非易失性存储器装置及其操作方法

    公开(公告)号:CN116206658A

    公开(公告)日:2023-06-02

    申请号:CN202211402963.5

    申请日:2022-11-10

    Abstract: 公开了非易失性存储器装置及其操作方法。所述非易失性存储器装置包括:存储器单元,存储第一数据和第二数据中的一个,并且包括第一子存储器单元和第二子存储器单元,第一子存储器单元连接到第一字线和第一位线,第二子存储器单元连接到第二字线和第二位线;源极线,由第一子存储器单元和第二子存储器单元共享;以及感测放大器,连接到第一位线和第二位线,感测放大器读取存储在存储器单元中的数据。感测放大器从第一位线接收第一电流,从第二位线接收第二电流,并且通过将第一电流的幅度和第二电流的幅度进行比较来读取存储在存储器单元中的数据。响应于存储器单元存储第一数据,第一子存储器单元被编程,并且第二子存储器单元被擦除。

    存储器装置
    16.
    发明公开
    存储器装置 审中-实审

    公开(公告)号:CN115701636A

    公开(公告)日:2023-02-10

    申请号:CN202210831271.6

    申请日:2022-07-14

    Abstract: 提供了一种存储器装置。所述存储器装置包括:第一位线,被配置为:供应第一位线偏置电压;存储器单元晶体管,具有第一操作电压;选择晶体管,具有第二操作电压并且被配置为:控制向存储器单元晶体管的源极供应第一位线偏置电压;和第二位线,连接到存储器单元晶体管的漏极。第一操作电压的电平大约等于第二操作电压的电平。

    半导体装置和制造该半导体装置的方法

    公开(公告)号:CN115568221A

    公开(公告)日:2023-01-03

    申请号:CN202210769065.7

    申请日:2022-06-30

    Inventor: 禹钟盛 李龙圭

    Abstract: 提供了一种半导体装置和一种制造该半导体装置的方法。所述半导体装置包括:浮置栅极,设置在基底上;存储器栅极,设置在浮置栅极上;第一间隔件,设置在浮置栅极和存储器栅极的侧壁以及基底的上表面上;第二间隔件,设置在第一间隔件上;选择高k膜,设置在第一间隔件的位于基底与第二间隔件之间的侧壁的第一部分上;以及选择栅极,设置在第一间隔件的位于基底与第二间隔件之间的侧壁的第二部分上。第一间隔件的一部分的宽度随着到基底的距离减小而减小,并且第一间隔件的所述一部分设置在基底与第二间隔件之间。

Patent Agency Ranking