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发明公开
半导体基板清洗用组合物和清洗方法审中-实审

公开(公告)号：CN116235282A

公开(公告)日：2023-06-06

申请号：CN202180065750.5

申请日：2021-09-22

Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社

Inventor： 堀江宏彰 , 堀田明伸 , 浜中谅 , 岛田宪司 , 菊永孝裕

IPC: H01L21/304

Abstract: 一种半导体基板清洗用组合物，其含有：过氧化氢(A)、过氧化氢稳定剂(B)、碱化合物(C)和水，过氧化氢稳定剂(B)为选自由草酸、二亚乙基三胺五乙酸、羟乙基亚氨基二乙酸、草酸钾、5‑苯基‑1H‑四唑、三亚乙基四胺六乙酸、反式‑1,2‑环己二胺四乙酸、8‑羟基喹啉、L(+)‑异亮氨酸、DL‑缬氨酸、L(‑)‑脯氨酸、羟乙基乙二胺三乙酸、N,N‑二(2‑羟乙基)甘氨酸、甘氨酸、L‑色氨酸、2,6‑吡啶二羧酸、苯并噻唑、和DL‑丙氨酸组成的组中的至少1者，碱化合物(C)为选自由氢氧化季铵(C1)和氢氧化钾(C2)组成的组中的至少1者。

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