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公开(公告)号:CN110845649B
公开(公告)日:2023-06-06
申请号:CN201910768316.8
申请日:2019-08-20
Applicant: 三星SDI株式会社
IPC: C08F138/00
Abstract: 本发明公开一种包含由化学式1或化学式2表示的结构单元的聚合物、包括所述聚合物的有机层组合物以及使用所述有机层组合物来形成图案的方法。化学式1和化学式2的定义与说明书中所描述的定义相同。
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公开(公告)号:CN111542558A
公开(公告)日:2020-08-14
申请号:CN201880079125.4
申请日:2018-09-17
Applicant: 三星SDI株式会社
IPC: C08G61/12 , C09D183/04 , G03F7/11 , G03F7/09 , H01L21/027 , H01L21/033
Abstract: 本公开是有关于一种聚合物、包含所述聚合物的有机膜组成物以及使用所述有机膜组成物形成图案的方法,其中所述聚合物包括由化学式1表示的结构单元、以及由化学式2或3表示的结构单元。化学式1至3的定义与在说明书中的描述相同。[化学式1] [化学式2] [化学式3]
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公开(公告)号:CN106243326A
公开(公告)日:2016-12-21
申请号:CN201610393116.5
申请日:2016-06-06
Applicant: 三星SDI株式会社
CPC classification number: G03F7/091 , C08G10/00 , C08G12/00 , C08G16/00 , C08G61/122 , C08G61/124 , C08G61/125 , C08G61/126 , C08G2261/12 , C08G2261/3142 , C08G2261/3241 , C08G2261/3243 , C08G2261/3245 , C08G2261/3246 , C08G2261/3424 , C08G2261/344 , C09D161/00 , C09D161/18 , C09D161/20 , C09D165/00 , G03F7/0752 , G03F7/094 , C08G61/123 , C08G2261/314 , C08G2261/354 , G03F7/20
Abstract: 本发明提供一种包含由化学式1表示的结构单元的聚合物和包含所述聚合物的有机层组成物。[化学式1] 所述化学式1与具体实施方式中所定义的相同。
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公开(公告)号:CN106046696A
公开(公告)日:2016-10-26
申请号:CN201510919487.8
申请日:2015-12-11
Applicant: 三星SDI株式会社
CPC classification number: C08G73/0672 , G03F7/0041 , G03F7/0752 , G03F7/091 , G03F7/094 , H01L51/0018
Abstract: 一种有机层组合物包含:包含由化学式1表示的部分的聚合物、由化学式2表示的单体以及溶剂,还提供一种由所述有机层组合物制造的有机层,和一种使用所述有机层组合物形成图案的方法。所述有机层组合物可以提供同时确保耐蚀刻性、耐热性以及平坦化特征的有机层。化学式1和化学式2的定义与具体实施方式中相同。[化学式1][化学式2]。
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公开(公告)号:CN105884685A
公开(公告)日:2016-08-24
申请号:CN201511020947.X
申请日:2015-12-30
Applicant: 三星SDI株式会社
IPC: C07D215/14 , C07C39/12 , C07D311/58 , C07C39/14 , G03F7/16
Abstract: 本发明公开一种单体、包含所述单体的有机层组合物、由所述有机层组合物制成的有机层以及使用所述有机层组合物形成图案的方法。本发明的单体由化学式1表示,化学式1与具体实施方式中所定义的相同。该单体具有改善的耐蚀刻性和溶解性特征,因此适用于旋涂法。
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公开(公告)号:CN111352300B
公开(公告)日:2023-07-25
申请号:CN201911326113.X
申请日:2019-12-20
Applicant: 三星SDI株式会社
Abstract: 本发明提供一种硬掩模组合物、硬掩模层及形成图案的方法。硬掩模组合物包含由化学式1表示的化合物和溶剂:[化学式1]在化学式1中,A、B以及n的定义与详细描述中描述的相同。本发明的硬掩模组合物及硬掩模层具有改进的耐蚀刻性和耐化学性。
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公开(公告)号:CN116430672A
公开(公告)日:2023-07-14
申请号:CN202211466675.6
申请日:2022-11-22
Applicant: 三星SDI株式会社
Abstract: 本发明提供一种硬掩模组合物、一种由硬掩模组合物制造的硬掩模层以及一种由硬掩模组合物形成图案的方法,所述硬掩模组合物包含聚合物和溶剂,所述聚合物包含由化学式1表示的结构单元,其中,化学式1的定义如本说明书中所描述。[化学式1]
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公开(公告)号:CN110734528B
公开(公告)日:2022-07-05
申请号:CN201910644580.0
申请日:2019-07-17
Applicant: 三星SDI株式会社
Abstract: 本申请公开一种包含由化学式1表示的第一化合物与由化学式2表示的第二化合物的反应产物的聚合物、包含聚合物的有机层组合物以及使用有机层组合物形成图案的方法。根据本发明的有机膜组合物在通过旋涂方法施加时可具有改进的平坦化特征和间隙填充特征,同时确保耐蚀刻性。[化学式1](CHO)n1‑Ar1‑X‑Ar2‑(CHO)n2[化学式2]Ar3‑(OH)m化学式1及化学式2的定义与在说明书中的描述相同。
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公开(公告)号:CN105093833B
公开(公告)日:2019-09-06
申请号:CN201510046738.6
申请日:2015-01-29
Applicant: 三星SDI株式会社
Abstract: 本发明提供了一种硬掩模组合物和使用所述硬掩模组合物形成图案的方法,所述硬掩模组合物包括聚合物和溶剂,所述聚合物包含由以下化学式1表示的部分。本发明的硬掩模组合物能满足耐蚀刻性,同时确保对于溶剂的可溶性、间隙填充特征以及平面化特征。[化学式1]在以上化学式1中,M1、M2、a以及b与具体实施方式中所定义相同。
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