公开(公告)号：CN111837218B

公开(公告)日：2025-03-25

申请号：CN201980018203.4

申请日：2019-03-05

Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社

Inventor： 菊永孝裕 ,  堀江宏彰 ,  青山公洋 ,  田岛恒夫

IPC: H01L21/304 ,  C11D7/26 ,  C11D7/32 ,  C11D7/50 ,  C11D17/08 ,  H01L21/28 ,  H01L21/3213 ,  H01L21/768

Abstract: 根据本发明，可以提供如下清洗液，其含有：胺化合物(A)0.2～20质量％、水溶性有机溶剂(B)40～70质量％及水，前述胺化合物(A)含有选自由正丁胺、己胺、辛胺、1,4‑丁二胺、二丁胺、3‑氨基‑1‑丙醇、N,N‑二乙基‑1,3‑二氨基丙烷、及双(六亚甲基)三胺组成的组中的1者以上，并且前述水溶性有机溶剂(B)在20℃下的粘度为10mPa·s以下，所述清洗液的pH为9.0～14的范围。

公开(公告)号：CN105377752A

公开(公告)日：2016-03-02

申请号：CN201480040081.6

申请日：2014-07-16

Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社

Inventor： 君塚健一 ,  野口亚理沙 ,  宫崎真由美 ,  田岛恒夫 ,  印南享 ,  堀江宏彰

IPC: C01B15/037 ,  C01B15/01

Abstract: 根据本发明，能够提供一种过氧化氢水溶液，其特征在于，用于使菌的数量减少，该过氧化氢水溶液含有过氧化氢、磷酸盐和铝盐作为必须成分。另外，根据本发明，能够提供一种杀菌方法，其特征在于，使上述过氧化氢水溶液的雾和/或气体与空气混合后，与对象物接触。

公开(公告)号：CN111837218A

公开(公告)日：2020-10-27

申请号：CN201980018203.4

申请日：2019-03-05

Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社

Inventor： 菊永孝裕 ,  堀江宏彰 ,  青山公洋 ,  田岛恒夫

IPC: H01L21/304 ,  C11D7/26 ,  C11D7/32 ,  C11D7/50 ,  C11D17/08 ,  H01L21/28 ,  H01L21/3213 ,  H01L21/768

Abstract: 根据本发明，可以提供如下清洗液，其含有：胺化合物(A)0.2～20质量％、水溶性有机溶剂(B)40～70质量％及水，前述胺化合物(A)含有选自由正丁胺、己胺、辛胺、1,4‑丁二胺、二丁胺、3‑氨基‑1‑丙醇、N,N‑二乙基‑1,3‑二氨基丙烷、及双(六亚甲基)三胺组成的组中的1者以上，并且前述水溶性有机溶剂(B)在20℃下的粘度为10mPa·s以下，所述清洗液的pH为9.0～14的范围。

公开(公告)号：CN116235282A

公开(公告)日：2023-06-06

申请号：CN202180065750.5

申请日：2021-09-22

Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社

Inventor： 堀江宏彰 ,  堀田明伸 ,  浜中谅 ,  岛田宪司 ,  菊永孝裕

IPC: H01L21/304

Abstract: 一种半导体基板清洗用组合物，其含有：过氧化氢(A)、过氧化氢稳定剂(B)、碱化合物(C)和水，过氧化氢稳定剂(B)为选自由草酸、二亚乙基三胺五乙酸、羟乙基亚氨基二乙酸、草酸钾、5‑苯基‑1H‑四唑、三亚乙基四胺六乙酸、反式‑1,2‑环己二胺四乙酸、8‑羟基喹啉、L(+)‑异亮氨酸、DL‑缬氨酸、L(‑)‑脯氨酸、羟乙基乙二胺三乙酸、N,N‑二(2‑羟乙基)甘氨酸、甘氨酸、L‑色氨酸、2,6‑吡啶二羧酸、苯并噻唑、和DL‑丙氨酸组成的组中的至少1者，碱化合物(C)为选自由氢氧化季铵(C1)和氢氧化钾(C2)组成的组中的至少1者。

公开(公告)号：CN105377752B

公开(公告)日：2020-01-24

申请号：CN201480040081.6

申请日：2014-07-16

Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社

Inventor： 君塚健一 ,  野口亚理沙 ,  宫崎真由美 ,  田岛恒夫 ,  印南享 ,  堀江宏彰

IPC: C01B15/037 ,  C01B15/01

Abstract: 根据本发明，能够提供一种过氧化氢水溶液，其特征在于，用于使菌的数量减少，该过氧化氢水溶液含有过氧化氢、磷酸盐和铝盐作为必须成分。另外，根据本发明，能够提供一种杀菌方法，其特征在于，使上述过氧化氢水溶液的雾和/或气体与空气混合后，与对象物接触。