公开(公告)号：CN113495429A

公开(公告)日：2021-10-12

申请号：CN202110349838.1

申请日：2021-03-31

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 禹昌秀 ,  姜恩美 ,  金宰贤 ,  金智敏 ,  金兑镐 ,  南宫烂 ,  文京守 ,  田桓承 ,  蔡承龙 ,  韩承

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/00

Abstract: 本发明公开一种包含由化学式1表示的有机金属化合物、光酸产生剂(PAG)以及溶剂的半导体光刻胶组合物和使用其形成图案的方法。化学式1的细节如详细描述中所定义。[化学式1]。

公开(公告)号：CN111352300A

公开(公告)日：2020-06-30

申请号：CN201911326113.X

申请日：2019-12-20

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 林栽范 ,  金瑆焕 ,  金昇炫 ,  金兑镐 ,  朴裕信 ,  梁善暎

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/09 ,  G03F7/00

Abstract: 本发明提供一种硬掩模组合物、硬掩模层及形成图案的方法。硬掩模组合物包含由化学式1表示的化合物和溶剂：[化学式1] 在化学式1中，A、B以及n的定义与详细描述中描述的相同。本发明的硬掩模组合物及硬掩模层具有改进的耐蚀刻性和耐化学性。

公开(公告)号：CN106243326B

公开(公告)日：2019-04-09

申请号：CN201610393116.5

申请日：2016-06-06

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 朴裕信 ,  金兑镐 ,  崔有廷 ,  姜善惠 ,  权孝英 ,  金相均 ,  金永珉 ,  南沇希 ,  宋炫知 ,  尹星莉 ,  李东槿 ,  郑瑟基

IPC: C08G61/12 ,  G03F7/20

Abstract: 本发明提供一种包含由化学式1表示的结构单元的聚合物和包含所述聚合物的有机层组成物。[化学式1]所述化学式1与具体实施方式中所定义的相同。

公开(公告)号：CN119024654A

公开(公告)日：2024-11-26

申请号：CN202410424324.1

申请日：2024-04-10

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 扈锺必 ,  文炯朗 ,  韩承 ,  金兑镐 ,  朴景铃 ,  朴时均 ,  郭泽秀 ,  朴庆熏 ,  宋明洙 ,  裵鎭希 ,  金旼秀

IPC: G03F7/32

Abstract: 提供一种形成图案的方法，所述方法包括在衬底上涂覆含金属抗蚀剂组合物；进行干燥并加热以在衬底上形成含金属抗蚀剂膜；使用经图案化掩模对含金属抗蚀剂膜进行曝光；以及涂覆显影剂组合物以移除未曝光区，进而形成抗蚀剂图案。与显影前抗蚀剂膜的厚度相比，显影后抗蚀剂膜的厚度增加了约5％到约100％，且基于原子总数计，显影后的抗蚀剂膜的表面可包含约5at％到约20at％的选自磷元素及硫元素中的至少一者。

公开(公告)号：CN111352300B

公开(公告)日：2023-07-25

申请号：CN201911326113.X

申请日：2019-12-20

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 林栽范 ,  金瑆焕 ,  金昇炫 ,  金兑镐 ,  朴裕信 ,  梁善暎

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/09 ,  G03F7/00

Abstract: 本发明提供一种硬掩模组合物、硬掩模层及形成图案的方法。硬掩模组合物包含由化学式1表示的化合物和溶剂：[化学式1]在化学式1中，A、B以及n的定义与详细描述中描述的相同。本发明的硬掩模组合物及硬掩模层具有改进的耐蚀刻性和耐化学性。

公开(公告)号：CN109952534A

公开(公告)日：2019-06-28

申请号：CN201780069303.0

申请日：2017-06-14

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 裵信孝 ,  金兑镐 ,  朴裕信 ,  朴惟廷 ,  宋炫知 ,  李贤洙 ,  张慧珍

IPC: G03F7/004 ,  H01L21/027 ,  H01L21/3213 ,  H01L21/02 ,  G03F7/09

Abstract: 本发明提供一种有机膜组成物、一种有机膜以及一种形成图案的方法。所述有机膜组成物包含芳香族环化合物、在所述结构中包含全氟烷基的添加剂及溶剂，其中以所述添加剂的总重量100％计，以0至30重量％的量包含所述添加剂中所包含的氟(F)基，且根据条件1所测量的所述添加剂的表面张力减小率为0.1％至30％。条件1的定义与在说明书中所定义的相同。

公开(公告)号：CN106046696B

公开(公告)日：2019-04-09

申请号：CN201510919487.8

申请日：2015-12-11

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 朴裕信 ,  金润俊 ,  金兑镐 ,  朴惟廷 ,  崔有廷 ,  权孝英 ,  金昇炫 ,  南宫烂 ,  豆米尼阿·拉特维 ,  文秀贤 ,  宋炫知 ,  郑铉日 ,  许柳美

IPC: C08L65/00 ,  C08G61/12 ,  G03F7/00

Abstract: 一种有机层组合物包含：包含由化学式1表示的部分的聚合物、由化学式2表示的单体以及溶剂，还提供一种由所述有机层组合物制造的有机层，和一种使用所述有机层组合物形成图案的方法。所述有机层组合物可以提供同时确保耐蚀刻性、耐热性以及平坦化特征的有机层。化学式1和化学式2的定义与具体实施方式中相同。[化学式1][化学式2]

公开(公告)号：CN119432511A

公开(公告)日：2025-02-14

申请号：CN202411054043.8

申请日：2024-08-02

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 金兑镐 ,  金旼秀 ,  文炯朗 ,  朴时均 ,  裵鎭希 ,  韩承 ,  扈锺必 ,  朴景铃 ,  宋明洙 ,  朴庆熏

IPC: C11D7/28 ,  G03F7/00 ,  G03F1/76 ,  C11D7/50

Abstract: 公开一种用于从含金属的抗蚀剂移除边缘珠粒的组合物、一种含金属的抗蚀剂的显影剂组合物、以及使用其形成图案的方法。根据一个或多个实施例的组合物包含：经至少一个氟取代的C1至C10羧酸化合物；以及有机溶剂。

公开(公告)号：CN115668056A

公开(公告)日：2023-01-31

申请号：CN202180036970.5

申请日：2021-08-20

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 文京守 ,  姜恩美 ,  金宰贤 ,  金智敏 ,  金兑镐 ,  禹昌秀 ,  田桓承 ,  蔡承龙 ,  韩承

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/025 ,  G03F7/027 ,  G03F7/20

Abstract: 本发明涉及一种半导体光致抗蚀剂组成物及使用所述半导体光致抗蚀剂组成物形成图案的方法。所述组成物包含溶剂及由化学式1表示的有机金属化合物。化学式1的具体细节如在说明书中所定义。

公开(公告)号：CN119828412A

公开(公告)日：2025-04-15

申请号：CN202411350373.1

申请日：2024-09-26

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 韩承 ,  文炯朗 ,  金兑镐 ,  扈锺必 ,  裴镇希 ,  韩美莲

IPC: G03F7/004 ,  G03F1/76

Abstract: 提供一种选自用于从含金属抗蚀剂移除边缘珠粒的组合物及含金属抗蚀剂的显影剂组合物的组合物、以及使用所述组合物形成图案的方法，所述组合物包括：包含至少两个酮基的化合物；以及包含选自乙酸酯类溶剂及醇类溶剂中的至少一者的有机溶剂，其中以组合物的总重量计，以约10重量％至约70重量％的量包括包含至少两个酮基的化合物，且以组合物的总重量计，以约30重量％至约90重量％的量包括有机溶剂。