公开(公告)号：CN101000467A

公开(公告)日：2007-07-18

申请号：CN200710000702.X

申请日：2007-01-10

Applicant: 东进世美肯株式会社

Inventor： 尹锡壹 ,  金圣培 ,  郑宗铉 ,  许舜范 ,  金柄郁

IPC: G03F7/42

Abstract: 本发明涉及一种抗蚀剂剥离剂组合物，尤其涉及一种含有内酯类化合物，而且对图形化金属膜上所残留的抗蚀剂具有优秀的剥离效果，并在高温下，其因挥发而引起的成分变化及药液疲劳度极小，且能将对图形化金属膜的腐蚀降到最低。

公开(公告)号：CN106170835B

公开(公告)日：2018-12-04

申请号：CN201380056055.8

申请日：2013-10-29

Applicant: 东进世美肯株式会社

Inventor： 金圣培 ,  李昇爀 ,  林峻焕 ,  韩住炅 ,  刘炫硕 ,  金永模

IPC: H01B1/20 ,  H05K3/00

Abstract: 本发明涉及一种印刷电子用铜糊剂组合物，更详细地讲，涉及含有抑制了氧化的铜纳米颗粒从而电导率、与基板的粘接力、以及印刷性优良的印刷电子用铜糊剂组合物。具体来讲，根据本发明的印刷电子用铜糊剂组合物使用表面涂覆有有机物薄层的铜纳米颗粒或铜‑异种金属纳米颗粒，从而在大气压下也能够示出优良的电导率和印刷性，尤其在使用铜‑异种金属纳米颗粒的情况下，由于粘接力优良，因而能够替代昂贵的银颗粒而适用于多种印刷电子领域。

公开(公告)号：CN104919011A

公开(公告)日：2015-09-16

申请号：CN201480004715.2

申请日：2014-01-17

Applicant: 东进世美肯株式会社

Inventor： 李圣贤 ,  金京恩 ,  金圣培 ,  李炳昱

IPC: C09D5/24 ,  C09D1/00 ,  B05D1/00 ,  B05D3/00 ,  H01B5/14

Abstract: 本发明涉及一种透明导电性膜涂布组合物、透明导电性膜及其制造方法，更详细地讲，涉及：透明导电性膜涂布组合物，其特征在于含有一次导电性膜涂布组合物以及保护层涂布组合物，所述一次导电性膜涂布组合物包含金属纳米线和分散液，所述保护层涂布组合物包含选自由氟化镁溶胶、无机溶胶、无机-无机复合溶胶、以及有机-无机复合溶胶组成的组中的一种以上的溶胶；将上述一次导电性膜涂布组合物和保护层涂布组合物涂布并进行干燥而制造透明导电性膜的方法；以及由此而制造的透明导电性膜。利用本发明的涂布组合物而制造的透明导电性膜，不仅面电阻、耐环境性、整体透射率、以及浊度的特性优良，而且在湿法蚀刻工序中也能够容易地进行蚀刻，且容易调节折射率，因此，能够有效地使用于液晶显示装置、等离子体显示装置、触摸屏、电致发光装置、薄膜太阳能电池、染料敏化太阳能电池、无机物晶体硅太阳能电池等的电极上。

公开(公告)号：CN101025579A

公开(公告)日：2007-08-29

申请号：CN200710000701.5

申请日：2007-01-10

Applicant: 东进世美肯株式会社

Inventor： 尹锡壹 ,  金圣培 ,  郑宗铉 ,  许舜范 ,  金柄郁

IPC: G03F7/42

Abstract: 本发明涉及一种抗蚀剂剥离剂组合物，尤其涉及一种包含选自具有双氧键的环状化合物、乙二醇类化合物及碳酸类化合物中的化合物的抗蚀剂剥离剂组合物。本发明的抗蚀剂剥离剂组合物可进一步包含内酯类化合物、胺或有机酸、氧化剂或其混合物。本发明的抗蚀剂剥离剂组合物，可用于去除在电路或显示元件金属布线的图形化中所使用的抗蚀剂，其对图形化金属膜上所残留的抗蚀剂具有优秀的剥离效果，并在高温下，其因挥发而引起的成分变化及药液疲劳度极小，且能将对图形化金属膜的腐蚀降到最低。

公开(公告)号：CN1950755A

公开(公告)日：2007-04-18

申请号：CN200580014564.X

申请日：2005-05-06

Applicant: 东进世美肯株式会社

Inventor： 金柄郁 ,  尹锡壹 ,  金圣培 ,  金玮溶 ,  张锡唱 ,  郑宗铉

IPC: G03F7/32

CPC classification number: G03F7/425 ,  G03F7/426

Abstract: 本发明涉及一种在制作电路或显示器件图形中使用的光刻胶去除剂组合物，更具体地说，涉及一种含有胺、溶剂和防腐剂的光刻胶去除剂组合物，所述防腐剂为选自包括三唑化合物、巯基化合物、含有羟基的有机酚化合物及其混合物的组的至少一种化合物。本发明的光刻胶去除剂组合物能够容易快速地去除光刻胶膜，并且能够使图形化的金属电路的腐蚀降低至最小。

公开(公告)号：CN1713077A

公开(公告)日：2005-12-28

申请号：CN200510077285.X

申请日：2005-06-21

Applicant: 东进世美肯株式会社

Inventor： 金柄郁 ,  金圣培 ,  尹锡壹 ,  张锡唱

IPC: G03F7/42

Abstract: 本发明涉及一种组合物，该组合物用于去除电路或显示设备的金属布线构图所用的抗蚀剂。本发明组合物含有一种碳酸亚烃酯、并可任选地含有一种叔胺或一种氧化剂。本发明组合物可以高效去除残留在已构图的金属膜上的抗蚀剂，在高温下由蒸发引起的组成变化和化学疲劳小，并且能将已构图的金属膜的腐蚀降到最低。

公开(公告)号：CN106170835A

公开(公告)日：2016-11-30

申请号：CN201380056055.8

申请日：2013-10-29

Applicant: 东进世美肯株式会社

Inventor： 金圣培 ,  李昇爀 ,  林峻焕 ,  韩住炅 ,  刘炫硕 ,  金永模

IPC: H01B1/20 ,  H05K3/00

Abstract: 本发明涉及一种印刷电子用铜糊剂组合物，更详细地讲，涉及含有抑制了氧化的铜纳米颗粒从而电导率、与基板的粘接力、以及印刷性优良的印刷电子用铜糊剂组合物。具体来讲，根据本发明的印刷电子用铜糊剂组合物使用表面涂覆有有机物薄层的铜纳米颗粒或铜‑异种金属纳米颗粒，从而在大气压下也能够示出优良的电导率和印刷性，尤其在使用铜‑异种金属纳米颗粒的情况下，由于粘接力优良，因而能够替代昂贵的银颗粒而适用于多种印刷电子领域。

公开(公告)号：CN104221094A

公开(公告)日：2014-12-17

申请号：CN201380018007.X

申请日：2013-03-14

Applicant: 东进世美肯株式会社

Inventor： 李升爀 ,  李圣贤 ,  刘炫硕 ,  柳官泰 ,  韩住炅 ,  金圣培

IPC: H01B1/22 ,  H05K3/40

CPC classification number: H01B1/22 ,  H01B1/026 ,  H05K1/095

Abstract: 本发明涉及一种印刷用铜糊剂组合物及利用其的金属图案的形成方法。具体来讲，根据本发明的印刷用铜糊剂组合物可同时进行热风干燥和烘烤而不会发生氧化，从而能够示出优良的电导率，本发明的金属图案的形成方法能够有效地使用于以同时实施干燥和烘烤的简单的工艺形成电导率优良的金属图案。

公开(公告)号：CN104159985A

公开(公告)日：2014-11-19

申请号：CN201380013342.0

申请日：2013-03-07

Applicant: 东进世美肯株式会社

Inventor： 李圣贤 ,  金圣培 ,  金京恩 ,  李睃赫

IPC: C09D11/52 ,  H01B1/22

CPC classification number: C09D11/52 ,  H01B1/22

Abstract: 本发明涉及一种透明电极形成用导电性油墨组合物。具体地讲，根据本发明的透明电极形成用导电性油墨组合物，以金属纳米线形成导电性网络，且以金属溶胶弥补网络的断线并填充空着的空间，因而具有优良的导电性和可见光透射率，由于金属溶胶作为防止金属纳米线的腐蚀和氧化的保护层起作用，因而无需另外的抗氧化剂或保护层，且能够确保所制造的透明电极的耐环境性。

公开(公告)号：CN101450384A

公开(公告)日：2009-06-10

申请号：CN200810182426.8

申请日：2008-12-05

Applicant: 东进世美肯株式会社

Inventor： 金柄郁 ,  金圣培 ,  李圣贤 ,  许铉

IPC: B22F9/14 ,  H05H1/42

Abstract: 本发明提供利用等离子体的金属纳米粉末的合成装置和方法，该合成装置和方法能够利用较简单的装备生成高产率的金属纳米粉末，并且能够生成颗粒均匀的纳米单位大小的金属颗粒。本发明的合成装置包括：等离子体产生装置，其具备电源供给部、电磁波产生部、导波管和产生等离子体的放电管；气体和粉末供给装置，其用于将经25～300℃预热后的i)金属氧化物粉末和还原气体或者；ii)金属还原物粉末和氧化气体供给到上述放电管的等离子体部位；和反应管，其与上述放电管的下端结合，在该反应管中，由上述气体和粉末供给装置供给的粉末变为气相，发生还原或氧化反应，然后被冷却，形成金属粉末。本发明的合成方法为利用了本发明合成装置的合成方法。