公开(公告)号：CN111290223A

公开(公告)日：2020-06-16

申请号：CN201911232783.5

申请日：2019-12-05

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 本间英晃 ,  张劬 ,  木岛涉 ,  根谷尚稔

IPC: G03F9/00 ,  G03F7/20

Abstract: 本发明涉及成型方法、系统、光刻装置、物品的制造方法及存储介质，提供对提高图案的形成精度有利的技术。使用第一装置和第二装置在基板上的一个层形成图案的成型方法包括：第一测量工序，在第一装置中，测量在所述基板上形成的标记的位置；第一形成工序，基于要形成第一图案的目标位置，在第一装置中在所述基板上形成所述第一图案；第二测量工序，在第二装置中，测量所述标记的位置；第二形成工序，在第二装置中，在所述基板上形成第二图案，其中，在所述第二形成工序中，基于在所述第一测量工序中测量出的所述标记的位置与在所述第二测量工序中测量出的所述标记的位置之差，决定在所述第二装置中在所述基板上形成所述第二图案的位置。

公开(公告)号：CN109932870A

公开(公告)日：2019-06-25

申请号：CN201811521277.3

申请日：2018-12-13

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 张劬 ,  伊藤正裕 ,  川端宣幸 ,  雨宫靖 ,  土井贤 ,  黑泽良昭 ,  金田崇

IPC: G03F7/20

Abstract: 本公开涉及测量方法、测量装置、曝光装置以及物品制造方法。测量方法具有：第1工序，将把具有多个第1标记的第1图案转印到基板的拍摄区曝光，一边以不产生与相邻拍摄区的重复的方式在行方向以及列方向上分别错开一边进行多次，从而在行方向以及列方向上分别形成多个第1图案；第2工序，将把具有多个第2标记和位于该多个第2标记的周边的多个周边标记的第2图案转印到基板的拍摄区曝光，一边以使相邻拍摄区的一部分区域重复的方式在行方向以及列方向上分别错开一边进行多次，从而在行方向以及列方向上分别形成多个第2图案；以及第3工序，根据转印到基板的第1标记与第2标记的偏离量和一部分区域中的周边标记彼此的偏离量求出畸变。