磁吸式抛光夹具和抛光装置

    公开(公告)号:CN110385632B

    公开(公告)日:2025-05-16

    申请号:CN201910655129.9

    申请日:2019-07-19

    Applicant: 南开大学

    Abstract: 本发明属于抛光技术领域,具体涉及一种磁吸式抛光夹具和抛光装置。本发明为了解决传统抛光过程中上片和取片工序繁琐、耗时长且易碎片的问题,本发明提出的磁吸式抛光夹具包括夹具本体,所述夹具本体的正面开设有第一止口,第一止口面上用于放置待抛光件;所述夹具本体的背面开设有多个盲孔,盲孔内用于放置磁体;在待抛光件放置于第一止口面上之后,放置于盲孔内的磁体能够将待抛光件吸附于第一止口面上。本发明的磁吸式抛光夹具采用磁力吸附放片和取片,无需采用粘接剂,无需烘箱加热,在室温下即可完成放片和取片工序。不仅在取片和装片的过程中用时更短,而且解决了传统抛光机采用粘接剂放片和取片时容易碎片的问题。

    一种采用镀膜法制备宽光谱高透过率增透膜的方法

    公开(公告)号:CN104150786B

    公开(公告)日:2016-08-24

    申请号:CN201410390242.6

    申请日:2014-08-11

    Applicant: 南开大学

    Abstract: 一种采用镀膜法制备宽光谱高透过率增透膜的方法,通过制备含Si低分子、低粘度、低粒度、低折射率的前驱液,控制镀膜的工艺条件,就可获得宽光谱高透过率增透膜,包括如下步骤:1)配置含Si低分子、低粘度、低粒度、低折射率的前驱液;2)利用上述前驱液采用镀膜法在衬底材料单面或双面蒸镀折射率为1.2?1.4、厚度为30?150纳米的透明增透膜层;3)将镀膜后的样品在马佛炉进行退火以增加其附着力和耐磨性制得目标物。本发明的优点是:采用镀膜法制备宽光谱高透过率增透膜的方法,在可见光380?780nm的宽光谱范围内,可以在任意材质的玻璃上获得透过率增加值ΔτV大于7%的高透过率玻璃。

    一种小流量稳定流速供液装置

    公开(公告)号:CN104345742A

    公开(公告)日:2015-02-11

    申请号:CN201410549816.X

    申请日:2014-10-17

    Applicant: 南开大学

    Abstract: 一种小流量稳定流速供液装置,由气瓶、气体质量流量计、密封容器和超声喷雾喷头或注射针头组成并通过管道串联连接,气瓶设有阀门,气瓶与气体质量流量计之间的管道上由减压表连接,气体质量流量计分别由气体质量流量计电源和计算机控制,并分别通过导线连接,超声喷雾喷头由超声喷雾喷头电源控制并通过导线连接;由气体质量流量计、密封容器和超声喷雾喷头或注射针头串联组成的供液部分,可构成多组供液并联接入供液装置内。本发明的优点是:该装置可以提供稳定流速、无间歇、无浪涌现象的小流量供液,适合于医药注射、超声喷雾等需要小流量稳定流速供液的场合使用,具有较好的实用推广价值。

    一种折射率连续可调的透明膜层材料的制备方法

    公开(公告)号:CN104195530A

    公开(公告)日:2014-12-10

    申请号:CN201410390311.3

    申请日:2014-08-11

    Applicant: 南开大学

    Abstract: 一种折射率连续可调透明膜层材料的制备方法,步骤如下:将正硅酸乙酯、氨水、无水乙醇和去离子水混合,磁力搅拌后制得低折射率前驱液A;将钛酸丁酯、乙酰丙酮、无水乙醇和去离子混合,磁力搅拌后制得高折射率前驱液B;将前驱液A和前驱液B按照不同体积比混合,磁力搅拌后制得镀膜前驱液C;采用镀膜法在衬底上利用镀膜前驱液C制备折射率为1.2-2.3的透明膜层,退火后即可制得目标物透明膜层材料。本发明的优点是:该制备方法通过控制两种高、低折射率镀膜前驱液的混合比例,即可获得介于高、低两种折射率之间的折射率任意连续可调的膜层;所用的衬底材料可以是任意大小、任意形状和任意材质的固体以及任意半导体或光学器件的界面。

    一种采用镀膜法制备宽光谱高透过率增透膜的方法

    公开(公告)号:CN104150786A

    公开(公告)日:2014-11-19

    申请号:CN201410390242.6

    申请日:2014-08-11

    Applicant: 南开大学

    Abstract: 一种采用镀膜法制备宽光谱高透过率增透膜的方法,通过制备含Si低分子、低粘度、低粒度、低折射率的前驱液,控制镀膜的工艺条件,就可获得宽光谱高透过率增透膜,包括如下步骤:1)配置含Si低分子、低粘度、低粒度、低折射率的前驱液;2)利用上述前驱液采用镀膜法在衬底材料单面或双面蒸镀折射率为1.2-1.4、厚度为30-150纳米的透明增透膜层;3)将镀膜后的样品在马佛炉进行退火以增加其附着力和耐磨性制得目标物。本发明的优点是:采用镀膜法制备宽光谱高透过率增透膜的方法,在可见光380-780nm的宽光谱范围内,可以在任意材质的玻璃上获得透过率增加值ΔτV大于7%的高透过率玻璃。

    磁吸式抛光夹具和抛光装置

    公开(公告)号:CN110385632A

    公开(公告)日:2019-10-29

    申请号:CN201910655129.9

    申请日:2019-07-19

    Applicant: 南开大学

    Abstract: 本发明属于抛光技术领域,具体涉及一种磁吸式抛光夹具和抛光装置。本发明为了解决传统抛光过程中上片和取片工序繁琐、耗时长且易碎片的问题,本发明提出的磁吸式抛光夹具包括夹具本体,所述夹具本体的正面开设有第一止口,第一止口面上用于放置待抛光件;所述夹具本体的背面开设有多个盲孔,盲孔内用于放置磁体;在待抛光件放置于第一止口面上之后,放置于盲孔内的磁体能够将待抛光件吸附于第一止口面上。本发明的磁吸式抛光夹具采用磁力吸附放片和取片,无需采用粘接剂,无需烘箱加热,在室温下即可完成放片和取片工序。不仅在取片和装片的过程中用时更短,而且解决了传统抛光机采用粘接剂放片和取片时容易碎片的问题。

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