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公开(公告)号:CN119024655A
公开(公告)日:2024-11-26
申请号:CN202410573611.9
申请日:2024-05-10
Applicant: 三星SDI株式会社
Abstract: 一种含金属的光刻胶显影剂组合物包括有机溶剂和磺酰亚胺类化合物。一种利用显影剂组合物形成图案的方法包括:在衬底上涂布含金属的抗蚀剂组合物;沿着衬底的边缘涂布用于从含金属抗蚀剂移除边珠的组合物;对所得物进行干燥和加热以在衬底上形成含金属的抗蚀剂层;对含金属的抗蚀剂层进行曝光;以及涂布含金属的光刻胶显影剂组合物,并对所述含金属的光刻胶显影剂组合物进行显影。
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公开(公告)号:CN118963076A
公开(公告)日:2024-11-15
申请号:CN202410593379.5
申请日:2024-05-14
Applicant: 三星SDI株式会社
Abstract: 提供一种用于从含金属抗蚀剂移除边珠的组合物以及一种包括使用所述组合物来移除边珠的步骤的形成图案的方法及形成图案的系统。所述用于移除边珠的组合物包括:添加剂,包含选自磷酸、亚磷酸类化合物和次亚磷酸类化合物中的至少一者;羧酸类化合物;以及有机溶剂,其中选自磷酸、亚磷酸类化合物和次亚磷酸类化合物中的所述至少一者对羧酸类化合物的混合重量比为约9:1到约1.2:1。
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公开(公告)号:CN106243326A
公开(公告)日:2016-12-21
申请号:CN201610393116.5
申请日:2016-06-06
Applicant: 三星SDI株式会社
CPC classification number: G03F7/091 , C08G10/00 , C08G12/00 , C08G16/00 , C08G61/122 , C08G61/124 , C08G61/125 , C08G61/126 , C08G2261/12 , C08G2261/3142 , C08G2261/3241 , C08G2261/3243 , C08G2261/3245 , C08G2261/3246 , C08G2261/3424 , C08G2261/344 , C09D161/00 , C09D161/18 , C09D161/20 , C09D165/00 , G03F7/0752 , G03F7/094 , C08G61/123 , C08G2261/314 , C08G2261/354 , G03F7/20
Abstract: 本发明提供一种包含由化学式1表示的结构单元的聚合物和包含所述聚合物的有机层组成物。[化学式1] 所述化学式1与具体实施方式中所定义的相同。
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公开(公告)号:CN106046696A
公开(公告)日:2016-10-26
申请号:CN201510919487.8
申请日:2015-12-11
Applicant: 三星SDI株式会社
CPC classification number: C08G73/0672 , G03F7/0041 , G03F7/0752 , G03F7/091 , G03F7/094 , H01L51/0018
Abstract: 一种有机层组合物包含:包含由化学式1表示的部分的聚合物、由化学式2表示的单体以及溶剂,还提供一种由所述有机层组合物制造的有机层,和一种使用所述有机层组合物形成图案的方法。所述有机层组合物可以提供同时确保耐蚀刻性、耐热性以及平坦化特征的有机层。化学式1和化学式2的定义与具体实施方式中相同。[化学式1][化学式2]。
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