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公开(公告)号：CN102788683B
公开(公告)日：2015-04-22
申请号：CN201210319870.6
申请日：2012-08-31
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
IPC: G01M11/02
Abstract: 一种基于牛顿法和泰伯效应的微透镜阵列焦距的检测方法，属于光学检测领域。利用郎奇光栅的泰伯效应，平行光经过郎奇光栅的泰伯自成像周期与光栅周期一致，将星点板置于被测微透镜的物方焦点位置；利用微移台调节星点板并确定星点板的焦物距；由光栅的泰伯自成像周期变化可计算出星点板离焦时，微透镜出射球面波前的曲率半径即微透镜成像的像距；根据像距与焦像距的位置关系，结合牛顿公式，可完成微透镜的焦距测量。该方法操作简便易行，且具有较高的测量精度。
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公开(公告)号：CN102494873B
公开(公告)日：2014-05-07
申请号：CN201110369257.0
申请日：2011-11-20
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
IPC: G01M11/02
Abstract: 本发明提供一种微透镜阵列焦距的测量方法，该方法结合清晰度函数定焦分析，利用光栅衍射分光的原理测量微透镜阵列焦距，平行入射光经过光栅后，由于高级次衍射光光强较小可忽略，其出射光被分成3束：0级、+1级和-1级，通过测量光栅分光后在微透镜各个子孔径中的0级和±1级的光斑中心距，完成对微透镜阵列焦距的测量。同时，利用该方法一次采集图像可完成对多个子孔径的测量，适合于阵列数较多的微透镜焦距测量。本发明由于光栅分光角度由光栅周期和测量波长确定，相比较传统的转角法测量，该方法无需转台，操作简便易行。
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公开(公告)号：CN102661849A
公开(公告)日：2012-09-12
申请号：CN201210106803.6
申请日：2012-04-12
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
Abstract: 本发明提供一种检测微透镜阵列焦距的方法，首先在微透镜阵列的顶点附近采集第一组图像；然后在微透镜阵列焦点附近采集二组图像；利用数字图像清晰度函数分析，分别确定微透镜阵列的各个单元的顶点、焦点位置；计算得出两次定焦测量的位置差，即为微透镜阵列各个单元的焦距。相比较干涉仪测量法，本发明利用软件方面的图像分析计算代替硬件上的干涉仪定焦，测量成本更低，操作简便、易行，操作简便易行。同时，利用该方法一次采集图像可完成对多个阵列的测量，适合于阵列数较多的微透镜焦距测量。
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公开(公告)号：CN115493710B
公开(公告)日：2025-01-03
申请号：CN202210987611.4
申请日：2022-08-17
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
Abstract: 本发明公开了一种通用于提高四波横向剪切干涉仪检测灵敏度的方法，属于光学精密检测领域。该方法只需要采样一幅干涉条纹图，通过条纹处理即可将四波横向剪切干涉仪波前斜率灵敏度提升两倍。本发明的优点在于解决了传统四波横向剪切干涉仪需要调整光栅与相机靶面的距离来提升灵敏度、操作复杂、调整误差大的问题。原理清晰，操作方便。
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公开(公告)号：CN113917645B
公开(公告)日：2023-03-31
申请号：CN202111285268.0
申请日：2021-11-01
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
IPC: G02B7/02
Abstract: 本发明提供一种镜片弹性支撑装置，包括：镜框、刚性支撑、弹性支撑、弹性压块。镜框开有一圆孔，底部有一台阶面，三个刚性支撑均匀安装在镜框底部台阶面上，每两个刚性支撑之间均匀地安放5个弹性支撑；在镜框顶面上设计有三个台阶，分别作为第一弹性压块、第二弹性压块、第三弹性压块的安装位置，三个位置分别位于三个刚性支撑的对面。采用这样的支撑结构，可以保证每个弹性支撑点及刚性支撑点与镜片充分接触，释缓镜片内部的重力变形，并减小顶部压紧过程中镜片的变形，保证镜片的面形，提高成像质量。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN113917645A
公开(公告)日：2022-01-11
申请号：CN202111285268.0
申请日：2021-11-01
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
IPC: G02B7/02
Abstract: 本发明提供一种镜片弹性支撑装置，包括：镜框、刚性支撑、弹性支撑、弹性压块。镜框开有一圆孔，底部有一台阶面，三个刚性支撑均匀安装在镜框底部台阶面上，每两个刚性支撑之间均匀地安放5个弹性支撑；在镜框顶面上设计有三个台阶，分别作为第一弹性压块、第二弹性压块、第三弹性压块的安装位置，三个位置分别位于三个刚性支撑的对面。采用这样的支撑结构，可以保证每个弹性支撑点及刚性支撑点与镜片充分接触，释缓镜片内部的重力变形，并减小顶部压紧过程中镜片的变形，保证镜片的面形，提高成像质量。
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公开(公告)号：CN113568281A
公开(公告)日：2021-10-29
申请号：CN202110861967.9
申请日：2021-07-29
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
Abstract: 本发明涉及一种应用于投影光刻机的大视场投影曝光物镜系统，其作用是把投影光刻机掩模版上的图形经过成像复制后转移到硅片上。本发明所涉及的大视场投影曝光物镜系统由20片透镜组成，物镜系统分辨力700nm，放大倍率为‑0.25倍，曝光视场44mm×44mm。本投影曝光物镜系统共轭距(物方到像方)为L＝740mm，系统结构紧凑；同时，选用对i线(365nm)透过率较高的玻璃材料，提高系统光学透过率，采用球面校正系统场曲、畸变和波像差，满足大视场投影光刻机的高精度及高产率需求。
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公开(公告)号：CN112415865A
公开(公告)日：2021-02-26
申请号：CN202011382807.8
申请日：2020-12-01
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明涉及一种应用于投影光刻机的单倍率大视场投影曝光物镜，其作用是把投影光刻机掩模版上的图形经过成像复制后转移到硅片上。投影曝光物镜是光刻机的核心部件，决定了光刻机的主要性能。本发明所涉及的单倍率投影曝光物镜由12片透镜组成，其光学结构为双方远心结构。物镜分辨力6μm，放大倍率为‑1，曝光视场为110mm×110mm。本投影物镜共轭距总长(物方到像方)为L＝1000mm，系统结构紧凑；同时，选用对i线(365nm)透过率较高的玻璃材料，提高系统光学透过率，满足大视场投影光刻机的高精度及高产率需求。
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公开(公告)号：CN104199175B
公开(公告)日：2016-08-24
申请号：CN201410477962.6
申请日：2014-09-18
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
Abstract: 本发明涉及一种应用于投影光刻机的大视场投影曝光物镜，其作用是把投影光刻机掩模版上的图形经过成像复制后转移到硅片上。投影曝光物镜是光刻机的核心部件，决定了光刻机的主要性能。本发明所涉及的大视场投影曝光物镜由26片透镜组成，物镜分辨力1.5μm，放大倍率为?1.25倍，曝光视场132mm×132mm。本投影曝光物镜采用4面非球面校正系统场曲、畸变和波像差；同时，选用对i线(365nm)透过率较高的玻璃材料，提高系统光学透过率，满足大视场投影光刻机的高精度及高产率需求。
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公开(公告)号：CN103837967B
公开(公告)日：2016-05-18
申请号：CN201410076527.2
申请日：2014-03-04
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
Abstract: 本发明公开了一种大视场高数值孔径的i-line光刻机投影物镜，其采用了双远心、25片4组结构，其中使用了5个低阶非球面来平衡像差。物镜的像方有效视场为132×132mm，像方数值孔径可以达到0.17。经过面型优化和微调后，能有效地解决国内现有大面积平板光刻设备的分辨率低、图像传递能力差的问题。
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