膜分隔层厚度呈梯度变化的多层结构，然后，通过中温退火，进一步改善晶粒尺寸的梯度分布，从而获得膜层厚度与晶粒尺寸同时呈梯度变化的非匀质梯度结构薄膜。薄膜层提供高强度，厚膜层维持高延展性，使得梯度薄膜兼具了高强度与高延展性的特点。该方法还具有很强的适用性，可以推广到其他各种金属以及金属化合物薄膜上。本发明清洁无污染，成本低，具有良好的实现效果。

公开(公告)号：CN102392216A

公开(公告)日：2012-03-28

申请号：CN201110374157.7

申请日：2011-11-22

Applicant: 南京大学

Inventor： 孟祥康 ,  汪蕾 ,  操振华 ,  胡坤 ,  佘茜玮

IPC: C23C14/06 ,  C23C14/35 ,  H01L21/285

Abstract: 一种制备高热稳定性Ru/TaN双层扩散阻挡材料的制备方法，采用直流磁控溅射法，通过调节N气流量来实现对非晶TaN薄膜中N含量的精确控制，制备不同N含量的高性能双层Ru/TaN扩散阻挡层结构，有效工作稳定高达650℃。TaN薄膜中间隙的N原子在退火过程中扩散后可以提高Ru/TaN双层膜的扩散阻挡性能。通过对N含量的精确控制，可得到高热稳定性的双层Ru/TaN扩散阻挡材料并且仍然保持优良的电学性能，更好的保证了其实际应用。本发明操作简单，重复性好，实现效果良好。