公开(公告)号：CN1266875A

公开(公告)日：2000-09-20

申请号：CN00104157.6

申请日：2000-03-15

Applicant: 东京磁气印刷株式会社 ,  TDK株式会社

Inventor： 铃木康之 ,  贺来智弘 ,  齐藤军夫 ,  折井一也 ,  藤田恭敏 ,  山口正雄 ,  佐佐木正博

IPC: C09K3/14

CPC classification number: C09G1/02 ,  C09K3/1472

Abstract: 本发明涉及一种游离磨料浆料组合物,该游离磨料浆料组合物有利于由多种各自有不同硬度的材料构成的复合材料的均匀研磨,不会引起选择性研磨。该游离磨料浆料组合物含有磨料颗粒、防摩擦剂作为防选择性研磨剂、以及分散剂,所述防摩擦剂是其分子链中含有硫和/或磷,或羟基的化合物。

公开(公告)号：CN1312545A

公开(公告)日：2001-09-12

申请号：CN01103077.1

申请日：2001-01-22

Applicant: TDK株式会社 ,  东京磁气印刷株式会社

Inventor： 樱田俊道 ,  藤田恭敏 ,  山口正雄 ,  折井一也 ,  斋藤军夫

IPC: G11B5/187 ,  G11B5/60 ,  G11B21/21 ,  B24B39/00

CPC classification number: B24B53/017 ,  B24B37/048 ,  G11B5/3103 ,  G11B5/3116 ,  G11B5/3163

Abstract: 本发明为用于抛光磁头浮动块减小处理致台阶的方法,包括:一杆沿抛光板径向往返运动,并使有抛光面的抛光板旋转,对磁头浮动块的空气轴承面抛光,该杆包括有薄膜磁头件的磁头浮动块。使抛光板以第一速旋转作高度抛光的第一抛光步骤,使抛光板以等于或小于第一速的第二速旋转作精抛光的第二抛光步骤,在第二步中，第二速如此设置，使得沿抛光板旋转方向的平均线速等于或小于0.032米/秒(最好0.008米/秒)。以减小处理致台阶。

公开(公告)号：CN1216116C

公开(公告)日：2005-08-24

申请号：CN00104157.6

申请日：2000-03-15

Applicant: 东京磁气印刷株式会社 ,  TDK株式会社

Inventor： 铃木康之 ,  贺来智弘 ,  齐藤军夫 ,  折井一也 ,  藤田恭敏 ,  山口正雄 ,  佐佐木正博

IPC: C09K3/14

CPC classification number: C09G1/02 ,  C09K3/1472

Abstract: 本发明涉及一种游离磨料浆料组合物，该游离磨料浆料组合物有利于由多种各自有不同硬度的材料构成的复合材料的均匀研磨，不会引起选择性研磨。该游离磨料浆料组合物含有磨料颗粒、防摩擦剂作为防选择性研磨剂、以及分散剂，所述防摩擦剂是其分子链中含有硫和/或磷，或羟基的化合物。

公开(公告)号：CN1207374C

公开(公告)日：2005-06-22

申请号：CN01103041.0

申请日：2001-01-18

Applicant: 东京磁气印刷株式会社 ,  TDK株式会社

Inventor： 折井一也 ,  齐藤军夫 ,  藤田恭敏 ,  樱田俊道 ,  山口正雄

IPC: C10M115/04 ,  C10N30

CPC classification number: B24B37/048 ,  B24B37/042

Abstract: 本发明涉及一种研磨油组合物，该组合物有利于在抛光研磨中的使用，提供高质量的研磨表面，不会引起在抛光研磨复合材料时出现的选择研磨。研磨油组合物含有至少一种炔族二醇化合物，较好的还含有至少一种磷酸酯化合物。

公开(公告)号：CN1196107C

公开(公告)日：2005-04-06

申请号：CN01103077.1

申请日：2001-01-22

Applicant: TDK株式会社 ,  东京磁气印刷株式会社

Inventor： 樱田俊道 ,  藤田恭敏 ,  山口正雄 ,  折井一也 ,  斋藤军夫

IPC: G11B5/187 ,  G11B5/60 ,  G11B21/21 ,  B24B39/00

CPC classification number: B24B53/017 ,  B24B37/048 ,  G11B5/3103 ,  G11B5/3116 ,  G11B5/3163

Abstract: 本发明为用于抛光磁头浮动块减小处理致台阶的方法，包括：一杆沿抛光板径向往返运动，并使有抛光面的抛光板旋转，对磁头浮动块的空气轴承面抛光，该杆包括有薄膜磁头件的磁头浮动块。使抛光板以第一速旋转作高度抛光的第一抛光步骤，使抛光板以等于或小于第一速的第二速旋转作精抛光的第二抛光步骤，在第二步中，第二速如此设置，使得沿抛光板旋转方向的平均线速等于或小于0.032米/秒(最好0.008米/秒)。以减小处理致台阶。

公开(公告)号：CN1309167A

公开(公告)日：2001-08-22

申请号：CN01103041.0

申请日：2001-01-18

Applicant: 东京磁气印刷株式会社 ,  TDK株式会社

Inventor： 折井一也 ,  齐藤军夫 ,  藤田恭敏 ,  樱田俊道 ,  山口正雄

IPC: C10M115/04 ,  C10N30/00

CPC classification number: B24B37/048 ,  B24B37/042

Abstract: 本发明涉及一种研磨油组合物,该组合物有利于在抛光研磨中的使用,提供高质量的研磨表面,不会引起在抛光研磨复合材料时出现的选择研磨。研磨油组合物含有至少一种炔族二醇化合物,较好的还含有至少一种磷酸酯化合物。