公开(公告)号：CN101528465A

公开(公告)日：2009-09-09

申请号：CN200780038955.4

申请日：2007-10-05

Applicant: 伊斯曼柯达公司

Inventor： J·帕特尔 ,  S·萨赖亚 ,  T·陶

IPC: B41C1/10

CPC classification number: B41C1/1016 ,  B41C2201/04 ,  B41C2201/14 ,  B41C2210/02 ,  B41C2210/06 ,  B41C2210/14 ,  B41C2210/22 ,  B41C2210/24 ,  B41C2210/262 ,  B41M5/368 ,  Y10S430/165

Abstract: 本发明涉及正性可成像元件，所述元件包含辐射吸收化合物和具有亲水表面的基材上的内层和外层。所述内层包含两种不同的聚合物基料的组合，其中一种基料的酸值至少为30，所述聚合物组合提供改进的显影后可烘烤性(在更低的温度下更快地烘烤或固化)和理想的数字成像速度而无耐化学品性的损失。

公开(公告)号：CN101321632A

公开(公告)日：2008-12-10

申请号：CN200680045164.X

申请日：2006-11-21

Applicant: 伊斯曼柯达公司

Inventor： S·萨赖亚 ,  J·帕特尔 ,  T·陶 ,  K·B·雷 ,  F·E·米克尔 ,  J·L·马利根 ,  J·卡拉门 ,  S·A·贝克利 ,  E·克拉克

IPC: B41M5/36 ,  B41C1/10 ,  G03F7/039

CPC classification number: B41C1/1008 ,  B41C1/1016 ,  B41C2210/02 ,  B41C2210/04 ,  B41C2210/06 ,  B41C2210/14 ,  B41C2210/22 ,  B41C2210/24 ,  B41C2210/262 ,  B41M5/368 ,  G03F7/033 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/111 ,  Y10S430/165

Abstract: 本发明涉及单层和多层的可成像元件，其具有基材和至少一层可成像层。这些元件可以用于制备负性或正性工作的成像元件，例如作为石印板。可成像元件还包含辐射吸收性化合物和耐溶剂聚合物，所述聚合物含有聚合物主链和磷酸侧基、金刚烷基侧基或这两种侧基。当此聚合物含有金刚烷基侧基时，这些侧基经由脲或氨酯连接基与所述聚合物的主链连接。由于存在独特的耐溶剂聚合物，可成像元件具有改进的耐化学品性和热烘烤性。

公开(公告)号：CN101296798A

公开(公告)日：2008-10-29

申请号：CN200680039959.X

申请日：2006-10-16

Applicant: 伊斯曼柯达公司

Inventor： J·黄 ,  S·萨赖亚 ,  K·B·雷 ,  A·P·基特森 ,  E·L·谢里夫 ,  A·克雷布斯

IPC: B41C1/10 ,  B41M5/36

CPC classification number: B41C1/1016 ,  B41C2210/02 ,  B41C2210/06 ,  B41C2210/14 ,  B41C2210/22 ,  B41C2210/24 ,  B41C2210/262 ,  B41M5/368 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/111 ,  Y10S430/165

Abstract: 正片型可成像元件包含内层和外层及辐射吸收化合物，例如IR吸收染料。内层包括可使用碱性显影剂去除的聚合材料。油墨接受性外层在暴露在成像辐射之前不能使用碱性显影剂去除。该外层包括具有在曝光过程中基本不反应的环氧侧基的聚合物基料。