公开(公告)号：CN116235282A

公开(公告)日：2023-06-06

申请号：CN202180065750.5

申请日：2021-09-22

Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社

Inventor： 堀江宏彰 ,  堀田明伸 ,  浜中谅 ,  岛田宪司 ,  菊永孝裕

IPC: H01L21/304

Abstract: 一种半导体基板清洗用组合物，其含有：过氧化氢(A)、过氧化氢稳定剂(B)、碱化合物(C)和水，过氧化氢稳定剂(B)为选自由草酸、二亚乙基三胺五乙酸、羟乙基亚氨基二乙酸、草酸钾、5‑苯基‑1H‑四唑、三亚乙基四胺六乙酸、反式‑1,2‑环己二胺四乙酸、8‑羟基喹啉、L(+)‑异亮氨酸、DL‑缬氨酸、L(‑)‑脯氨酸、羟乙基乙二胺三乙酸、N,N‑二(2‑羟乙基)甘氨酸、甘氨酸、L‑色氨酸、2,6‑吡啶二羧酸、苯并噻唑、和DL‑丙氨酸组成的组中的至少1者，碱化合物(C)为选自由氢氧化季铵(C1)和氢氧化钾(C2)组成的组中的至少1者。

公开(公告)号：CN112005345A

公开(公告)日：2020-11-27

申请号：CN201980027285.9

申请日：2019-04-25

Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社

Inventor： 尾家俊行 ,  菊永孝裕 ,  堀田明伸 ,  山田健二

IPC: H01L21/304 ,  C11D7/06 ,  C11D7/08 ,  C11D7/10 ,  C11D7/26 ,  C11D7/36 ,  C23F1/16 ,  C23G1/02 ,  H01L21/308 ,  H01L21/3205 ,  H01L21/768

Abstract: 根据本发明，可以提供一种水性组合物，其包含：以组合物总量基准计为0.0001～10质量％的(A)选自C4‑13烷基膦酸、C4‑13烷基膦酸酯、C4‑13烷基磷酸、和它们的盐中的1种以上的化合物；和，以组合物总量基准计为0.0001～50质量％的(B)除C4‑13烷基膦酸、C4‑13烷基膦酸酯和C4‑13烷基磷酸以外的酸或其盐。