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公开(公告)号：CN101736313B
公开(公告)日：2011-07-06
申请号：CN200810227328.1
申请日：2008-11-26
Applicant: 北京有色金属研究总院
Abstract: 本发明涉及一种等离子体化学气相沉积在锗基片上制备类金刚石膜的方法，包括以下步骤：(1)将锗基片放置在腔体阴极板上；(2)抽腔体真空，随后通入CH4气体，调整腔体气压，平衡3-5分钟；(3)射频电源起辉，调节功率；(4)调整工作气压30～45Pa，CH4气体流量在20～30sccm，调节匹配电容使得反射功率达到最小；(5)沉积14～18分钟后，关闭射频电源；(6)冷却10分钟以后，取出锗(Ge)基片，清理腔体；(7)再次放入锗(Ge)基片，抽腔体真空，射频电源起辉，轰击样品70～90s后，关闭射频电源，继续抽高真空；(8)重复进行二次沉积。该方法沉积速度快、沉积面积大、工艺相对简便。该方法得到的类金刚石膜，对锗(Ge)基片具有良好的增透和保护作用。
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公开(公告)号：CN101736313A
公开(公告)日：2010-06-16
申请号：CN200810227328.1
申请日：2008-11-26
Applicant: 北京有色金属研究总院
Abstract: 本发明涉及一种等离子体化学气相沉积在锗基片上制备类金刚石膜的方法，包括以下步骤：(1)将锗基片放置在腔体阴极板上；(2)抽腔体真空，随后通入CH4气体，调整腔体气压，平衡3-5分钟；(3)射频电源起辉，调节功率；(4)调整工作气压30～45Pa，CH4气体流量在20～30sccm，调节匹配电容使得反射功率达到最小；(5)沉积14～18分钟后，关闭射频电源；(6)冷却10分钟以后，取出锗(Ge)基片，清理腔体；(7)再次放入锗(Ge)基片，抽腔体真空，射频电源起辉，轰击样品70～90s后，关闭射频电源，继续抽高真空；(8)重复进行二次沉积。该方法沉积速度快、沉积面积大、工艺相对简便。该方法得到的类金刚石膜，对锗(Ge)基片具有良好的增透和保护作用。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN2936401Y
公开(公告)日：2007-08-22
申请号：CN200620119117.2
申请日：2006-08-15
Applicant: 北京有色金属研究总院
IPC: B01D47/02
Abstract: 本实用新型公开了一种对真空设备尾气处理的装置，它包括：在泵抽系统的排气口管路上接一三通阀，三通阀的一路直接通向大气的排气口；另一路接尾气处理槽的进气口，尾气处理槽的出气口再接通向大气的排气口；两路之间靠三通阀转换；所述的有害气体尾气处理槽内置有气体处理液，上设有气体处理液加液口，下设排液口。所述的尾气处理槽还设有观液窗。
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公开(公告)号：CN203034086U
公开(公告)日：2013-07-03
申请号：CN201220736080.3
申请日：2012-12-27
Applicant: 北京有色金属研究总院
IPC: C23C14/28
Abstract: 一种激光束自动移位控制装置，包括支撑台，传动系统和透镜架；电机固定在支撑台上，电机的输出轴轴向与支撑台垂直，其下端焊接一“ㄈ”形连接片，该连接片下部平面与支撑台平行；平面上开有控制移位范围的限位槽，滑块通过滑块轴固定在限位槽上；滑块中开有通孔；滑杆穿过通孔，两者为滑动配合；滑杆的轴向平行于支撑台；轴套用螺栓固定在支撑台下方，轴套下部以轴承连接转轴；转轴中间部位与滑杆用紧定螺钉连接，转轴与滑杆非同轴；转轴下端与连杆相连接；定位销的销杆依次穿过透镜夹持器和限位块；定位销固定在连杆末端。该装置配合靶材的自转，可以保证聚焦激光束对靶材表面均匀扫描，实现薄膜的均匀沉积。
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公开(公告)号：CN202398936U
公开(公告)日：2012-08-29
申请号：CN201120508149.2
申请日：2011-12-08
Applicant: 北京有色金属研究总院
Abstract: 一种薄金属长带焊接的辅助装置，包括：一个支撑底座，其上固定有至少一个手把，在一端面上开有和点焊机下电极部件宽度匹配的口；一个薄带限位台，固定在支撑底座上，在其整个长度方向上开有和薄带宽度一致的限位槽，限位槽底面与点焊机下电极上平面平齐，薄带限位台的中间区域上开有和限位槽相互垂直的槽，该槽的横截面形状及大小与点焊机下电极相匹配；一对能实现薄带收放的薄带收放装置，分别对称放置在薄带限位台长度方向的两侧端，通过卷带轮支座固定在支撑底座上，该薄带收放装置收前和放后的薄带位置与薄带限位台的限位槽内底面平齐。利用其可以保证长带在焊接过程中不会扭折或弯曲，焊点精确可控，操作简单方便，且不改变现有点焊机结构。
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公开(公告)号：CN201569494U
公开(公告)日：2010-09-01
申请号：CN200920277968.3
申请日：2009-12-18
Applicant: 北京有色金属研究总院
Abstract: 本实用新型公开了一种多维精控红外测温装置，包括红外测温装置、用于与所测设备连接的底座结合装置，该底座结合装置至少带有一腔体底座连接板；支撑棒底板，该支撑棒底板上具有直立的支撑棒；夹持器，具有能套设在支撑棒上且可控夹紧度的单元结构；所述的红外测温装置通过一具有仰角的连接架固定在一主工作台上，该主工作台由下至上依次安装纵向精密平移台、横向精密平移台和精密角度位移台；主工作台坐落在一支撑连接装置的底板尾端，该连接装置与夹持器固定连接。其方便与被测设备的连接固定，且能从正面工作位90°旋转到侧面空位隐蔽位，同时能进行横向、纵向、前后角度的精确调控；结构牢固稳定、操作快捷方便。
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公开(公告)号：CN2582004Y
公开(公告)日：2003-10-22
申请号：CN02282203.8
申请日：2002-10-15
Applicant: 北京有色金属研究总院
Abstract: 一种高温超导体带材压接临界电流测量装置，其设有两块支板，在两支板的下部横向连接有固定杆，在两支板的上部横向连接有两滑杆，在两滑杆上穿接有滑块，在滑块的中部纵向穿过螺纹连接有触杆，在触杆内设置有弹簧，在该弹簧的下端设置有上段粗下段细的触头，该触头的下段伸出触杆的下端。在所述的滑块的侧面上连接有接线柱，在接线柱与触头之间连接有引线。所述的在触头的下端焊接有软柔性的铟材料。所述的两支板内下部设有管孔，在管孔的外侧上部设置有调节压板，该压板上设有两个纵向的槽孔，在槽孔内穿接有与支板连接的螺栓。本实用新型的优点是：结构简单、使用方便、可提高测量性质和效率；既减少了带材的损失，又可以测量出更多的信息。
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