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公开(公告)号：CN1238455C
公开(公告)日：2006-01-25
申请号：CN03152484.2
申请日：2003-08-01
Applicant: 恩益禧电子股份有限公司 , 东京磁气印刷株式会社
IPC: C09G1/02
CPC classification number: C09G1/02
Abstract: 本发明涉及用于化学机械抛光的淤浆，其包括硅石抛光材料、氧化剂、苯并三唑基化合物、二酮和水。
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公开(公告)号：CN1216116C
公开(公告)日：2005-08-24
申请号：CN00104157.6
申请日：2000-03-15
Applicant: 东京磁气印刷株式会社 , TDK株式会社
IPC: C09K3/14
CPC classification number: C09G1/02 , C09K3/1472
Abstract: 本发明涉及一种游离磨料浆料组合物，该游离磨料浆料组合物有利于由多种各自有不同硬度的材料构成的复合材料的均匀研磨，不会引起选择性研磨。该游离磨料浆料组合物含有磨料颗粒、防摩擦剂作为防选择性研磨剂、以及分散剂，所述防摩擦剂是其分子链中含有硫和/或磷，或羟基的化合物。
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公开(公告)号：CN1207374C
公开(公告)日：2005-06-22
申请号：CN01103041.0
申请日：2001-01-18
Applicant: 东京磁气印刷株式会社 , TDK株式会社
IPC: C10M115/04 , C10N30
CPC classification number: B24B37/048 , B24B37/042
Abstract: 本发明涉及一种研磨油组合物，该组合物有利于在抛光研磨中的使用，提供高质量的研磨表面，不会引起在抛光研磨复合材料时出现的选择研磨。研磨油组合物含有至少一种炔族二醇化合物，较好的还含有至少一种磷酸酯化合物。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1483780A
公开(公告)日：2004-03-24
申请号：CN03152484.2
申请日：2003-08-01
Applicant: 恩益禧电子股份有限公司 , 东京磁气印刷株式会社
IPC: C09G1/02
CPC classification number: C09G1/02
Abstract: 本发明涉及用于化学机械抛光的淤浆，其包括硅石抛光材料、氧化剂、苯并三唑基化合物、二酮和水。
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公开(公告)号：CN1228178A
公开(公告)日：1999-09-08
申请号：CN98800757.6
申请日：1998-06-04
Applicant: 东京磁气印刷株式会社 , TDK株式会社
CPC classification number: G06K19/06196
Abstract: 本发明的目的在于防止磁记录介质中记录数据的非法更改，该磁记录介质含有加热时饱和磁化强度发生不可逆变化的不可逆记录层。所述磁记录介质包括在基片的至少一部分上的不可逆记录层，所述不可逆记录层含有在加热时产生饱和磁化强度的不可逆变化的不可逆记录材料。所述不可逆记录层包括至少部分的固定信息记录区，用于记录介质的固定信息。在固定信息记录区内，饱和磁化强度已经发生不可逆变化的多个加热条相互之间基本平行排列。加热条的阵列图形或位于相邻加热条之间的未加热条的阵列图形含有用频率调制法或相位调制法编码的固定信息。
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公开(公告)号：CN1196107C
公开(公告)日：2005-04-06
申请号：CN01103077.1
申请日：2001-01-22
Applicant: TDK株式会社 , 东京磁气印刷株式会社
CPC classification number: B24B53/017 , B24B37/048 , G11B5/3103 , G11B5/3116 , G11B5/3163
Abstract: 本发明为用于抛光磁头浮动块减小处理致台阶的方法，包括：一杆沿抛光板径向往返运动，并使有抛光面的抛光板旋转，对磁头浮动块的空气轴承面抛光，该杆包括有薄膜磁头件的磁头浮动块。使抛光板以第一速旋转作高度抛光的第一抛光步骤，使抛光板以等于或小于第一速的第二速旋转作精抛光的第二抛光步骤，在第二步中，第二速如此设置，使得沿抛光板旋转方向的平均线速等于或小于0.032米/秒(最好0.008米/秒)。以减小处理致台阶。
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公开(公告)号：CN1524918A
公开(公告)日：2004-09-01
申请号：CN200410006812.3
申请日：2004-02-24
Applicant: 恩益禧电子股份有限公司 , 东京磁气印刷株式会社
IPC: C09K3/14 , C09G1/00 , C25F3/16 , H01L21/3213 , H01L21/302 , H01L21/00
CPC classification number: C09K3/1463 , C09G1/02 , H01L21/3212
Abstract: 本发明涉及一种化学机械抛光浆液，其包含抛光微粒、作为氧化剂的硝酸铵，作为铜金属膜抛光促进剂的1，2，4－三唑和水，并且其pH为3至4。该抛光浆液适宜于形成波纹状的包含钽基金属作为阻挡层金属膜材料的铜基金属互连。
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公开(公告)号：CN1309167A
公开(公告)日：2001-08-22
申请号：CN01103041.0
申请日：2001-01-18
Applicant: 东京磁气印刷株式会社 , TDK株式会社
IPC: C10M115/04 , C10N30/00
CPC classification number: B24B37/048 , B24B37/042
Abstract: 本发明涉及一种研磨油组合物,该组合物有利于在抛光研磨中的使用,提供高质量的研磨表面,不会引起在抛光研磨复合材料时出现的选择研磨。研磨油组合物含有至少一种炔族二醇化合物,较好的还含有至少一种磷酸酯化合物。
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