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公开(公告)号：CN1846907A
公开(公告)日：2006-10-18
申请号：CN200610076488.1
申请日：2002-02-15
Applicant: 住友钛株式会社
IPC: B22F3/10
CPC classification number: H01M8/0232 , B01D39/2034 , B01D39/2079 , B01D2201/188 , B22F1/0048 , B22F3/004 , B22F3/10 , B22F3/11 , B22F3/1103 , B22F3/1109 , B22F2998/00 , B22F2998/10 , B22F2999/00 , H01M8/0247 , Y10T428/12014 , Y10T428/12021 , B22F9/082 , B22F2207/11 , B22F3/02
Abstract: 提供过滤器和、固体高分子型水电解槽中的供电体、固体高分子型燃料电池中的集电体、进而提供液体的分散板，特别是适用于喷墨打印机用油墨分散板等的多孔质体。烧结用气体雾化法制造的由钛或者钛合金构成的球状粉末，形成板状的多孔质的钛粉末烧结体。通过无加压充填及无加压烧结可以得到35～55％的空隙率。
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公开(公告)号：CN1547622A
公开(公告)日：2004-11-17
申请号：CN02816621.3
申请日：2002-09-13
Applicant: 住友钛株式会社
Inventor： 西冈和雄
IPC: C23C14/24 , C01B33/113
CPC classification number: C23C14/24 , C23C14/10 , C23C14/225
Abstract: 本发明的目的是提供一氧化硅蒸镀膜形成时的飞溅现象的产生显著减少的一氧化硅蒸镀材料及其制造方法，在将硅粉末与二氧化硅粉末的混合物在真空下的原料室内加热、反应，以产生一氧化硅气体，一氧化硅在设置在原料室上部的沉积室中的沉积基材上沉积的方法中，通过使用圆周壁相对于垂线倾斜1度～45度并且上端内径比下端内径小的圆筒体作为沉积基材，并且在沉积室的压力为7Pa～40Pa的真空气氛下制造，可以制造磨耗试验的重量减少率(磨耗值)为1.0％或更低，一氧化硅蒸镀膜形成时的飞溅现象的产生少的一氧化硅蒸镀材料。
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公开(公告)号：CN101044268A
公开(公告)日：2007-09-26
申请号：CN200580034926.1
申请日：2005-10-05
CPC classification number: C22B34/129 , C25C3/02 , C25C3/28 , C25C7/025
Abstract: 本发明涉及通过熔融盐电解制造金属的方法，其是在具有阳极和阴极的电解槽中装盛氯化钙熔融盐进行的通过熔融盐电解制造金属的方法，其特征在于，阴极或阳极的一方的电极以包围另一方电极的方式设置，阴极具有至少一个连通阴极包围的内部区域和外部区域的流通口，熔融盐经由流通口由内部区域或外部区域中设置阳极的一侧区域向另一方区域流通。
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公开(公告)号：CN101040064A
公开(公告)日：2007-09-19
申请号：CN200580034929.5
申请日：2005-10-05
IPC: C25C3/28
CPC classification number: C25C3/02 , C22B34/129 , C25B1/26 , C25C3/28
Abstract: 本发明涉及通过熔融盐电解制造金属的方法，其是在具有阳极和阴极的电解槽中盛装含有金属氯化物的熔融盐进行的，其特征在于，使用使金属相对于熔融盐的溶解度降低的熔融盐。
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公开(公告)号：CN1476420A
公开(公告)日：2004-02-18
申请号：CN02803178.4
申请日：2002-07-25
Applicant: 住友钛株式会社
IPC: C04B35/01 , C23C14/34 , C23C14/24 , C01B33/113
CPC classification number: C04B35/14 , C04B35/645 , C04B2235/3418 , C04B2235/428 , C04B2235/5427 , C04B2235/6567 , C04B2235/6581 , C04B2235/77 , C04B2235/79 , C23C14/10 , C23C14/30 , C23C14/3414
Abstract: 本发明的目的是提供具有作为一氧化硅气相淀积材料所要求的均匀的组织、良好的机械加工性和抗飞溅性的一氧化硅烧结体，或直径至少100mm并具有作为溅射靶材料所要求的形状的一氧化硅烧结体，并稳定、高产地得到这些烧结体。通过在至少15Mpa的压力、1200－1350℃温度的热压条件下进行烧结，可以得到堆积密度至少为1.68g/cm3的一氧化硅烧结体，进一步通过使用具有在整体式外模内设置间隙并组合分割成多段的内模的结构、并在该间隙中设置缓冲材料的压模，可以得到直径至少为100mm、并且堆积密度为至少2.13g/cm3(真密度的至少95％)的一氧化硅烧结体，可以提供最适合真空气相淀积、溅射等的气相成膜材料。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1451057A
公开(公告)日：2003-10-22
申请号：CN01815020.9
申请日：2001-08-30
Applicant: 住友钛株式会社
IPC: C23C14/24
CPC classification number: C23C14/243 , C01B33/113 , C23C14/10 , C23C14/24
Abstract: 本发明涉及以下高纯度一氧化硅蒸镀材料、其制造方法、以及制造原料等。(1)高纯度一氧化硅蒸镀材料，在形成蒸镀膜时可以抑制飞溅现象，且平均体积密度为2.0g/cm3、维氏硬度为500以上。(2)高纯度一氧化硅蒸镀材料的制造方法，在原料室中比一氧化硅升华温度低的温度下进行脱气处理之后，实施升温而使一氧化硅升华，蒸镀到沉积室的沉积衬底上形成高纯度一氧化硅蒸镀材料，其金属不纯物的总量为50ppm以下。(3)所述的一氧化硅蒸镀材料的制造原料，其中金属硅粉与二氧化硅粉的平均粒度同时为1～40μm和/或摩尔混合比SiO/Si为0.90～0.99。
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公开(公告)号：CN101142330A
公开(公告)日：2008-03-12
申请号：CN200680008261.1
申请日：2006-03-08
Applicant: 住友钛株式会社
CPC classification number: C25C3/02 , C22B9/02 , C22B34/1272 , C22B34/1295 , Y02P10/234
Abstract: TiCl4的气体从原料供应管11供应到保持在反应容器(6)内的熔融CaCl2液体中，在熔解于CaCl2液体中的Ca的作用下，TiCl4被还原后生成颗粒状的金属Ti。被从反应容器(6)抽出到下方的、混有Ti颗粒的熔融CaCl2液体，被送到分离工序(12)，在加热容器(15)内被加热，Ti颗粒也变为熔融状态，由于比重差，熔融CaCl2液体(16)分离到上层，金属Ti(17)分离到下层。下层的金属Ti(17)被从高熔点金属排出口(18)取出，凝固后形成铸锭。上层的熔融CaCl2液体(16)，与被从反应容器(6)抽出的熔融CaCl2液体一起被送往电解工序(13)，电分解生成的Ca与CaCl2一起被返回到反应容器(6)内。在该制造工艺的分离工序(12)中，可以采用本发明的分离回收方法，可以以较少的能量，高效率地从含有CaCl2的熔融盐分离回收到优质的Ti或Ti合金。
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公开(公告)号：CN101048518A
公开(公告)日：2007-10-03
申请号：CN200580036803.1
申请日：2005-10-26
CPC classification number: C25C3/02 , C22B34/1268 , C22B34/1272 , C22B34/129 , C25C3/28 , C25C7/007
Abstract: 本发明提供一种利用Ca还原的Ti的制造方法及制造装置，由保持含有CaCl2且溶解了Ca的熔盐的反应槽、保持含有CaCl2的熔盐的电解槽、以及在一部分浸渍于所述反应槽及电解槽内的熔盐中的状态下可移动的连续体构成，电解所述电解槽内的熔盐，在阴极侧生成Ca，使该生成的Ca在所述连续体上析出、附着，输送向所述反应槽内，向所述反应槽内供给TiCl4而生成Ti。根据本发明，既能够提高作为原料的TiCl4的供给速度，也能够连续地进行制造，进而能够通过CaCl2的电解补充因TiCl4的还原反应而消耗的Ca，因此，在经济性方面也是有利的。由此，可作为高效且经济地制造高纯度金属Ti的手段而有效利用，且能够广泛地使用。
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公开(公告)号：CN1317420C
公开(公告)日：2007-05-23
申请号：CN01815020.9
申请日：2001-08-30
Applicant: 住友钛株式会社
IPC: C23C14/24
CPC classification number: C23C14/243 , C01B33/113 , C23C14/10 , C23C14/24
Abstract: 本发明涉及以下高纯度一氧化硅蒸镀材料、其制造方法、以及制造原料等。(1)高纯度一氧化硅蒸镀材料，在形成蒸镀膜时可以抑制飞溅现象，且平均体积密度为2.0g/cm3、维氏硬度为500以上。(2)高纯度一氧化硅蒸镀材料的制造方法，在原料室中比一氧化硅升华温度低的温度下进行脱气处理之后，实施升温而使一氧化硅升华，蒸镀到沉积室的沉积衬底上形成高纯度一氧化硅蒸镀材料，其金属不纯物的总量为50ppm以下。(3)所述的一氧化硅蒸镀材料的制造原料，其中金属硅粉与二氧化硅粉的平均粒度同时为1～40μm和/或摩尔混合比SiO/Si为0.90～0.99。
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公开(公告)号：CN1846835A
公开(公告)日：2006-10-18
申请号：CN200610076487.7
申请日：2002-02-15
Applicant: 住友钛株式会社
IPC: B01D39/20
CPC classification number: H01M8/0232 , B01D39/2034 , B01D39/2079 , B01D2201/188 , B22F1/0048 , B22F3/004 , B22F3/10 , B22F3/11 , B22F3/1103 , B22F3/1109 , B22F2998/00 , B22F2998/10 , B22F2999/00 , H01M8/0247 , Y10T428/12014 , Y10T428/12021 , B22F9/082 , B22F2207/11 , B22F3/02
Abstract: 提供过滤器和、固体高分子型水电解槽中的供电体、固体高分子型燃料电池中的集电体、进而提供液体的分散板，特别是适用于喷墨打印机用油墨分散板等的多孔质体。烧结用气体雾化法制造的由钛或者钛合金构成的球状粉末，形成板状的多孔质的钛粉末烧结体。通过无加压充填及无加压烧结可以得到35～55％的空隙率。
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