公开(公告)号：CN104103558B

公开(公告)日：2017-12-08

申请号：CN201410143740.0

申请日：2014-04-10

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 小山胜彦 ,  竹内靖 ,  浅利伸二

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/677

CPC classification number: H01L21/67389 ,  H01L21/67379 ,  H01L21/67769 ,  H01L21/67772

Abstract: 本发明提供容纳容器内的气氛管理方法。其是处理装置中的容纳容器内的气氛管理方法，处理装置具有由分隔壁隔开的基板搬送区域和容器搬送区域，分隔壁具有利用开闭门进行开闭的搬送口；处理装置包括：容器保管架，其设于该容器搬送区域，用于暂时载置能够利用盖体的开闭而密闭容纳多个基板的容纳容器以供容纳容器待机；盖体开闭机构，其设于开闭门，能够一边拆卸容纳容器的与搬送口的口缘部密合的盖体一边用非活性气体对容纳容器内进行置换；气氛管理方法具有如下工序：利用盖体开闭机构来用非活性气体对容纳有未处理的基板的容纳容器内进行置换；将内部被非活性气体置换后的容纳容器搬送并载置到容器保管架上；以及使容纳容器在容器保管架上待机。

公开(公告)号：CN102820247B

公开(公告)日：2016-04-20

申请号：CN201210187388.1

申请日：2012-06-07

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 小山胜彦 ,  菱谷克幸 ,  竹内靖

IPC: H01L21/677

CPC classification number: H01L21/67772

Abstract: 本发明提供基板输送容器的开闭装置、盖体的开闭装置以及半导体制造装置。基板输送容器的开闭装置具备：设置成在基板的输送区域侧借助升降机构升降自如的升降基体；用于开闭壁部的开口部的罩部件；用于对该罩部件与该开口部的口边缘部之间进行密封的密封部件；设置于该罩部件，用于取下或安装盖体的盖体装卸机构；设置于该升降基体，并将该罩部件朝上引导以使该罩部件能够从后退位置朝壁部侧前进的引导部；设置于该壁部侧，并沿与该开口部的密封面正交的方向延伸的导向路；以及设置于该罩部件，并在该升降基体下降时边沿上述导向路滚动边下降的转动体。

公开(公告)号：CN102683252B

公开(公告)日：2015-08-19

申请号：CN201210063579.7

申请日：2012-03-08

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 山岸大祐 ,  小山胜彦 ,  佐藤正孝 ,  竹内靖

IPC: H01L21/677 ,  C23C16/56

CPC classification number: H01L21/67757 ,  C23C16/4583 ,  H01L21/67109 ,  H01L21/67303 ,  H01L21/67309 ,  H01L21/67781 ,  H01L21/68707

Abstract: 本发明提供基板输送方法和基板输送装置。该基板输送方法用于对由背面彼此相对的第1基板和第2基板隔着隔离构件层叠而成的层叠体进行输送，其包括下述工序：利用设在第1叉状件的一侧的第1夹持机构，自第1基板的背面的下方夹持第1基板来承接第1基板，使第1叉状件上下翻转而将承接的第1基板载置于第2叉状件，其中，第1叉状件设在第2叉状件的上方；利用与第1夹持机构设在第1叉状件的同一侧的第2夹持机构自隔离构件的上方夹持该隔离构件来承接该隔离构件，将承接的隔离构件载置在第1基板上；利用第1夹持机构自第2基板的表面的上方夹持该第2基板来承接第2基板，将承接的第2基板载置在已载置于第2叉状件的隔离构件上。

公开(公告)号：CN102820247A

公开(公告)日：2012-12-12

申请号：CN201210187388.1

申请日：2012-06-07

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 小山胜彦 ,  菱谷克幸 ,  竹内靖

IPC: H01L21/677

CPC classification number: H01L21/67772

Abstract: 本发明提供基板输送容器的开闭装置、盖体的开闭装置以及半导体制造装置。基板输送容器的开闭装置具备：设置成在基板的输送区域侧借助升降机构升降自如的升降基体；用于开闭壁部的开口部的罩部件；用于对该罩部件与该开口部的口边缘部之间进行密封的密封部件；设置于该罩部件，用于取下或安装盖体的盖体装卸机构；设置于该升降基体，并将该罩部件朝上引导以使该罩部件能够从后退位置朝壁部侧前进的引导部；设置于该壁部侧，并沿与该开口部的密封面正交的方向延伸的导向路；以及设置于该罩部件，并在该升降基体下降时边沿上述导向路滚动边下降的转动体。

公开(公告)号：CN100573818C

公开(公告)日：2009-12-23

申请号：CN200710100672.X

申请日：2007-03-19

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 浅利聪 ,  高桥喜一 ,  小山胜彦

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/677 ,  G05B19/048 ,  F27D3/00

CPC classification number: H01L21/67098 ,  H01L21/67766 ,  H01L21/67781 ,  H01L21/68707

Abstract: 本发明涉及一种立式热处理装置，其特征在于，包括：热处理炉；保持件，能够在上下方向以规定间隔多层保持多片被处理体，并且该保持件能够搬入搬出所述热处理炉内；移载机构，具有可以升降及旋转的基台和可以在该基台上沿水平方向进退的基板支承件；以及控制所述移载机构的控制器，其中，所述移载机构在以规定间隔收纳多片被处理体的收纳容器和所述保持件之间进行被处理体的移载，所述控制器构成为，监视反馈到驱动移载机构的电动机的位置、速度、电流中的至少任何一个信息，通过将该信息与预先设定的正常驱动时的信息进行比较，检测移载机构冲突时的异常驱动，在检测到异常驱动时停止移载机构的驱动。