一种基于反射光谱的流场表面压力测量方法

    公开(公告)号:CN119124444B

    公开(公告)日:2025-02-07

    申请号:CN202411620701.5

    申请日:2024-11-14

    Abstract: 本发明提供一种基于反射光谱的流场表面压力测量方法,涉及高速流场压力测量领域,解决了现有高速流场测压技术的空间分辨率低、破坏流场结构、抗电磁干扰能力弱和稳定性差等问题;方法包括:基于光栅理论中的光栅反常现象,设计一维光栅波导结构器件,对设计完成的一维光栅波导结构器件进行制备;对制备完成的一维光栅波导结构器件进行压力标定,标定完成后将其置入高速流场的试验压力测量系统中,通过一维光栅波导结构器件的反射光谱,进行模型表面的流场压力测量;本发明通过柔性光栅结构的压力敏感机理设计光栅结构,通过反射光谱频率移动实现对高速流场压力的实时测量,对流场干扰小、环境电磁干扰小、装置简洁、测量及维护成本低。

    一种测压耙及其稳定方法

    公开(公告)号:CN113267313B

    公开(公告)日:2021-09-14

    申请号:CN202110811806.9

    申请日:2021-07-19

    Abstract: 本发明公开了一种测压耙及其稳定方法,用于解决在风洞试验过程中,测压耙的总压管、静压管摆动所带来的试验精度降低的问题。该测压耙包括耙体、测量组件,所述测量组件为至少两组且测量组件布置于耙体上;所述测量组件包括总压管、静压管、第一稳压装置、第二稳压装置,所述总压管为至少两个;所述第一稳压装置的第一侧边连接管套设在总压管上且第一稳压装置能与总压管保持相对静止;所述第二侧边连接管套设在总压管上且第二稳压装置能与总压管保持相对静止,所述第三侧边连接管套设在静压管上且第二稳压装置能与静压管保持相对静止。采用本发明,相同状态不同车次试验的重复性吻合很好,计算的出口Ma数和内流阻力系数精度得到明显提升。

    一种测压耙及其稳定方法
    10.
    发明公开

    公开(公告)号:CN113267313A

    公开(公告)日:2021-08-17

    申请号:CN202110811806.9

    申请日:2021-07-19

    Abstract: 本发明公开了一种测压耙及其稳定方法,用于解决在风洞试验过程中,测压耙的总压管、静压管摆动所带来的试验精度降低的问题。该测压耙包括耙体、测量组件,所述测量组件为至少两组且测量组件布置于耙体上;所述测量组件包括总压管、静压管、第一稳压装置、第二稳压装置,所述总压管为至少两个;所述第一稳压装置的第一侧边连接管套设在总压管上且第一稳压装置能与总压管保持相对静止;所述第二侧边连接管套设在总压管上且第二稳压装置能与总压管保持相对静止,所述第三侧边连接管套设在静压管上且第二稳压装置能与静压管保持相对静止。采用本发明,相同状态不同车次试验的重复性吻合很好,计算的出口Ma数和内流阻力系数精度得到明显提升。

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