具有单边阻变特性的碳基材料阻变存储单元及其制备方法

    公开(公告)号:CN108336225A

    公开(公告)日:2018-07-27

    申请号:CN201810151503.7

    申请日:2018-02-14

    Applicant: 上海大学

    CPC classification number: H01L45/04 H01L45/149 H01L45/16 H01L45/1625

    Abstract: 本发明公开了一种具有多态阻变特性的非晶碳基阻变存储单元及其制备方法,该单元结构由底电极、阻变介质层、顶电极组成。其中所述底电极为位于衬底上的FTO,阻变介质层为非晶碳膜,顶电极为铝。本发明公开了其制备方法,具体是采用直流磁控溅射在FTO/SiO2衬底上生长a-C膜,然后使用热蒸发制备Al电极;本发明同时公开了多态阻变功能的实现方法,即通过设置不同限流,以达到多态存储功能。本发明的多态阻变单元具有良好的开关特性、稳定性和可重复性,其制备方法简单,成本低。

    基于类金刚石薄膜中间层的纳米金刚石薄膜制备方法

    公开(公告)号:CN109811303A

    公开(公告)日:2019-05-28

    申请号:CN201910060964.8

    申请日:2019-01-23

    Applicant: 上海大学

    Abstract: 本发明公开了一种基于类金刚石薄膜中间层的纳米金刚石薄膜制备方法,利用离子束复合中频溅射法在单晶硅衬底上预先沉积一层类金刚石薄膜作为中间层;随后在类金刚石薄膜中间层上利用微波等离子体气相沉积法,外加负偏压辅助沉积得到纳米金刚石薄膜。本发明利用类金刚石薄膜产生高浓度的碳源,增加碳的过饱和度,从而提高了纳米金刚石薄膜的形核密度;在偏压形核过程中引入大量的原子氢,增加刻蚀效率,对降低纳米金刚石薄膜的晶粒尺寸,提高异质外延纳米金刚石薄膜的形核密度,以及制备高质量纳米金刚石薄膜有很大意义。

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