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公开(公告)号：CN1244153C
公开(公告)日：2006-03-01
申请号：CN02103206.8
申请日：2002-01-30
Applicant: 三洋电机株式会社
IPC: H01L27/092 , H01L21/8238
CPC classification number: H01L21/823857 , H01L21/82385 , H01L27/0922
Abstract: 本发明的课题是减少微细晶体管与高耐压晶体管的线宽离散性。在以P型的半导体衬底(1)上的台阶差部为边界形成了P型阱(2)和N型阱(3)的结构中，其特征在于：在台阶差的低的部分处形成的上述P型阱(2)上形成了具有第1线宽的第1晶体管(微细晶体管)，在台阶差的高的部分处形成的上述N型阱(3)上形成了具有比第1晶体管的线宽粗的第2线宽的第2晶体管(高耐压晶体管)。
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公开(公告)号：CN1591789A
公开(公告)日：2005-03-09
申请号：CN200410006626.X
申请日：2004-02-25
Applicant: 三洋电机株式会社
IPC: H01L21/304 , H01L21/306
CPC classification number: H01L21/78 , H01L23/3114 , H01L23/482 , H01L23/49827 , H01L2224/05001 , H01L2224/05023 , H01L2224/05568 , H01L2224/16 , H01L2224/274 , H01L2924/00014 , H01L2924/01057 , H01L2924/01078 , H01L2924/01079 , H01L2224/05599 , H01L2224/05099
Abstract: 一种半导体装置的制造方法。其在形成有第一配线(3)的半导体晶片(1a)的表面上介由树脂(5)粘接成为支撑板的玻璃基板(4)。背研磨与粘接有该基板(4)的面相对的面，使半导体晶片(1a)的厚度变薄。这时，为除去由背研磨处理产生的划痕带来的半导体晶片(1a)面内的凹凸进行湿蚀刻处理。然后对与粘接有玻璃基板(4)的面相对的面进行蚀刻，使沿着边界S的区域形成带有锥度的槽。为了圆滑该蚀刻形成的槽的表面的凹凸或形成棱角的部分的尖端部进行湿蚀刻。通过上述湿蚀刻处理，背研磨后，提高形成蚀刻后形成的绝缘膜、配线、保护膜的包覆性，从而提高半导体装置的有效利用率和可靠性。
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公开(公告)号：CN100527401C
公开(公告)日：2009-08-12
申请号：CN200610091292.X
申请日：2006-06-08
Applicant: 三洋电机株式会社
IPC: H01L23/485 , H01L21/60 , H01L21/28
CPC classification number: H01L23/3192 , H01L23/3114 , H01L23/3171 , H01L24/11 , H01L24/12 , H01L2224/05001 , H01L2224/05022 , H01L2224/05124 , H01L2224/05147 , H01L2224/05155 , H01L2224/05567 , H01L2224/05644 , H01L2224/1132 , H01L2224/1147 , H01L2224/13099 , H01L2924/01006 , H01L2924/01013 , H01L2924/01029 , H01L2924/01033 , H01L2924/01078 , H01L2924/01079 , H01L2924/01082 , H01L2924/014 , H01L2924/12044 , H01L2924/13091 , H01L2924/00 , H01L2924/00014
Abstract: 本发明涉及一种半导体装置。其是可靠性高的BGA型的半导体装置。其具有：形成在半导体衬底(1)之上的焊盘电极(4)；覆盖该焊盘电极(4)的端部并在上述焊盘电极(4)之上具有第一开口部(6)的第一钝化膜(5)；经由上述第一开口部(6)而形成在上述焊盘电极(4)之上的镀敷层(7)；覆盖上述第一钝化膜(5)的端和上述镀敷层(7)之间的上述焊盘电极(4)的露出部(8)且进而覆盖上述镀敷层(7)的端部并在上述镀敷层(7)上具有第二开口部(10)的第二钝化膜(9)；经由第二开口部(10)而形成在上述镀敷层(7)上的导电端子(11)。
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公开(公告)号：CN1941340A
公开(公告)日：2007-04-04
申请号：CN200610131718.X
申请日：2006-09-29
Applicant: 三洋电机株式会社
IPC: H01L23/482 , H01L23/522 , H01L21/28 , H01L21/60 , H01L21/768
CPC classification number: H01L21/6835 , H01L21/76898 , H01L23/3114 , H01L23/562 , H01L23/564 , H01L2221/6834 , H01L2224/0392 , H01L2224/0401 , H01L2224/05001 , H01L2224/05022 , H01L2224/05024 , H01L2224/05124 , H01L2224/05548 , H01L2224/05624 , H01L2224/05647 , H01L2224/13022 , H01L2224/13024 , H01L2224/16237 , H01L2924/01019 , H01L2924/01078 , H01L2924/01079 , H01L2924/04941 , H01L2924/00014
Abstract: 本发明涉及半导体装置及其制造方法，防止半导体装置的外部连接用的焊盘电极受到损伤。在半导体基板(1)上形成电子电路(30)、与电子电路(30)连接的第一焊盘电极(3)、与第一焊盘电极(3)连接的第二焊盘电极(4)。此外，形成覆盖第一焊盘电极(3)并且只在第二焊盘电极(4)上具有开口部的第一保护膜(5)。并且，形成通过贯通半导体基板(1)的通孔(8)连接在第一焊盘电极(3)的背面并从通孔(8)延伸到半导体基板(1)的背面的布线层(10)。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1881572A
公开(公告)日：2006-12-20
申请号：CN200610091292.X
申请日：2006-06-08
Applicant: 三洋电机株式会社
IPC: H01L23/485 , H01L21/60 , H01L21/28
CPC classification number: H01L23/3192 , H01L23/3114 , H01L23/3171 , H01L24/11 , H01L24/12 , H01L2224/05001 , H01L2224/05022 , H01L2224/05124 , H01L2224/05147 , H01L2224/05155 , H01L2224/05567 , H01L2224/05644 , H01L2224/1132 , H01L2224/1147 , H01L2224/13099 , H01L2924/01006 , H01L2924/01013 , H01L2924/01029 , H01L2924/01033 , H01L2924/01078 , H01L2924/01079 , H01L2924/01082 , H01L2924/014 , H01L2924/12044 , H01L2924/13091 , H01L2924/00 , H01L2924/00014
Abstract: 本发明涉及一种半导体装置。其是可靠性高的BGA型的半导体装置。其具有：形成在半导体衬底(1)之上的焊盘电极(4)；覆盖该焊盘电极(4)的端部并在上述焊盘电极(4)之上具有第一开口部(6)的第一钝化膜(5)；经由上述第一开口部(6)而形成在上述焊盘电极(4)之上的镀敷层(7)；覆盖上述第一钝化膜(5)的端和上述镀敷层(7)之间的上述焊盘电极(4)的露出部(8)且进而覆盖上述镀敷层(7)的端部并在上述镀敷层(7)上具有第二开口部(10)的第二钝化膜(9)；经由第二开口部(10)而形成在上述镀敷层(7)上的导电端子(11)。
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公开(公告)号：CN1369915A
公开(公告)日：2002-09-18
申请号：CN02103206.8
申请日：2002-01-30
Applicant: 三洋电机株式会社
IPC: H01L27/092 , H01L21/8238
CPC classification number: H01L21/823857 , H01L21/82385 , H01L27/0922
Abstract: 本发明的课题是减少微细晶体管与高耐压晶体管的线宽离散性。在以P型的半导体衬底1上的台阶差部为边界形成了P型阱2和N型阱3的结构中,其特征在于:在台阶差的低的部分处形成的上述P型阱2上形成了具有第1线宽的第1晶体管(微细晶体管),在台阶差的高的部分处形成的上述N型阱3上形成了具有比第1晶体管的线宽粗的第2线宽的第2晶体管(高耐压晶体管)。
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公开(公告)号：CN1983612B
公开(公告)日：2010-07-21
申请号：CN200610166709.4
申请日：2006-12-08
Applicant: 三洋电机株式会社
IPC: H01L27/146 , H01L23/485 , H01L21/50 , H01L21/60
CPC classification number: H01L27/14618 , H01L27/14636 , H01L31/0203 , H01L2224/05001 , H01L2224/05008 , H01L2224/05024 , H01L2224/05124 , H01L2224/05147 , H01L2224/05548 , H01L2224/05624 , H01L2224/05647 , H01L2224/10 , H01L2924/00014
Abstract: 一种半导体装置，在半导体基板(2)的表面上形成有光接收元件(1)(例如CCD、红外线传感器、CMOS传感器、照度传感器等光接收元件)。半导体基板(2)的背面配置多个球状的导电端子(11)。各个导电端子(11)经由配线层(9)而与半导体基板(2)的表面的焊盘电极(4)电气连接。在此，配线层(9)和导电端子(11)在所述半导体基板(2)的背面上、在垂直方向上看时除与光接收元件(1)的形成区域重叠的区域以外的区域上，在与所述光接收元件(1)的形成区域重叠的区域上不配置配线层(9)、导电端子(11)。从而能够解决输出图像上映入形成在半导体基板的背面上的配线图案这样的问题。
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公开(公告)号：CN100355036C
公开(公告)日：2007-12-12
申请号：CN200410006626.X
申请日：2004-02-25
Applicant: 三洋电机株式会社
IPC: H01L21/304 , H01L21/306
CPC classification number: H01L21/78 , H01L23/3114 , H01L23/482 , H01L23/49827 , H01L2224/05001 , H01L2224/05023 , H01L2224/05568 , H01L2224/16 , H01L2224/274 , H01L2924/00014 , H01L2924/01057 , H01L2924/01078 , H01L2924/01079 , H01L2224/05599 , H01L2224/05099
Abstract: 一种半导体装置的制造方法。其在形成有第一配线(3)的半导体晶片(1a)的表面上介由树脂(5)粘接成为支撑板的玻璃基板(4)。背研磨与粘接有该基板(4)的面相对的面，使半导体晶片(1a)的厚度变薄。这时，为除去由背研磨处理产生的划痕带来的半导体晶片(1a)面内的凹凸进行湿蚀刻处理。然后对与粘接有玻璃基板(4)的面相对的面进行蚀刻，使沿着边界S的区域形成带有锥度的槽。为了圆滑该蚀刻形成的槽的表面的凹凸或形成棱角的部分的尖端部进行湿蚀刻。通过上述湿蚀刻处理，背研磨后，提高形成蚀刻后形成的绝缘膜、配线、保护膜的包覆性，从而提高半导体装置的有效利用率和可靠性。
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公开(公告)号：CN1983612A
公开(公告)日：2007-06-20
申请号：CN200610166709.4
申请日：2006-12-08
Applicant: 三洋电机株式会社
IPC: H01L27/146 , H01L23/485 , H01L21/50 , H01L21/60
CPC classification number: H01L27/14618 , H01L27/14636 , H01L31/0203 , H01L2224/05001 , H01L2224/05008 , H01L2224/05024 , H01L2224/05124 , H01L2224/05147 , H01L2224/05548 , H01L2224/05624 , H01L2224/05647 , H01L2224/10 , H01L2924/00014
Abstract: 一种半导体装置，在半导体基板(2)的表面上形成有光接收元件(1)(例如CCD、红外线传感器、CMOS传感器、照度传感器等光接收元件)。半导体基板(2)的背面配置多个球状的导电端子(11)。各个导电端子(11)经由配线层(9)而与半导体基板(2)的表面的焊盘电极(4)电气连接。在此，配线层(9)和导电端子(11)在所述半导体基板(2)的背面上、在垂直方向上看时除与光接收元件(1)的形成区域重叠的区域以外的区域上，在与所述光接收元件(1)的形成区域重叠的区域上不配置配线层(9)、导电端子(11)。从而能够解决输出图像上映入形成在半导体基板的背面上的配线图案这样的问题。
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