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公开(公告)号：CN115981109A
公开(公告)日：2023-04-18
申请号：CN202211672168.8
申请日：2022-12-23
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
Abstract: 本公开提供一种间隙检测系统，用于检测模板和基板之间的全局间隙数据，包括：支撑框架；模板架，包括检焦模块，用于实时监测模板与基板之间的间隙数据；工件台模块，包括承片台，用于调整基板的位置和姿态；正立面形检测模块，用于对基板进行检测，得到第一面形数据；折转面形检测模块，可在检测位置、避让位置之间进行位置切换，用于对模板进行检测，得到第二面形数据；控制系统，用于获取模板、基板的位置数据以及正立面形检测模块、折转面形检测模块的标定数据，在获取模板与基板间的倾斜角度后，用于结合位置数据、标定数据、第一面形数据和第二面形数据计算得到模板与基板之间的全局间隙数据。
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公开(公告)号：CN111829457B
公开(公告)日：2022-06-10
申请号：CN202010655627.6
申请日：2020-07-09
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
Abstract: 本发明公开了一种基于结构光照明显微系统的超薄膜器件三维形貌检测方法。该方法利用等相位变化结构光条纹图案投影在被测物表面，并使用上位机进行z向扫描，用相移法获得条纹调制度随扫描距离的变化曲线，然后通过峰值提取结合非线性拟合的算法，得到精确的峰值位置，进一步计算被测物的膜层厚度与三维形貌。本发明在精确测量超薄膜器件的膜层厚度的同时，也能快速地获得其三维形貌结构，具有非破坏性、高测量效率、高精度、应用范围广等优点。
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公开(公告)号：CN112415865A
公开(公告)日：2021-02-26
申请号：CN202011382807.8
申请日：2020-12-01
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明涉及一种应用于投影光刻机的单倍率大视场投影曝光物镜，其作用是把投影光刻机掩模版上的图形经过成像复制后转移到硅片上。投影曝光物镜是光刻机的核心部件，决定了光刻机的主要性能。本发明所涉及的单倍率投影曝光物镜由12片透镜组成，其光学结构为双方远心结构。物镜分辨力6μm，放大倍率为‑1，曝光视场为110mm×110mm。本投影物镜共轭距总长(物方到像方)为L＝1000mm，系统结构紧凑；同时，选用对i线(365nm)透过率较高的玻璃材料，提高系统光学透过率，满足大视场投影光刻机的高精度及高产率需求。
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公开(公告)号：CN109341574B
公开(公告)日：2020-10-16
申请号：CN201811155972.2
申请日：2018-09-30
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
IPC: G01B11/24
Abstract: 本发明是一种基于结构光的微纳结构三维形貌高速检测方法。采用结构光投影装置投射出的正弦光栅条纹与光轴成一定角度θ，然后投影到待测物体表面上，通过CCD相机采集图像。对采集的图像通过傅里叶变换滤波算法计算得到正弦光栅在物体表面的调制度分布,进而可得到每一个像素点在不同水平扫描位置的调制度曲线，最后提取出调制度最大值所在位置即可实现形貌恢复。本发明不仅可以实现对非周期性的微纳结构的连续性测量，同时还保留了垂直测量的优点，具有很高的检测精度和效率。
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公开(公告)号：CN108120393B
公开(公告)日：2020-03-20
申请号：CN201711370231.1
申请日：2017-12-19
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
IPC: G01B11/24
Abstract: 本发明公开了一种多光场调制的三维形貌测量方法，待测三维物体的衍射光场与参考光场干涉形成原始全息条纹，两束调制光束干涉形成干涉条纹，原始全息条纹与调制光干涉条纹发生非相干叠加后由光电探测器采集，通过解调算法从采集得到的条纹图像中解调出原始全息条纹，再通过数字全息重建算法恢复出待测三维物体形貌，实现对三维形貌的测量。本发明中通过调制光场的引入将原始全息条纹的高频信息调制为能够被探测器采集的低频信息，然后通过算法解调出原始高频信息，在使用相同分辨率探测器情况下能够提高三维形貌测量的分辨率。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN110715616A
公开(公告)日：2020-01-21
申请号：CN201910972508.0
申请日：2019-10-14
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
IPC: G01B11/24
Abstract: 本发明是一种基于聚焦评价算法的结构光微纳三维形貌测量方法，传统的基于聚焦评价函数的三维测量方法具有测量系统简单、无损伤等特点，但由于其本质是根据物体本身纹理信息对聚焦程度进行判断，对于表面结构光滑、纹理不足的物体难以测量。本发明提出了一种结合结构光照明和聚焦评价函数的三维形貌轮廓术，可以实现对光滑和粗糙表面共存的物体测量。在测量系统中，将DMD产生的图案投影到物体表面，纵向扫描物体获得待处理图片，对于一个像素点而言，在图像序列中表现为从模糊到清晰再到模糊的过程，其中使用聚焦评价算法定位像素点成像最清晰的图片位置，再结合曲线拟合算法提取精确聚焦位置，遍历所有像素点即可获取物体三维形貌。
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公开(公告)号：CN109596065A
公开(公告)日：2019-04-09
申请号：CN201811500264.8
申请日：2018-12-07
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
IPC: G01B11/24
Abstract: 本发明公开了一种基于时域相移算法的高精度微纳三维测量方法，根据纵向每移动一次物体相应投影一幅相移条纹，扫描次数和投影的具有一定相位差的条纹图一一对应，CCD同步采集到携带物体高度信息的条纹图，进而通过相应算法提取物体高度信息来恢复物体三维形貌。在测量中，将计算机预先编码的相移条纹图随PZT扫描台的纵向移动同步循环投影到物体表面，CCD采集到一系列成像图片，对每个像素点纵向提取其在每幅图中的光强值绘制出光强曲线，再对光强曲线提取包络即为成像条纹图调制度曲线，此调制度曲线峰值位置对应像素点聚焦的粗略位置，对该位置附近点进行高斯曲线拟合得到准确聚焦位置，进而恢复物体三维形貌，具有非接触、速度快、高精度等特点。
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公开(公告)号：CN109269980A
公开(公告)日：2019-01-25
申请号：CN201811202056.X
申请日：2018-10-16
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
Abstract: 本发明公开了一种基于单光镊介质微球高分辨率光学检测方法，连续型激光经过准直扩束，被显微物镜聚焦形成强聚焦光场，捕获并操控单个介质微球，实现单光镊介质微球。照明光束经准直后，经过物镜照明样品，通过CCD相机采集图像。成像时，物体表面结构信息先经过被捕获的微球，后进入显微镜，最后由CCD成像，可实现高分辨率成像。本发明在实现介质微球操控的同时，还能实现高的成像分辨率，能够在远场区域，通过面成像方式，实现特征尺寸220nm的微纳结构测量，具有高分辨力、并行、快速测量等优点。
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公开(公告)号：CN108319009A
公开(公告)日：2018-07-24
申请号：CN201810318644.3
申请日：2018-04-11
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
Abstract: 本发明公开了一种基于结构光调制的快速超分辨成像方法，使用数字微镜阵列生成结构光，照射待测结构表面，在像方获得混叠了衍射极限之外高频信号的图像1。无结构光调制的照明光源，直接照射待测结构、经过成像系统得到的像方焦平面图像0，其频谱仅包含衍射受限范围内的低频频谱，再用相同的结构光对它进行调制，得到图像2。用傅里叶变换处理图像1、图像2，对其频谱作差，即获得超分辨需要的高频频谱信号。将此高频移动到图像0频谱的对应位置，按一定的权重叠加、重建出完整的频谱，再通过逆FFT，最终得到待测结构的超分辨成像结果。本方法简化了系统，同时大大减少所需图像数量，极大提高了重建效率，特别适用于需要多方向重建频谱的结构光超分辨检测。
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公开(公告)号：CN108036732A
公开(公告)日：2018-05-15
申请号：CN201711240052.6
申请日：2017-11-30
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
IPC: G01B11/14
Abstract: 本发明提供一种基于超分辨光刻的间隙检测装置，所述的装置由光源发出的光经Y型光纤导入光纤准直镜，在掩模的半透半反窗口产生分光，其中一束光反射回到光纤准直镜内部，另一束光经掩模的半透半反窗口透射后，经基片表面反射，透过掩模的半透半反窗口被光纤准直镜接收。此时，这两束光由于经过的光程不同，产生相位差，通过光谱仪进行探测，在上位机中分析不同波长对应的相位差，实现对掩模与基片之间的绝对间隙测量。本发明可以获得基片和掩模的光程差绝对值，进而获得基片和掩模两者之间光程差引起的相位差，得到掩模和基片之间的绝对间隙。通过控制纳米工件台消除间隙，实现间隙曝光，有效的保护了超分辨光刻器件，保证光刻图形质量。
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