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公开(公告)号：CN110846615B
公开(公告)日：2021-07-27
申请号：CN201911156160.4
申请日：2019-11-22
Applicant: 桂林理工大学
Abstract: 本发明涉及钢基体薄膜材料技术领域，尤其涉及一种微纳结构层和利用微纳结构层提高氟化类金刚石薄膜与钢基体结合力的方法。本发明的微纳结构层，包括在钢基体表面依次层叠设置的钢修饰层、钢掺杂过渡层和钢掺杂氟化类金刚石薄膜层；所述钢掺杂氟化类金刚石薄膜层与所述氟化类金刚石薄膜接触。本发明的钢修饰层、钢掺杂过渡层和钢掺杂氟化类金刚石薄膜层均为连续的钢结构，使钢能够穿插于整个微纳米结构层中，所述钢的贯穿起到类似铆钉的作用，以提高FDLC薄膜与钢基体的结合力；同时，所述钢掺杂过渡层，起到阻止碳元素在钢基体中的扩散和FDLC薄膜与钢基体热膨胀系数的匹配，降低薄膜的内应力。
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公开(公告)号：CN110560142B
公开(公告)日：2022-03-22
申请号：CN201910952858.0
申请日：2019-10-09
Applicant: 桂林理工大学
Abstract: 本发明涉及光催化材料技术领域，尤其涉及一种光催化复合薄膜及其制备方法和应用。本发明提供了一种光催化复合薄膜，包括二硫化钼和氮化铜；所述二硫化钼和氮化铜的质量比为(5～30)：100。本发明所述光催化复合薄膜具有较高的催化效率，根据实施例的记载，本发明所述的光催化复合薄膜在光催化降解甲基橙30min后，降解率最高可达99.8％；本发明还提供了所述光催化复合薄膜的制备方法，所述制备方法操作简单、重复性好、可控性好、制作成本低，原料无毒，利用率高，便于控制薄膜的性能，生产流程容易实现。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN110560142A
公开(公告)日：2019-12-13
申请号：CN201910952858.0
申请日：2019-10-09
Applicant: 桂林理工大学
Abstract: 本发明涉及光催化材料技术领域，尤其涉及一种光催化复合薄膜及其制备方法和应用。本发明提供了一种光催化复合薄膜，包括二硫化钼和氮化铜；所述二硫化钼和氮化铜的质量比为(5～30)：100。本发明所述光催化复合薄膜具有较高的催化效率，根据实施例的记载，本发明所述的光催化复合薄膜在光催化降解甲基橙30min后，降解率最高可达99.8％；本发明还提供了所述光催化复合薄膜的制备方法，所述制备方法操作简单、重复性好、可控性好、制作成本低，原料无毒，利用率高，便于控制薄膜的性能，生产流程容易实现。
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公开(公告)号：CN119980408A
公开(公告)日：2025-05-13
申请号：CN202510204185.6
申请日：2025-02-24
Applicant: 桂林理工大学
Abstract: 本发明公开了一种具有硅钠功能层的镁合金及其制备方法，属于金属材料表面加工技术领域。本发明提供了一种具有硅钠功能层的镁合金的制备方法，包括以下步骤：在含硅源、硼源和钠源的电解液中，对镁合金进行阳极氧化处理，得到阳极氧化处理后的镁合金；将阳极氧化处理后的镁合金置于含硅源和钠源的溶液A中进行水热反应得到水热反应后的镁合金；将水热反应后的镁合金打磨后，置于含硅源和钠源的溶液B中，采用微弧氧化法得到具有硅钠功能层的镁合金。本发明的制备方法制备得到具有硅钠功能层的镁合金有效提高了镁合金的防腐蚀和耐磨性能。
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公开(公告)号：CN110846615A
公开(公告)日：2020-02-28
申请号：CN201911156160.4
申请日：2019-11-22
Applicant: 桂林理工大学
Abstract: 本发明涉及钢基体薄膜材料技术领域，尤其涉及一种微纳结构层和利用微纳结构层提高氟化类金刚石薄膜与钢基体结合力的方法。本发明的微纳结构层，包括在钢基体表面依次层叠设置的钢修饰层、钢掺杂过渡层和钢掺杂氟化类金刚石薄膜层；所述钢掺杂氟化类金刚石薄膜层与所述氟化类金刚石薄膜接触。本发明的钢修饰层、钢掺杂过渡层和钢掺杂氟化类金刚石薄膜层均为连续的钢结构，使钢能够穿插于整个微纳米结构层中，所述钢的贯穿起到类似铆钉的作用，以提高FDLC薄膜与钢基体的结合力；同时，所述钢掺杂过渡层，起到阻止碳元素在钢基体中的扩散和FDLC薄膜与钢基体热膨胀系数的匹配，降低薄膜的内应力。
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公开(公告)号：CN110560136A
公开(公告)日：2019-12-13
申请号：CN201910903548.X
申请日：2019-09-24
Applicant: 桂林理工大学
Abstract: 本发明涉及光催化材料技术领域，尤其涉及一种光催化薄膜及其制备方法和应用。本发明提供的光催化薄膜，包括依次设置的第一TiO2层、Cu3N层和第二TiO2层。所述光催化剂薄膜用于光催化降解甲基橙时的降解率可达99.2％；本发明提供的所述光催化剂薄膜的制备方法可以较好的控制薄膜Cu3N层的组分，有利于规模化生产，且方法简单，制作成本低，原料无毒，利用率高，便于控制各层的结构及性能，生产流程容易实现。
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公开(公告)号：CN105514397A
公开(公告)日：2016-04-20
申请号：CN201610117650.3
申请日：2016-03-02
Applicant: 桂林理工大学
Abstract: 本发明公开了一种制备氮掺杂碳纳米管的方法。（1）将70~100mg含硫氮源与350~500mg碳纳米管混合放入研钵中充分研磨50~60分钟；（2）将体积比为1:4~1:2的浓H2SO4与浓HNO3混合；（3）将步骤（1）所得物放入步骤（2）所得物中温和超声24~72小时，用去离子水稀释，并通过0.22~0.45微米微孔膜过滤除杂；（4）将步骤（3）所得物重新分散在去离子水中并用碱性溶液将pH值调至中性，60℃烘干；（5）将步骤（4）所得物置于惰性气体气氛的石英管中烧至650~850℃，保持10~20小时，使N充分的扩散到碳纳米管的空隙中去，降至室温，得到氮掺杂碳纳米管。本发明工艺简单，成本低，很好地提高碳纳米管的电导率，使氮很好的掺进碳纳米管中，使碳纳米管的导电性能得到改善。
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