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公开(公告)号:CN1312545A
公开(公告)日:2001-09-12
申请号:CN01103077.1
申请日:2001-01-22
Applicant: TDK株式会社 , 东京磁气印刷株式会社
CPC classification number: B24B53/017 , B24B37/048 , G11B5/3103 , G11B5/3116 , G11B5/3163
Abstract: 本发明为用于抛光磁头浮动块减小处理致台阶的方法,包括:一杆沿抛光板径向往返运动,并使有抛光面的抛光板旋转,对磁头浮动块的空气轴承面抛光,该杆包括有薄膜磁头件的磁头浮动块。使抛光板以第一速旋转作高度抛光的第一抛光步骤,使抛光板以等于或小于第一速的第二速旋转作精抛光的第二抛光步骤,在第二步中,第二速如此设置,使得沿抛光板旋转方向的平均线速等于或小于0.032米/秒(最好0.008米/秒)。以减小处理致台阶。
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公开(公告)号:CN1196107C
公开(公告)日:2005-04-06
申请号:CN01103077.1
申请日:2001-01-22
Applicant: TDK株式会社 , 东京磁气印刷株式会社
CPC classification number: B24B53/017 , B24B37/048 , G11B5/3103 , G11B5/3116 , G11B5/3163
Abstract: 本发明为用于抛光磁头浮动块减小处理致台阶的方法,包括:一杆沿抛光板径向往返运动,并使有抛光面的抛光板旋转,对磁头浮动块的空气轴承面抛光,该杆包括有薄膜磁头件的磁头浮动块。使抛光板以第一速旋转作高度抛光的第一抛光步骤,使抛光板以等于或小于第一速的第二速旋转作精抛光的第二抛光步骤,在第二步中,第二速如此设置,使得沿抛光板旋转方向的平均线速等于或小于0.032米/秒(最好0.008米/秒)。以减小处理致台阶。
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