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公开(公告)号:CN113686903B
公开(公告)日:2024-09-10
申请号:CN202111094288.X
申请日:2021-09-17
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: G01N21/958
Abstract: 本发明公开了一种光学元件缺陷检测系统及检测方法,包括床身支撑模块、隔振模块、定位夹持模块、缺陷检测模块、缺陷分析模块、扫描运动模块和电气控制模块,每个模块完成相应的功能,具体工作步骤包括:开启设备及软件、系统初始化设置、设置系统参数、放置被测样品、设置测量参数、样品扫描测试、检测数据采集、缺陷类型分析、缺陷特性评价和结果输出系统关闭。本发明解决了人工检验可能由于某些人员原因导致的缺陷形貌误判和缺陷定位错误,降低了缺陷定位错误发生率,进一步提高了大口径光学元器件的缺陷检测准确率。
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公开(公告)号:CN110227294B
公开(公告)日:2024-04-19
申请号:CN201910522250.4
申请日:2019-06-17
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: B01D35/143 , B01D35/12 , B01D29/11
Abstract: 本发明涉及抛光液循环过滤系统,其搭载于抛光机床上,包括:储液装置,储液装置为倒置布置的锥形桶,锥形桶上部为出液侧,其下部为回液侧;第一供液装置和第二供液装置,第一供液装置和第二供液装置的进液端并列连接于储液装置出液侧;第一供液装置和第二供液装置的出液端连接至抛光机床;回液装置,回液装置回液进液端连接至抛光机床的储液槽,其回液出液端连通于储液装置的进液侧,回流的抛光液从锥形桶底部冲入锥形桶内,使锥形桶内的抛光液形成自扰动;控制终端,第一供液装置、第二供液装置和回液装置均与控制终端电性连接;控制终端按照预设程序控制第一供液装置和/或第二供液装置供液提高系统供液可靠性。
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公开(公告)号:CN117001467A
公开(公告)日:2023-11-07
申请号:CN202310669577.0
申请日:2023-06-07
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: B24B13/00 , B24B13/005 , B24B55/00 , B24B55/02
Abstract: 本发明涉及轻量化结构的反射镜磨削热膨胀抑制装置,包括安装基体,其顶部对应轻量化结构的反射镜上的减重孔设置有热空气疏散通道,热空气疏散通道与外界连通,反射镜的磨削累积热量使减重孔内的空气膨胀,膨胀后的空气通过热空气疏散通道排出,始终保持减重孔与机床工作台处于非封闭状态;装夹机构,安装基体位于反射镜周围设置有多组弹性夹持机构,装夹机构用于弹性夹持反射镜稳定固定于安装基体顶部。本发明实现了带有轻量化结构反射镜高刚度装夹,降低了装夹应力,避免了因磨削热累计引起的弹性空气薄膜对元件加工精度和加工确定性的影响,提高了元件的加工精度和全流程加工效率,对实现大口径反射镜元件超精密光学制造具有重要的作用。
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公开(公告)号:CN116197738A
公开(公告)日:2023-06-02
申请号:CN202310143325.4
申请日:2023-02-21
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: B24B1/00
Abstract: 本发明适用于光学复杂曲面元件的超精密抛光领域,提供了一种复杂曲面光学元件磁流变抛光的仿真及加工方法,包括以下步骤:H1:根据干涉仪的检测图像和加工后预期面形,计算初始面形误差;H2:根据元件类型和初始面形误差选取合适的抛光轨迹;H3:对面形误差进行非球面区域划分,获得各个划分区域的位置、大小、球面半径和球心坐标,得到各个划分区域的去除函数;H4:进行磁流变抛光采斑实验,获取当前加工条件下实际抛光斑的三维形貌,并计算得到各个划分区域的抛光斑去除函数;H5:分配驻留点,并计算驻留时间矩阵。本方法可以达到高精度的磁流变抛光效果,为磁流变抛光工艺提供理论支持。
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公开(公告)号:CN112892391B
公开(公告)日:2022-07-12
申请号:CN202110122102.0
申请日:2021-01-27
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: B01F35/82 , B01F35/83 , B01F35/213 , B01F35/00 , B01F33/80
Abstract: 本发明提供了一种抛光液水分在线调节精密控制装置及方法,包括:抛光液水分控制装置、抛光液储存桶和抛光液传输泵,抛光液传输泵将抛光液储存桶内的抛光液传输至抛光液水分控制装置中;抛光液水分控制装置包括第一水分仪、第二水分仪、第一电磁阀、第二电磁阀、第三电磁阀、补水装置、干燥装置以及中央控制器,中央控制器分别与第一水分仪和第二水分仪建立信号连接,同时与第一电磁阀、第二电磁阀和第三电磁阀建立控制连接;本发明能够对抛光液的含水量进行精密控制从而达到加工光学元件的工艺要求,具有较高的实用性,机械仪器代替人工作业,避免了人为操作误差的产生,具有高效的调节效果,使处于不同水分含量的抛光液可以快速达到指定的工艺目标参数。
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公开(公告)号:CN113275977B
公开(公告)日:2022-02-11
申请号:CN202110632150.4
申请日:2021-06-07
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: B24B13/00 , B24B49/12 , B24B51/00 , G01B11/24 , G05B19/404
Abstract: 本发明公开了非球面光学元件加工机床导轨形状误差的确定性补偿方法,包括以下步骤:仿真分析机床导轨受力变形;实测导轨形状误差;计算加工工况下导轨形状误差分布;根据非球面方程,获取非球面光学元件表面各点坐标,结合非球面平行磨削砂轮运动控制点坐标传递函数模型,获取磨削过程中砂轮运动控制点阵坐标;叠加导轨形状误差,得到具有误差修正的砂轮运动控制点阵坐标;按照修正后的砂轮运动控制点坐标形成的加工轨迹进行磨削加工,实现导轨形状误差的确定性控制。本发明可以实现非球面成形加工过程中对机床导轨形状误差的确定性补偿控制,消除导轨形状误差与磨削力引起导轨变形而对元件最终加工精度的影响,提高元件的成形加工精度。
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公开(公告)号:CN113231964A
公开(公告)日:2021-08-10
申请号:CN202110563181.9
申请日:2021-05-21
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 本发明适用于及光学元件加工领域技术领域,提供了一种双真空泵体抛光液回收装置,包括真空腔体、第一真空泵体、第二真空泵体及抛光液存储装置;所述真空腔体包括输入接口、第一真空接口、第二真空接口;抛光液通过所述输入接口进入所述真空腔体,所述第一真空泵体通过所述第一真空接口与所述真空腔体连通,所述第二真空泵体通过所述第二真空接口与所述真空腔体连通,所述抛光液存储装置与所述第一真空泵体相连通。该装置可以实现抛光液无残留的高效回收,提高抛光液的稳定工作状态。
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公开(公告)号:CN113183032A
公开(公告)日:2021-07-30
申请号:CN202110534615.2
申请日:2021-05-17
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 本发明公开了一种杯型圆弧砂轮高效精密在位修整方法和装置,实现杯型圆弧砂轮高效精密在位修形和修锐,将三轴联动数控机床和单回转轴砂轮修整器有机结合起来用于杯型圆弧砂轮修整,通过机床数控系统控制机床X直线轴和Z直线轴进行圆弧包络插补,可实现杯型砂轮任意包角圆弧的高效高精度在位修整,同时控制Y直线轴匀速进给运动,可保证平面修整砂轮圆周面的平整性,避免杯型圆弧砂轮在平面修整砂轮正上方修整时去除量急剧增大,保证了杯型圆弧砂轮的修整精度。
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公开(公告)号:CN112916314A
公开(公告)日:2021-06-08
申请号:CN202110083443.1
申请日:2021-01-21
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 本发明提供一种薄板元件的低应变上盘装置及其方法。薄板元件的低应变上盘装置,移动溜板设置在第四导轨的丝杆上,出胶阀安装在移动溜板上,通过第三电机带动丝杆旋转使移动溜板沿着第四导轨在Z方向上下移动,第四导轨还设置在第三导轨的丝杆上,通过第二电机带动丝杆旋转使第四导轨沿着第三导轨在Y方向移动,第三导轨设置在第一导轨的丝杆上和第二导轨上,通过第一电机带动丝杆旋转使第三导轨沿着第一导轨和第二导轨在X方向移动。本发明通过多点柔性支撑构建元件‑胶点‑背板三位一体的半刚性系统,将弱刚性的薄板元件的抛光转换为刚性元件的加工,可有效抑制元件加工过程中的装夹变形,在保证加工效率的同时提高面形精度。
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公开(公告)号:CN112892391A
公开(公告)日:2021-06-04
申请号:CN202110122102.0
申请日:2021-01-27
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 本发明提供了一种抛光液水分在线调节精密控制装置及方法,包括:抛光液水分控制装置、抛光液储存桶和抛光液传输泵,抛光液传输泵将抛光液储存桶内的抛光液传输至抛光液水分控制装置中;抛光液水分控制装置包括第一水分仪、第二水分仪、第一电磁阀、第二电磁阀、第三电磁阀、补水装置、干燥装置以及中央控制器,中央控制器分别与第一水分仪和第二水分仪建立信号连接,同时与第一电磁阀、第二电磁阀和第三电磁阀建立控制连接;本发明能够对抛光液的含水量进行精密控制从而达到加工光学元件的工艺要求,具有较高的实用性,机械仪器代替人工作业,避免了人为操作误差的产生,具有高效的调节效果,使处于不同水分含量的抛光液可以快速达到指定的工艺目标参数。
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