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公开(公告)号:CN106795618A
公开(公告)日:2017-05-31
申请号:CN201580055805.9
申请日:2015-10-15
Applicant: 夏普株式会社
Abstract: 在掩模基板(2)上,磁性体部(4)将掩模基板(2)的Y开口部列(31)间和X开口部列(32)间分别进行划分,并且将X开口部列(32)间进行划分的磁性体部(4)中,位于在Y方向相邻的开口部(3)之间的部分的厚度比位于相互相邻的Y开口部列(31)间的部分的厚度更薄。
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公开(公告)号:CN105283576B
公开(公告)日:2017-03-08
申请号:CN201480033438.8
申请日:2014-03-10
Applicant: 夏普株式会社
CPC classification number: C23C14/042 , C23C14/044 , C23C14/12 , C23C14/24 , C23C16/042 , H01L51/0011 , H01L51/56
Abstract: 蒸镀单元(1)具备蒸镀掩模(50)、蒸镀源X轴方向隔开设置的多个第一限制板(32)和俯视时在第一限制板(32)上在X轴方向隔开设置的多个第二限制板(42),在X轴方向,相对于每1块第一限制板(32)设置有至少2块第二限制板(42)。(10)和限制板单元(20)。限制板单元(20)具备在
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公开(公告)号:CN104968827B
公开(公告)日:2016-12-21
申请号:CN201480007204.6
申请日:2014-01-28
Applicant: 夏普株式会社
CPC classification number: C23C16/042 , C23C14/04 , C23C14/12 , H01L51/001 , H01L51/50
Abstract: 蒸镀装置(50)包括Y轴和X轴方向的长度比被成膜基板(200)短的多个蒸镀掩模(80),在Y轴方向上相邻的蒸镀掩模(80)在X轴方向上错开地配置,在Y轴方向上相邻的各掩模开口组区域面视图中Y轴方向的开口长度随着向各掩模开口组区域(82)的外侧去而逐渐变短。(82)在X轴方向上重叠的重叠区域(83)中,在平
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公开(公告)号:CN103270816B
公开(公告)日:2016-05-18
申请号:CN201180062848.1
申请日:2011-12-20
Applicant: 夏普株式会社
IPC: H01L51/50
CPC classification number: H01L51/56 , C23C14/042 , C23C16/042 , H01L21/02104 , H01L27/3211 , H01L51/0011 , H01L2227/323 , H01L2251/566 , H05B33/04 , H05B33/10
Abstract: 屏蔽膜(13)以在显示区域(R1)(发光区域)和密封区域内具有开口部的方式形成,接着形成具有条状的图案的发光层(8R、8G、8B),接着剥离屏蔽膜(13),从而形成被高精细地图案形成的发光层(8R、8G、8B)。
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公开(公告)号:CN105473757A
公开(公告)日:2016-04-06
申请号:CN201480044817.7
申请日:2014-07-25
Applicant: 夏普株式会社
CPC classification number: C23C14/24 , C23C14/042 , H01L27/3211 , H01L51/0011 , H01L51/5012 , H01L51/56
Abstract: 本发明提供能够防止由蒸镀流的散射引起的异常成膜的发生的蒸镀装置、和利用该蒸镀装置形成薄膜图案的有机电致发光元件的制造方法。本发明为一种蒸镀装置,其包括:具有射出蒸镀颗粒的喷嘴的蒸镀源;一体化限制板,该一体化限制板具有在该喷嘴的前方具有开口部的第一限制板、和配置在该第一限制板的开口部内的多个第二限制板;和具有多个缝隙的掩模。本发明还为一种有机电致发光元件的制造方法,其包括使用该蒸镀装置形成薄膜的图案的蒸镀工序。
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公开(公告)号:CN105324511A
公开(公告)日:2016-02-10
申请号:CN201480035328.5
申请日:2014-05-01
Applicant: 夏普株式会社
CPC classification number: H01L51/0011 , C23C14/042 , C23C14/24 , H01L27/3244 , H01L51/5012
Abstract: 本发明提供能够抑制模糊宽度增大并且缩短成膜时间的有机EL元件的制造方法和有机EL显示装置。本发明是使用扫描蒸镀法的有机EL元件的制造方法,其特征在于,以与限制板的各开口部相对的方式在蒸镀源设置多个射出口,将与同一开口部相对的多个射出口相互分离地配置,使得由下述式(1)表示的分布之和为1以下。Ri表示与同一开口部相对的多个射出口中的射出口i的最大成膜速率,i表示1以上m以下的整数,m表示与同一开口部相对的多个射出口的个数,ri表示蒸镀工序中的射出口i的实际的成膜速率,ni为射出口i的n值(0以上的数),θi表示将射出口i与成膜区域内的任意点连结的线段与主成膜方向所成的角。
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公开(公告)号:CN103270815B
公开(公告)日:2015-11-25
申请号:CN201180062668.3
申请日:2011-12-20
Applicant: 夏普株式会社
IPC: H05B33/10 , C23C14/04 , C23C14/24 , G09F9/30 , H01L27/32 , H01L51/50 , H05B33/04 , H05B33/06 , H05B33/26
CPC classification number: H01L51/0011 , C23C14/042 , C23C14/12 , H01L51/0008
Abstract: 本发明的蒸镀方法包括:准备工序,准备固定蒸镀掩模(81)与蒸镀源(85)的相对位置的掩模单元;蒸镀工序,使上述掩模单元和被成膜基板(200)中的至少一个相对移动,使从蒸镀源(85)射出的蒸镀流蒸镀在蒸镀区域(210);和闸门位置调整工序,调整第二闸门(111)的位置,以遮蔽流向不需蒸镀区域(210)的蒸镀流。
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公开(公告)号:CN103270189B
公开(公告)日:2015-09-23
申请号:CN201180061824.4
申请日:2011-12-19
Applicant: 夏普株式会社
CPC classification number: C23C16/45578 , C23C14/24 , C23C14/243 , H01L21/02263 , H01L51/001 , H01L51/56 , H05B33/10
Abstract: 本发明的蒸镀装置(50)是对被成膜基板(60)进行成膜的蒸镀装置,其具备:具有射出蒸镀颗粒的射出口(81)的蒸镀源(80);向蒸镀源(80)供给蒸镀颗粒的蒸镀源坩埚(82);通过使蒸镀源(80)旋转来使蒸镀颗粒的射出量的分布发生变化的旋转电动机(86)。
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公开(公告)号:CN103238374B
公开(公告)日:2015-06-24
申请号:CN201180058041.0
申请日:2011-12-15
Applicant: 夏普株式会社
CPC classification number: H01L51/56 , C23C14/044 , C23C14/12 , C23C14/562 , C23C16/45578 , H01L27/3244 , H01L51/0011
Abstract: 依次配置有蒸镀源(60)、限制板单元(80)、蒸镀掩模(70)。限制板单元具备沿一个方向配置的多个限制板(81)。限制板单元的规定限制空间(82)的面(83)和限制板单元的与蒸镀源相对的面(84)中的至少一部分,由相对于基部(85)能够装卸的至少一个外面部件(110、120)构成。由此,能获得能够在大型的基板上形成端缘的模糊受到抑制的覆膜的维护性优良的蒸镀装置。
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公开(公告)号:CN103189542B
公开(公告)日:2014-12-03
申请号:CN201180052599.8
申请日:2011-10-11
Applicant: 夏普株式会社
CPC classification number: H01L22/20 , C23C14/042 , C23C14/24 , C23C14/54 , H01L27/3211 , H01L51/001 , H01L2924/0002 , H01L2924/00
Abstract: 在使基板(10)相对于蒸镀掩模(70)以隔开固定间隔的状态相对移动的同时,使从蒸镀源(60)的蒸镀源开口(61)放出的蒸镀颗粒(91)依次通过控制板单元(80)具有的多个控制板(81)间的空间和蒸镀掩模的掩模开口(71)并附着在基板上形成覆膜(90)。检测蒸镀源和控制板单元间的热膨胀量差并对该热膨胀量差进行校正。由此,能够在大型基板上的期望位置形成抑制了端缘的模糊及其偏差的覆膜。
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