一种多维纳米位移装置
    11.
    发明公开

    公开(公告)号:CN111739830A

    公开(公告)日:2020-10-02

    申请号:CN202010719317.6

    申请日:2020-07-23

    Abstract: 本发明公开了一种多维纳米位移装置,包括固定框架、移动框架、移动台、第一驱动装置和第二驱动装置,移动框架套在移动台外周并与移动台形成柔性连接,且移动框架内壁与移动台外壁之间有间隙,固定框架套在移动框架外周并与移动框架形成柔性连接,固定框架内壁与移动框架外壁之间有间隙,移动台中部用于放置待测样品,固定框架的一侧框上固定设有至少两个第一驱动装置,第一驱动装置驱动移动框架和移动台往复移动,移动框架的一侧框上固定设有至少一个第二驱动装置,第二驱动装置驱动移动台往复移动,第一驱动装置的驱动方向与第二驱动装置的驱动方向垂直,该多维纳米位移装置能够提高重载大行程的纳米位移精度,以及修正运动过程中的偏摆。

    一种多维纳米位移装置
    12.
    实用新型

    公开(公告)号:CN212209444U

    公开(公告)日:2020-12-22

    申请号:CN202021474545.3

    申请日:2020-07-23

    Abstract: 本实用新型公开了一种多维纳米位移装置,包括固定框架、移动框架、移动台、第一驱动装置和第二驱动装置,移动框架套在移动台外周并与移动台形成柔性连接,且移动框架内壁与移动台外壁之间有间隙,固定框架套在移动框架外周并与移动框架形成柔性连接,固定框架内壁与移动框架外壁之间有间隙,移动台中部用于放置待测样品,固定框架的一侧框上固定设有至少两个第一驱动装置,第一驱动装置驱动移动框架和移动台往复移动,移动框架的一侧框上固定设有至少一个第二驱动装置,第二驱动装置驱动移动台往复移动,第一驱动装置的驱动方向与第二驱动装置的驱动方向垂直,该多维纳米位移装置能够提高重载大行程的纳米位移精度,以及修正运动过程中的偏摆。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利

    一种落射式紫外光学显微镜光源多维调节机构

    公开(公告)号:CN212207832U

    公开(公告)日:2020-12-22

    申请号:CN202020635834.0

    申请日:2020-04-24

    Abstract: 本实用新型公开一种落射式紫外光学显微镜光源多维调节机构,主要包括用于转换光路的落射照明盒、支撑零部件用的笼杆、安装各种透镜的笼板、光圈可调的可变光阑以及安装并调节紫外光源用的光学调整架。通过调节安装透镜的笼板和安装紫外光源的光学调整架在笼杆上的位置,能够实现成像要求的紫外光源的消色差、扩束和准直,通过移动可变光阑上的拨杆,能够调节紫外光源入射到落射照明盒的光束范围,通过调节安装紫外光源的光学调整架上面的旋转调节螺钉,能够实现紫外光源在俯仰、偏摆方向的微调,紫外光学显微镜在三种紫外光源调节方式下,互相配合,共同作用,从而达到高分辨率成像的显微镜光源需求。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利

    摩擦试验机
    14.
    外观设计

    公开(公告)号:CN306920832S

    公开(公告)日:2021-11-05

    申请号:CN202130359809.4

    申请日:2021-06-10

    Abstract: 1.本外观设计产品的名称:摩擦试验机。
    2.本外观设计产品的用途:用于摩擦实验。
    3.本外观设计产品的设计要点:在于形状与图案的结合。
    4.最能表明设计要点的图片或照片:立体图。
    5.本外观设计产品的底面为使用时不容易看到或看不到的部位,省略仰视图。

Patent Agency Ranking