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公开(公告)号：CN100507529C
公开(公告)日：2009-07-01
申请号：CN200510052635.7
申请日：2005-03-07
Applicant: 大日本网目版制造株式会社
IPC: G01N21/956 , H05K3/00 , H01L21/66
Abstract: 本发明涉及一种光学式外观检查方法以及光学式外观检查装置，是将薄膜掩膜(1)承载在承载台(2)上，从以追随摄像部(3)的形式而安装着的空气喷出部件(6)通过喷嘴(7)向摄像部(3)的扫描位置的附近喷出空气。利用向扫描位置的附近喷出的空气，在使薄膜掩膜(1)上的扫描位置周边与承载台(2)紧密接触的同时，由摄像部(3)对薄膜掩膜(1)进行扫描，对薄膜掩膜(1)的检查区域进行摄像。这样，能够使用便宜的装置对薄膜掩膜等的柔性的薄板基板进行正确的检查。
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公开(公告)号：CN100505156C
公开(公告)日：2009-06-24
申请号：CN200710087848.2
申请日：2007-03-21
Applicant: 大日本网目版制造株式会社
Inventor： 宫胜彦
Abstract: 一种基板处理装置以及基板处理方法，防止在使被液体浸湿的基板表面干燥时在基板表面上形成的图案发生破坏，良好地干燥基板表面。冲洗液以盛满的状态附着在通过从冲洗喷嘴(8)喷出冲洗液而经受了冲洗处理的整个基板表面(Wf)上，而形成所谓的桨叶状的冲洗层(21)。并且，邻近挡块(3)的对置面(31)相对基板表面(Wf)邻近配置，在对置面(31)与基板表面(Wf)所夹着的间隙空间(SP)中形成液封层(23)，在此状态下，邻近构件(3)向移动方向(-X)移动，同时向液封层(23)的上游侧端部供给含有能溶解在液体中而使表面张力降低的溶剂成分的溶剂气体。
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公开(公告)号：CN100493905C
公开(公告)日：2009-06-03
申请号：CN200610172422.2
申请日：2006-12-27
Applicant: 大日本网目版制造株式会社
CPC classification number: B41M1/06 , B41C1/1075 , B41P2227/70 , G03F7/3035
Abstract: 一种显影处理方法及实施该显影处理方法的印刷机，该方法具备：通过图像记录装置在印刷版上记录图像的图像记录工序、在与记录有图像的印刷版上的各墨键对应的区域上，图案面积比率越小则将墨供给装置的各墨键的开度设定得越大的墨键开度设定工序、通过墨供给装置向墨辊上供给墨的墨预备供给工序、将墨辊上的墨转移至润版液辊上的墨转移工序、通过润版液辊向印刷版供给润版液的润版液供给工序、通过墨辊向印刷版供给墨的墨供给工序、以及将印刷版上的墨转印至印刷用纸上的转印工序。
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公开(公告)号：CN100470239C
公开(公告)日：2009-03-18
申请号：CN200510048814.3
申请日：2005-12-28
Applicant: 大日本网目版制造株式会社
Abstract: 本发明涉及一种凸起检查装置以及方法，形状检出部，从由CCD照相机取得的目标图像中所包含的表示凸起的图像中，检测出具有正确的凸起的形状的图像。检查区域设定部，在目标图像的区域中，将至少包含由形状检出部检测出的图像的区域作为非检查区域，而将其它区域作为检查区域来设定。主图像存储部，存储成为检查的基准的主图像。比较检查部，针对由检查区域设定部设定的检查区域，比较目标图像与主图像，从而检查凸起是否以规定的精度形成。
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公开(公告)号：CN100452340C
公开(公告)日：2009-01-14
申请号：CN200510137082.5
申请日：2005-12-23
Applicant: 日本网目版制造株式会社
Abstract: 基片处理设备包括用于接纳各自存放多张基片的整体容器的存放区、用于整体地处理多张基片的第一处理区、用于一次处理一张基片的第二处理区、以及用于在整体容器、第一处理区和第二处理区之间输送诸基片的输送装置。可以按整体地处理多张基片的方式和/或一次处理一张基片的方式处理基片。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN100451837C
公开(公告)日：2009-01-14
申请号：CN200510066854.0
申请日：2005-04-29
Applicant: 大日本网目版制造株式会社
Inventor： 城田浩行
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
Abstract: 一种图形描绘装置和图形描绘方法，与DMD的微小反射镜对应的光照射区域(61)的排列相对设定在基板上的描绘单元(620)的排列而倾斜，使光照射区域组相对描绘单元组而在主扫描方向上相对移动，由此进行图形的描绘，在此情况下，在大致主扫描方向上相互邻接的2个光照射区域(61)中，相对于副扫描方向的中心间的距离等于描绘单元(620)的描绘间距，并且相对于主扫描方向的中心间的距离为描绘间距的a倍，在使光照射区域组相对移动描绘间距的n倍(其中，n表示3或其以上的整数)的距离的期间，一次控制对各光照射区域(61)的光照射的ON/OFF。在此，(a2+1)与n互为素数，由此可以高分辨率、高速地描绘适当的图形。
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公开(公告)号：CN101324760A
公开(公告)日：2008-12-17
申请号：CN200810109454.7
申请日：2008-06-12
Applicant: 大日本网目版制造株式会社
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提供一种描绘系统、描绘装置及描绘方法，其能够在多台描绘装置或多个描绘处理部中，使用来自一个光源的光同时进行描绘处理和其它处理，能够提高激光的工作率和基板的制造效率。描绘系统(100)将从激光振荡器(110)射出的脉冲光分割为主脉冲光和副脉冲光，将主脉冲光和副脉冲光交替分配给第一描绘装置(1a)和第二描绘装置(1b)。因此，能够在两台描绘装置(1a、1b)中，并行交替地进行使用了主脉冲光的描绘处理和使用了副脉冲光的校准处理。由此，能够提高激光振荡器(110)的工作率和基板(9)的制造效率。
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公开(公告)号：CN100428439C
公开(公告)日：2008-10-22
申请号：CN200610127474.8
申请日：2006-09-15
Applicant: 大日本网目版制造株式会社
IPC: H01L21/677 , H01L21/00 , B65G49/05 , B65G49/06 , B65G49/07
CPC classification number: H01L21/67766 , H01L21/67167 , H01L21/67742 , H01L21/67745 , Y10S414/137
Abstract: 本发明涉及一种基板处理装置，包括：盒体装载台；第一搬送机构，其具有相对被装载在该盒体装载台的盒体可进退的第一基板保持手部，用于通过该第一基板保持手部对上述盒体交接基板；基板处理部，其用于对基板实施处理；第二搬送机构，其具有相对上述第一搬送机构以及上述基板处理部可进退、并且以铅直轴为中心可旋转的第二基板保持手部，用于通过该第二基板保持手部对上述第一搬送机构以及上述基板处理部交接基板；移动机构，其用于沿盒体的排列方向使上述第一搬送机构移动；控制单元，其在上述第一搬送机构与多个盒体分别对置的位置，使在上述第一搬送机构和上述第二搬送机构之间的基板的交接进行。
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公开(公告)号：CN100427877C
公开(公告)日：2008-10-22
申请号：CN200610068377.6
申请日：2006-03-30
Applicant: 大日本网目版制造株式会社
IPC: G01B11/06
Abstract: 一种不匀检查装置，具有：载物台，其保持基板；光射出部，其向基板的形成了膜的上表面射出线状光；受光部，其接受来自基板的反射光；波段切换机构，其被配置在基板和受光部之间来切换光的波段；移动机构，其移动载物台；检查部，其基于所接受的光的强度分布来检查膜厚不匀。在不匀检查装置中，通过将从光射出部入射到基板的光相对上表面的入射角θ1设为60°，从而能够使可进行高精度不匀检测的膜厚的范围变大，同时能够防止相对膜厚的反射率的极大点附近区域、即低灵敏度区域的宽度变宽。其结果是能够防止膜厚的变化幅度包含在低灵敏度区域内，并精度较高地检测出微小侧膜厚不匀。
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公开(公告)号：CN101275917A
公开(公告)日：2008-10-01
申请号：CN200810086302.X
申请日：2008-03-25
Applicant: 大日本网目版制造株式会社
Abstract: 本发明提供一种能够以简单的结构在执行描绘之前检测用于图形描绘的行程长度数据的缺陷的技术。分别取得输入CAD数据(D1)和通过对该输入CAD数据(D1)进行RIP处理来取得的行程长度数据(D2)。然后，对输入CAD数据(D1)和行程长度数据(D2)中的至少一种数据执行规定的转换处理，以使两种数据变成能够相互比较的数据格式，并比较两种数据，进而检测出有差异的区域而作为行程长度数据(D2)的缺陷区域。
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